「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

To realize precision and efficient manufacture of a photospacer of a photospacer type color liquid crystal display device by patterning and forming the photospacer in a stage of forming the respective filter colored pattern layers of R, G, B, etc.例文帳に追加

フォトスペーサー型カラー液晶表示装置におけるフォトスペーサーを、Ｒ、Ｇ、Ｂ等の各フィルタ着色パターン層の形成工程中にてパターン形成できるようにすることによって、フォトスペーサーの精度と効率的な作製を実現することにある。 - 特許庁

To provide a multiple patterning multilayer wiring board which can mount electronic elements precisely and surely on each wiring board area by preventing first propagation of a crack occurred at a tip of dividing grooves of the mother substrate to an outer edge of the mother substrate and following propagation of the crack to wiring board areas.例文帳に追加

母基板の分割溝の先端に発生した割れがまず母基板の外辺にまで進行し、続いて配線基板領域にも進行するため、各配線基板領域に電子素子を正確、且つ確実に搭載するのが不可能となる。 - 特許庁

To provide a liquid drop ejector in which flushing can be carried out without damaging the productivity, and without having any adverse effect on film deposition or patterning while protecting the liquid drop ejector against contamination and its driving method, system and method for depositing a film, and the like.例文帳に追加

生産性を損なうことなく、しかも製膜やパターニングに悪影響を及ぼしたり、装置を汚したりすることが防止されたフラッシングを可能とする、液滴吐出装置とその駆動方法、製膜装置と製膜方法などを提供する。 - 特許庁

It enables manufacturing an imprint mold having two or more level differences without repeated coating of a photosensitive resin onto a board having level differences by carrying out two or more patterning procedures on a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明の構成によれば、感光性樹脂に対して複数回のパターニングを行うことにより、段差形状になった基板に再度感光性樹脂を塗布することなく、複数の段差構造を備えたインプリントモールドを製造することが出来る。 - 特許庁

An insulating film 22 is deposited on the substrate 10 so as to cover the lower electrode 12 and the sacrificial layer 21, then, by patterning the insulating film 22 like a belt from below to above the sacrificial layer 21, a bridge type structural body 14 is formed.例文帳に追加

下部電極１２および犠牲層２１を覆う状態で、基板１０上に絶縁膜２２を成膜し、この絶縁膜２２を犠牲層２１の下部から上部にわたる帯状にパターニングすることで、ブリッジ形状の構造体１４を形成する。 - 特許庁

A double treatment technology to manufacture a device that includes the execution of a first patterning step for forming an opening in a resist layer, then the opening is filled before a first resist layer is exfoliated and is replaced with a second resist layer used for a second exposure is disclosed.例文帳に追加

レジスト層に開口を形成する第一パターニングステップを実行することを含み、第一レジスト層が剥離され、第二露光に使用される第二レジスト層で置換される前に、開口が充填される、デバイス製造の二重処理技術が開示される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element that is capable of forming an organic EL layer in high precision by a photolithography method or the like and also capable of patterning in high precision the second electrode layer that is formed on the organic EL layer by a vapor deposition method.例文帳に追加

有機ＥＬ層をフォトリソグラフィー法等により高精細に形成し、かつ有機ＥＬ層上に蒸着法で形成する第２電極層も高精細にパターニングすることが可能なＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition, which can cope with highly precise patterning by correcting nonuniformity such as a temperature change and a temperature distribution due to an effect of radiant heat, in order to remove the adverse effect of the radiant heat on pattern location accuracy.例文帳に追加

蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除すべく、その輻射熱の影響による温度変化や温度分布等の不均一化を是正して、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁

To provide a layered product for forming a substrate having interconnections, and to provide a low resistance wiring structure which exhibits high patterning performance, productivity or moisture resistance and heat resistance and does not have a tendency to generate hillock in an organic EL panel using that layered product.例文帳に追加

配線付き基体形成用の積層体及びこの積層体を用いた有機ＥＬパネルにおいて、低抵抗でヒロックが発生しにくく、また、パターニング性能，生産性あるいは耐湿性及び耐熱性の高い配線構造を提供する。 - 特許庁

The layers 8 are subjected to peeling treatment to form metal conductor layers 9 in the holes 7 through electrolytic plating, the conductor layers 5 on both surfaces of the tape 11 are treated by patterning to form pad electrodes 5a and wiring patterns 5b on the upper and lower surfaces of the tape 11, and a film carrier is obtained.例文帳に追加

保護層８を剥離処理して、電解めっきにより導通孔７内に金属導体９を形成し、両面の導体層５をパターニング処理してパッド電極５ａ及び配線パターン５ｂを形成して、フィルムキャリアを得る。 - 特許庁

In the inkjet recording method, an initial speed of discharged ink droplets is 3 m/sec to 16 m/sec in the case of patterning a building material 70 using an inkjet recorder 1, and a carrying process and an inkjet recording process are included.例文帳に追加

インクジェット記録装置１を用いて建築材７０を模様付けする場合において、吐出されたインク滴の初速が３ｍ／ｓｅｃ〜１６ｍ／ｓｅｃであるインクジェット記録方法であって、搬送工程と、インクジェット記録工程とを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system for supplying a beam of radiation, a patterning system serving unit to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。 - 特許庁

To provide a method for producing artificial marble which can disperse/knead/mix a large granule patterning material uniformly into a resin composition for molding the artificial marble and can fit a high design pattern having a high-grade feel or a granite pattern to the artificial marble without lowering the strength of a product.例文帳に追加

人造大理石成形用樹脂組成物に大粒柄材を均一に分散混練配合でき、しかも製品強度を低下させることなく高級感のある高意匠柄あるいはグラニット柄の人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

The transmission information printed at the lower part of the receipt 3 and to be displayed after release of the receipt is formed by skipping a printing process to a base material sheet 10 by patterning of an adhesive layer 7 to be used for pasting the receipt.例文帳に追加

本発明は、受領票３下部に記載された受領票剥離後に表示される伝達情報を、受領票貼り付けに使用する接着層７をパターニングすることにより、基材シート１０への印刷工程を省略して形成する。 - 特許庁

After the patterning, a side wall 305 is formed on the side surface of the core material film so that the side surfaces of the removal scheduled portion and the residual portion are covered by the side wall, and the interval of the predetermined distance between the residual portion and the scheduled portion is blocked by the side wall.例文帳に追加

パターニングの後に芯材膜の側面に側壁305を形成して除去予定部分および残存部分の側面を側壁で覆うとともに残存部分と除去予定部分との間の所定距離の間隙を側壁で閉塞する。 - 特許庁

Finally, a TFT(thin-film transistor) is manufactured by forming an island-like silicon film by performing patterning through the use of the crystalline silicon film 304 as an active layer and forming a gate electrode on the island-like silicon film, and then implanting an N-type impurity into the crystalline island-like silicon film by an ion doping method.例文帳に追加

この結晶性珪素膜を活性層とし、パターニングし島上珪素膜を作製しこの上にゲート電極をつけ、前記結晶性を有する島状珪素膜にイオンドーピング法でN型不純物をいれＴＦＴを作製した。 - 特許庁

By a sample which is determined as a superior product by a destruction inspection, the standard value of a step height of a projection part of a embedding formed film 49 in correspondence to a groove width L1 and a depth D of a monitor patterning groove 42a and a film thickness t of the embedding formed film 49 is set.例文帳に追加

破壊検査により良品と判定された試料により、モニタパターン用の溝４２ａの溝幅Ｌ_1 ，深さＤと埋め込み成膜４９の膜厚ｔとに応じた埋め込み成膜４９凸部のステップ高さを標準値を設定する。 - 特許庁

Protrusion layers 12 each of which is to be a portion of a spacer are formed on a color filter layer 11 by patterning the translucent material disposed on the color filter layer 11 while leaving the translucent material 11E disposed in the insides of the aperture parts HR, HG and HB.例文帳に追加

そして、開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ内に配置された透光性材料１１Ｅを残しつつ、カラーフィルタ１１上に配置された透光性材料をパターニングして、このカラーフィルタ１１上にスペーサの一部となる突起層１２を形成する。 - 特許庁

Paints 4, 5 are sprayed on the washing place molded from FRP comprising SMC in a granular state under a low atomizing pressure to apply a patterning coating to the washing place and the coated washing place is coated with a transparent layer to which resin beads 6 are added to manufacture the patterned washing place.例文帳に追加

ＳＭＣからなるＦＲＰの洗い場において、少なくとも霧化圧を低下させ塗料４、５を粒子状に噴霧することにより模様塗装を施し、樹脂ビーズ６を添加した透明層でコートして模様付き洗い場とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can manufacture a poly crystalline silicon TFT array substrate high in reliability without generating defective displays, such as point defect by preventing the deviation of patterning resulting from thermal expansion or shrinkage of a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の熱膨張あるいは収縮に起因したパターニングのずれを防止し、点欠陥等の表示不良を生じることのない信頼性の高い多結晶シリコンＴＦＴアレイ基板を製造可能な製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a printing plate capable of achieving excellent display characteristics free from printing failures such as a color mixture during patterning of an organic luminous layer of an organic electroluminescent element, and to provide an organic electroluminescent element.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光層をパターニング形成する場合において、混色等の印刷不良がなく、良好な表示特性を実現可能な印刷版および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とする - 特許庁

To provide a high registration mask substrate, an exposure device and a patterning method using them capable of accurately measuring the deformation degree of the mask substrate by providing a detecting means for detecting the deformation degree of the mask substrate on the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板上にマスク基板の変形度を検知する検知手段を設けたことにより、正確なマスク基板の変形度が測定でき、合わせ精度の高いマスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste capable of ensuring excellent patterning property of lines without the effects of pattern forming conditions and even under severe developing conditions including a long developing time or the like, and to provide a baked object pattern formed by using the photosensitive paste.例文帳に追加

パターンの形成条件に影響されること無く，しかも現像時間が長いなどの厳しい現像条件であっても，優れたラインのパターニング性を確保し得る感光性ペースト、及びそれを用いて形成した焼成物パターンを提供すること。 - 特許庁

At the time of exposing a drain electrode constituting the laminate structure of a metallic film in a lower layer and an aluminum film in an upper layer, the exposure of only a partial region is changed, a region whose resist thickness is thinner than the other region is formed, then patterning is carried out as usual.例文帳に追加

下層の金属膜と上層のアルミ膜の積層構造をなすドレイン電極の露光時に一部領域のみ露光量を変えることによりレジスト厚が他よりも薄い領域を形成した後に、通常どおりのパターニングを行う。 - 特許庁

To form a switching device by surely and easily forming wiring on a plastic board through patterning, and to provide a method of forming a liquid crystal display device electrode capable of coping with color moving images and a method of manufacturing a liquid crystal display device.例文帳に追加

プラスチック基板上に、容易かつ確実に配線のパターニングを行うことによって、スイッチング素子を形成し、カラー動画に対応し得る液晶表示装置電極の形成方法、液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The electron beam lithography method comprising the steps of: forming a substrate and the mask blanks having a light-shielding film; applying a resist on the mask blanks; and patterning by using a first and a second terminal respectively having different shapes for the grounding of the mask blanks.例文帳に追加

基板及び遮光膜を有するマスクブランクスを形成し、マスクブランクス上にレジストを塗布形成し、形状の異なる第１及び第２端子をマスクブランクスの接地に用いてパターニングを行うことを特徴とする電子線描画方法。 - 特許庁

To provide an accurate and efficient method of manufacturing a resin sheet with color filter by which the position of patterning is prevented from deviating in lamination of the color filter and to provide a resin sheet with color filter.例文帳に追加

カラーフィルター付き樹脂シートの製造方法において、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、およびカラーフィルター付き樹脂シートを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring substrate effectively suppressed in occurrence of warpage and penetration of water into space between insulating layers and a method of manufacturing the same, and to provide a wiring substrate suppressed in occurrence of warpage and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

反りの発生および絶縁層の層間への水分の浸入が効果的に抑制された多数個取り配線基板およびその製造方法、ならびに反りの発生が抑制された配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

When etching a first inter-layer dielectric film 9, a XeF2 gas is used; when patterning a bit line 10 composed of a silicide film, a BrF3 is used; and when forming a storage node 12 composed of a polysilicon film, a BrCl gas is used.例文帳に追加

シリコン酸化膜からなる第１層間絶縁膜９をエッチングする際にはＸｅＦ2 ガスを、シリサイド膜からなるビット線１０をパターニングする際にはＢｒＦ3 ガスを、ポリシリコン膜からなるストレージノード１２を形成する際には、ＢｒＣｌガスを用いる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition in which, even when it is influenced by heat, and its intra-plane temperature distribution is made uneven, the adverse influence by the unevenness of the temperature distribution can be eliminated as possible, and which can correspond to patterning with high precision.例文帳に追加

蒸着用マスクが熱の影響を受けてその面内温度分布が不均一になる場合であっても、その温度分布の不均一さによる悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁

To provide a dyeing method for twill woven fabric, comprising making a patterning with variations between twill design texture and ground texture for expressing stereoscopic pattern, in particular enabling dyeing in unconventionally highly novel hue and feeling.例文帳に追加

柄の立体をだす紋意匠織と地組織との変化で柄だしする紋織物に対する染色方法に関するものであり、特に、従来にない極めて斬新な色合い並びに風合いに染色し得る紋織物に対する染色方法を提供すること。 - 特許庁

On the cut surface of the bar including the medium opposing surface 30, a resist solution is applied to form a resist layer 21, a mask is formed by patterning this resist layer 21, and a magnetic pole part is machined and formed by etching using this mask.例文帳に追加

そして、バーにおける媒体対向面３０を含む切断面に、レジスト溶液を塗布してレジスト層２１を形成し、このレジスト層２１をパターニングしてマスクを形成し、このマスクを用いたエッチングによって磁極部分を加工、形成する。 - 特許庁

The patterning roller forms a cylindrical base surface as the outer reference surface for pattern formation, a plurality of washer-like projecting rows parallel to the circumference of the reference surface, and circular arc projections partially covering the groove parts interposed between the projecting rows.例文帳に追加

模様付けローラーにあっては、模様形成外囲基準面としての円柱状基面とこの基面への円周方向に平行な複数の座金状凸条と凸条間に挟まれた溝部分を部分的に覆う円弧状突起を形成する。 - 特許庁

Also, in the formation process of the protection film 31, the protection film 31 is formed so that the side face 27 of the pattern of the functional films 28 and 29 formed by the patterning process by wet etching can be covered with the formed protection film 31.例文帳に追加

また、保護膜３１の形成工程では、ウエットエッチングによるパターニング工程において、パターニングによって形成された機能膜２８，２９のパターンの側面２７が、形成した保護膜３１によって覆われるように、保護膜３１を形成する。 - 特許庁

Sprocket holes 3 and conductor layers 5 are respectively formed at both ends of an insulating film tape 11 with adhesive layers and on both surfaces of the tape 11 along the longitudinal directions of both ends of the tape 11, the layer 5 on one side of the tape 11 is treated by patterning, and apertures 6 are formed in the prescribed positions on the layer 5.例文帳に追加

接着層付絶縁フィルムテープ１１の両端の長手方向に沿ってスプロケットホール３及び導体層５を形成し、片面の導体層５をパターニング処理して、導体層５の所定位置に開口部６を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive film for which, a thermal treatment at high temperature in the case of forming the transparent conductive film on a substrate is unnecessary, which can be formed on a plastic substrate with low thermal resistance, capable of simply and quickly patterning on demand.例文帳に追加

基板上に透明導電膜を形成する場合の高温での熱処理を不要とし、耐熱性の低いプラスチック基板にも形成でき、しかも簡易・迅速にオンデマンドのパターニングが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

Here, the horizontal alignment layer 42 forms an alignment layer material layer (photoresist) 42a on the side of the pixel electrode 9 of a precursor 10B, rubbing treatment is applied to it, the shielding film 13 is used a mask to be exposed and developed, and the horizontal alignment layer 42 is formed by patterning.例文帳に追加

ここで水平配向膜４２は、前駆体１０Ｂの画素電極９側に配向膜材料層（フォトレジスト）４２ａを形成し、これにラビング処理し、遮光膜１３をマスクにして露光、現像し、水平配向膜４２をパターニングして形成する。 - 特許庁

On a wiring material lamination layer 12, a first insulating film 13 and a second insulating film 14 whose etching selectivity is different from that of the first insulating film 13 are formed into specified thickness, respectively, as hard masks for improving patterning accuracy (Fig. 1 (a)).例文帳に追加

配線材料積層１２上にパターニング精度向上のためのハードマスク用として第１絶縁膜１３、さらにこの第１絶縁膜１３とはエッチング選択比の異なる第２絶縁膜１４を所定厚さ分だけ形成する（図１（ａ））。 - 特許庁

This method for patterning the thin film consists in spraying an etching liquid ETL at a low flow rate from a direction approximately perpendicular to a liquid crystal panel substrate SUB1 formed by coating the conductive thin film with a resist mask of prescribed opening patterns while rotating the liquid crystal panel substrate at a high speed.例文帳に追加

導電性薄膜を所定の開口パターンのレジストマスクで被覆した液晶パネル基板ＳＵＢ１を高速回転させながら当該液晶パネル基板に対して略直角な方向からエッチング液ＥＴＬを低流量スプレーする。 - 特許庁

In this way, since the first insulating film 2 can be etched with patterning accuracy of the resist 5 for KrF/ArF, the first insulating film 2 and the second insulating film having different film thicknesses can be separately formed on the substrate 1 while keeping high accuracy.例文帳に追加

これにより、ＫｒＦ／ＡｒＦ用レジスト５のパターニング精度で第１の絶縁膜２をエッチングすることができるため、膜厚の異なる第１の絶縁膜２と第２の絶縁膜を基板１上に精度良く作り分けることが可能になる。 - 特許庁

A wet-etching process is carried out for the residual substances 80, such as a heavy compound generated when patterning a second structure layer made of resin by an O_2 etching process together with a removal layer 93 located above a first structure layer 51 serving as an actuator structure 33.例文帳に追加

Ｏ_2エッチングにより樹脂製の第２の構造層をパターニングした際に発生する重化合物などの残渣８０を、アクチュエータ構造３３となる第１の構造層５１の上方に位置する除去層９３と共にウェットエッチングする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head, with which patterning accuracy, a sputtering film deposition distribution and/or an etching distribution can be improved, a wafer suction defect in a vacuum chuck or electrostatic chuck can be prevented, and a yield can be improved.例文帳に追加

パターニング精度、スパッタ成膜分布及び／又はエッチング分布を向上させ、さらに、真空チャック又は静電チャックにおけるウエハの吸着不良を防止でき、歩留り改善を可能とする薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

A shadow mask whose thickness is 500 μm or smaller and three times or less the minimum width of a mask portion and which is mounted on a frame having a plurality of opening portions existing therein is used for patterning at least one of a luminous layer and a second electrode.例文帳に追加

厚さが５００μｍ以下で、かつ、マスク部分の幅の最小寸法の３倍以下であり、複数個の開口部が存在するフレームに取り付けられたシャドーマスクを用いて発光層もしくは第二電極の少なくとも一方をパターニングする。 - 特許庁

To provide a patterning substrate for cell culture where cells are allowed to adhere to the substrate in a high definition pattern and provide a cell culture substrate by allowing cells to adhere to the substrate in a high definition pattern.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The antenna system includes antenna parts formed by applying patterning to a conductor pattern to a printed circuit board and dielectric parts laminated on the antenna parts, and the dielectric part is characterized in being laminated with thickness in a direction wherein the directivity is provided thicker than the thickness in other directions.例文帳に追加

プリント配線板に導体パターンがパターンニングされたアンテナ部と、アンテナ部に積層された誘電体部とを有し、誘電体部はアンテナ部の指向性を持たせる方向に他の方向より厚く積層されていることを特徴とする。 - 特許庁