「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(66ページ目) - Weblio英語例文検索

A system and method for patterning a master disk or "stamper" to be used for nanoimprinting magnetic recording disks uses an air-bearing slider 30 that supports an aperture structure 50 within the optical near-field of a resist layer 11 on a rotating master disk substrate 10.例文帳に追加

磁気記録ディスクをナノインプリントするために用いられるマスタ・ディスクすなわちスタンパをパターン化するためのシステム及び方法において、回転するマスタ・ディスク基板１０上のレジスト層１１の光近接領域内に開口構造５０を支持する空気軸受けスライダー３０が用いられる。 - 特許庁

This manufacturing method of the wiring board comprises the steps of forming a wiring pattern 20 by patterning a conductive layer 12 formed on the surface of a base board 10, and forming holes 30 in the base board 10 by etching the portions exposed from the wiring pattern 20 on the surface of the base board 10.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、ベース基板１０の表面に形成された導電層１２をパターニングして配線パターン２０を形成すること、及び、ベース基板１０の表面における配線パターン２０からの露出部をエッチングしてベース基板１０に穴３０を形成することを含む。 - 特許庁

A conductive film 112 as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain electrode 118, a source region 115, a drain region 116 and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation (Fig. (D)).例文帳に追加

画素電極となる導電膜１１２を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、チャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁

To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.例文帳に追加

大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁

At this time, after all steps for the thin film transistor array and the color filter are completed, a gate pad and a data pad to be formed at respective one ends of the gate wiring and the data wiring are exposed so that the gate pad or the data pad is not exposed to the chemicals for patterning the color filter.例文帳に追加

この時、前記ゲート配線及びデータ配線の一端に形成するゲートパッドまたはデータパッドが前記カラーフィルターをパターニングする薬液によって露出しないように、薄膜トランジスタアレイ及びカラーフィルター工程をすべて完了した後、最後の工程で前記ゲートパッド及びデータパッドを露出する。 - 特許庁

By irradiating ultraviolet rays on a region of the wetted variable film 30 overlapped with the pixel electrodes 21, patterning is carried out on lyophilic regions 22a and liquid-repellent regions 22b and liquid containing an organic compound is coated on the lyophilic region 22a to form an electroluminescent layer 23.例文帳に追加

濡れ性可変膜３０のうち画素電極２１に重なった領域に紫外線を照射することにより、親液性領域２２ａと撥液性領域２２ｂにパターニングし、親液性領域２２ａに有機化合物含有液を塗布して、エレクトロルミネセンス層２３を形成する。 - 特許庁

The gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor, constituting a peripheral circuit in a logical operation circuit area by patterning the first conductive layer in the logical operation circuit area, is formed while a dummy gate electrode is formed above the element separating area in the logical operation circuit area.例文帳に追加

ロジック回路領域内の第１導電層をパターニングしてロジック回路領域内に周辺回路を構成する絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成するとともに、ロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート電極を形成する。 - 特許庁

In manufacturing semiconductor device where upper metallic wiring and a lower conductive layer are coupled witch each other by a via, plasmaless ozone ashing is performed to prevent charges from being accumulated on the surface of a metallic plug where the above via is buried after patterning the above upper metallic wiring.例文帳に追加

上部金属配線と下部導電層とをビアに連結する半導体装置の製造方法において、前記上部金属配線をパターニングした後、前記ビアを埋め込んでいる金属プラグの表面に電荷が蓄積されることを防止するために無プラズマ（plasmaless）オゾンアッシングを実施する。 - 特許庁

In the patterning method of a substrate for the display element having a gas barrier layer formed of at least one organic region and at least one inorganic region, wet etching is carried out, and for the etching, etching liquid of weak acid or weak base is used.例文帳に追加

少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とからなるガスバリア層を有する表示素子用基板のパターニング方法であって、ウェットエッチングを行い、かつ、該エッチングに、弱酸または弱塩基のエッチング液を用いることを特徴とする表示素子用基板のパターニング方法。 - 特許庁

After an ONO film is sandwiched to deposit two polysilicon films, patterning is performed, a memory gate electrode 8 comprising a floating gate electrode 5, an inter-electrode insulation film 6 and a control gate electrode 7 is formed on a tunnel insulation film 4, and a selection gate electrode part 18 is formed sideward thereof.例文帳に追加

ＯＮＯ膜を挟んで２つのポリシリコン膜を堆積した後、パターニングして、トンネル絶縁膜４の上に、フローティングゲート電極５，電極間絶縁膜６及びコントロールゲート電極７からなるメモリゲート電極８を形成するとともに、その側方にセレクトゲート電極部１８を形成する。 - 特許庁

Accordingly, a thin resist film can be formed at the time of patterning the upper electrode, an increase (with gradual sloping) in the tapering angle of the upper electrode among the capacitance elements can be controlled by the control of a CD shift, and thereby an improvement in machining accuracy and fine processing can also be attained.例文帳に追加

これにより上部電極をパターニングする際のレジスト膜厚を薄膜化でき、ＣＤシフトの抑制により、容量素子間の上部電極のテーパー角度が大きく（傾斜が緩やかに）なることを抑制し、加工精度の向上や微細加工を実現することができる。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which is free of a problem of pattern precision in patterning or a problem of color unevenness or color absence on a surface when not only a colored layer formed of ink using dye, but also a colored layer of ink using, especially, pigment is formed.例文帳に追加

染料を用いたインクからなる着色層のみならず、特に顔料を用いたインクにより着色層を形成しても、パターニング時にパターン精度に問題が発生しない、あるいは着色層の面内の色ムラや色抜けの問題が生じないカラーフィルタ基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board, wherein, in a board for multiple patterning of a printed wiring board, an alignment mark prepared on each printed wiring board is recognized by using a recognition camera to adjust a processing position in units of printed wiring boards.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法は、プリント配線板の多数個取り用の基板で、各プリント配線板にそれぞれに設けられたアライメントマークを認識用カメラで認識して各プリント配線板単位で加工位置の調整をそれぞれ行うプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a mask for patterning with which a preliminarily determined pattern such as a grating or circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a film forming device using the mask.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状や環状などの所定のパターンの形成を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成用マスク、及び該マスクを用いた成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a conductive composition capable of having both transparency and conductivity even after patterning by developing, a transparent conductive film excellent in solvent resistance, water resistance, alkali resistance or the like, using the composition, a display element using the transparent conductive film, and an accumulated type solar cell.例文帳に追加

現像によるパターニング後でも透明性及び導電性が両立可能な導電性組成物、並びに該組成物を用いた耐溶剤性、耐水性、耐アルカリ性等に優れた透明導電膜、該透明導電膜を用いた表示素子、及び集積型太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a method for patterning in microfabrication of a thin film formed of zinc oxide crystal without generating significant deterioration of conductive characteristics and visible light permeability by suppressing resolution of the thin film formed of the zinc oxide crystal in any process of development and photoresist peeling.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which dispenses with a patterning process of a lanthanum oxide film, relating to the semiconductor device in which a high-K gate insulating film is constituted by laminating a high-K dielectric film and a lanthanum oxide film, in an n-channel MOS transistor.例文帳に追加

ｎチャネルＭＯＳトランジスタにおいてｈｉｇｈ−Ｋゲート絶縁膜をｈｉｇｈ−Ｋ誘電体膜と酸化ランタン膜の積層により構成した半導体装置において、酸化ランタン膜のパターニングプロセスを不要とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which can form a photosensitive resin layer having excellent developability, resolution and adhesiveness after patterning, a photosensitive dry film which has a photosensitive resin layer comprising the composition, and a light receiving device having a spacer that is obtained by curing the composition.例文帳に追加

現像性、解像性、パターニング後の接着性に優れた感光性樹脂層を形成可能なネガ型感光性樹脂組成物、その組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性ドライフィルム、及びその組成物が硬化したスペーサを備える受光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an active energy ray curable resin composition having superior heat resistance and being capable of patterning with a dilute aqueous alkaline solution, using a normal organic solvent as a solvent, and reducing a development residue in alkali development.例文帳に追加

本発明の課題は、優れた耐熱性を有し、かつ、希アルカリ水溶液でのパターニングが可能で、しかも、溶剤として通常の有機溶剤を使用することもでき、さらに、アルカリ現像時の現像残渣を低減することが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The photosensitive adhesive composition 1a has a thermocompression bonding property to an adherend after patterning by exposure and development, is developable with an alkali and has an elastic storage modulus of ≥10 MPa at 110°C after exposure and thermal curing.例文帳に追加

露光及び現像によってパターニングされた後に被着体に対する熱圧着性を有し且つアルカリ現像が可能な感光性接着剤組成物１ａであって、露光後、更に加熱硬化された後の１１０℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以上である、感光性接着剤組成物。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring substrate where a short circuit etc. resulted on a pattern of a lower layer is eliminated by making a pin-shaped checking probe go through a check land of the multilayer printed wiring substrate, a multilayer printed wiring substrate patterning method, and an inspection apparatus using the check land.例文帳に追加

ピン状のチェック用のプローブが多層プリント配線基板のチェックランドを貫通することで下層のパターンで生ずるショート等を除去する様にした多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置を得る。 - 特許庁

To deal with the exposure for patterning where micro patterns with different pitches coexist closely and to accurately form micro patterns at enough production process margin without using a photo mask such as Levenson-type phase shift mask that has a complicated production process and is high in manufacturing cost.例文帳に追加

ピッチの異なる微細なパターンが近接して混在するパターニングを行うための露光にも対応し、レベンソン型位相シフトマスクの如き製造プロセスが煩雑で製造コストの高いフォトマスクを用いることなく、十分な製造プロセスマージンで微細なパターンを精度良く形成する。 - 特許庁

The plasma display panel provided with an upper panel and a lower panel facing each other with barrier ribs in between is composed of a first dielectric layer formed on the upper panel and a second dielectric layer which is formed on the above first dielectric layer by patterning and contains black pigment.例文帳に追加

隔壁を介して相対向する上部パネルと下部パネルを備えるプラズマディスプレイパネルにおいて、上部パネルに形成された第１誘電体層と、前記第１誘電体層上にパターニングされて形成され、ブラック顔料が含まれた第２誘電体層と、を備える構成とした。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices further includes a step of manufacturing the thickened resist patterns by forming the resist patterns on an underlayer and then applying the thickening material on the surfaces of the resist patterns thereby thickening the resist patterns, and a step of patterning the underlayer by etching using the thickened resist patterns.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The lithographic method includes using an illumination system to provide a radiation beam having an illumination mode, using a patterning device to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, and projecting the patterned radiation beam onto a plurality of substrates.例文帳に追加

リソグラフィ方法が提供され、同方法は、照明システムを使用して照明モードを有する放射ビームを供給すること、パターニングデバイスを使用して放射ビームに断面においてパターンを与えること、複数の基板上に前記パターニングされた放射ビームを投影すること、を含む。 - 特許庁

A metal patterning method includes a step for forming a photocrosslinking resin layer on a substrate, a step for thinning the photocrosslinking resin layer with an alkaline aqueous solution containing an organic alkaline compound, and exposure, development and etching steps of a circuit pattern in this order.例文帳に追加

基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、有機アルカリ性化合物を含有してなるアルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理する工程、回路パターンの露光、現像、エッチング処理をこの順に含むことを特徴とする金属パターンの作製方法。 - 特許庁

To provide a color filter substrate capable of enhancing contrast, color reproducibility and patterning property by providing tapers having a plurality of angles in the identical layer, to provide its manufacturing method and to provide an electrooptical device and an electronic device using the color filter substrate.例文帳に追加

本発明は、同一層内において複数の角度を有するテーパーを設け、コントラスト、色再現性及びパターニング性の向上を図ることのできるカラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびに上記カラーフィルタ基板を用いた電気光学装置ならびに電子機器を提供することを目的とする。 - 特許庁

A sacrifice film having a film thickness not to influence photolithography in patterning is formed on the gate electrode material, the sacrifice film is patterned by etching, and the gate electrode material is patterned by using the patterned sacrifice film 8a for a mask to form gate electrodes 11 and 12.例文帳に追加

パターニング時におけるフォトリソグラフィに影響を与えない膜厚を有する犠牲膜をゲート電極材料上に形成し、エッチングにより犠牲膜をパターニングするとともに、パターニングされた犠牲膜８ａをマスクに用いてゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１１，１２を形成する。 - 特許庁

To provide an optical wave guide element of a high characteristic with a patterned epitaxial oxide thin film optical wave guide, and to provide a manufacturing method capable of conducting precisely patterning for the optical wave guide element with excellent productivity.例文帳に追加

高い特性を有し、パターニングされたエピタキシャル酸化物薄膜光導波路を備えた光導波路素子を提供すること、また前記の光導波路素子のパターニングを精度よくまた生産性よく行うことができる光導波路素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Also, a method for manufacturing the surface acoustic wave device 1 includes the steps of applying a resist R3 onto the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13, and patterning the resist R3 to cover at least a portion connecting the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13.例文帳に追加

また、本発明に係る弾性表面波装置１の製造方法は、ＩＤＴ電極９及び接続配線１３上にレジストＲ３を塗布し、ＩＤＴ電極９と接続配線１３との接続部分を少なくとも覆うようにレジストＲ３をパターニングする工程を含む。 - 特許庁

After removing the ion implantation mask pattern, a transfer gate electrode, an NMOS gate electrode, and a PMOS gate electrode are formed on a semiconductor substrate in a pixel region, on that of the NMOS region, and on that of the PMOS region, respectively, by patterning the polysilicon film.例文帳に追加

イオン注入マスクパターンを除去した後にポリシリコン膜をパターニングして画素領域の半導体基板上に転送ゲート電極、ＮＭＯＳ領域の半導体基板上にＮＭＯＳゲート電極及びＰＭＯＳ領域の半導体基板上にＰＭＯＳゲート電極を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal electrode, that can substantially remove edge-curls to the extent where no effect of edge-curls remains, in patterning by photolithography such a metal electrode as a bus electrode and a data electrode constituting a display panel, starting with a PDP.例文帳に追加

ＰＤＰを初めとする表示パネルを構成するバス電極及びデータ電極などの金属電極をフォトリソグラフィー法でパターニングする場合にエッジカールの影響がない程度にまで実質的にエッジカールを解消することのできる金属電極の作製方法を提供すること。 - 特許庁

Patterning of a resin layer 102 to be a spacer layer 12 sandwiched between a top electrode layer 11 comprising a pair of right and left top electrodes 11a, 11b and a bottom electrode layer 13 comprising a bottom electrode 13a is performed, to form liquid-medium holding spaces 14a of liquid holding cavities.例文帳に追加

左右一対の上部電極１１ａ，１１ｂを含む上部電極層１１と下部電極１３ａを含む下部電極層１３とで挟まれたスペーサー層１２となる樹脂層１０２をパターニングして液体収容キャビティーの液媒収容空間１４ａを形成する。 - 特許庁

A word line structure 124 is formed by patterning the electrically conductive film 108, and a blocking film pattern 126 and a charge trapping film pattern 128 are formed by etching the blocking film 106 and the charge trapping film 104 respectively using an acidic solution as an etchant.例文帳に追加

ワードライン構造物１２４は、導電膜１０８をパターニングすることによって形成され、ブロッキング膜パターン１２６及び電荷トラッピング膜パターン１２８は、酸性溶液をエッチング液に用いてブロッキング膜１０６及び電荷トラッピング膜１０４をエッチングすることによって形成される。 - 特許庁

To provide an EL element that can demonstrate its original gas barrier performance without corrosion or the gas barrier layer, even when patterning the electrode layer by etching or the like is made on the base material formed with the gas barrier layer when manufacturing the EL element.例文帳に追加

本発明は、ＥＬ素子の製造にあたり、ガスバリア層が形成された基材上で電極層のエッチング等のパターニングを行った場合でも、ガスバリア層が腐食されることなく、本来のガスバリア性を発揮することができるＥＬ素子を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

Furthermore, in the manufacturing method for a semiconductor in a second invention, a gold film is formed on a semiconductor substrate where the surface treatment is performed, and patterning is performed in etchant, whereupon only the gold film is etched, and the surface of the gallium arsenide semiconductor substrate is not etched.例文帳に追加

さらに、第２の発明の半導体装置の製造方法は、上記表面処理を行った半導体基板上に金膜を形成してヨウ素系エッチング液でパターニングを行うと、金膜のみがエッチングされ、露出するガリウム砒素半導体基板表面は、エッチングされない。 - 特許庁

To obtain a structure of a vibrator whose electrode intersection area can be made large while an increase in occupation area is suppressed and to obtain a structure of a vibrator whose electrode intersection area can be made large without sacrificing patterning precision nor simplicity of a manufacturing process.例文帳に追加

占有面積の増大を抑制しつつ電極交差面積を大きくすることができる振動子の構造を実現し、また、パターニング精度や製造工程の簡易性を犠牲にすることなく電極交差面積を大きくすることができる振動子の構造を実現する。 - 特許庁

A single crystal silicon thin film 4 is grapho-epitaxial-grown by a catalyst CVD method on a glass substrate 1 having a step and single crystalline silicon TFTs Q_1-Q_n are formed by patterning the single crystalline silicon thin film 4 into strap-shapes.例文帳に追加

段差を設けたガラス基板１上に触媒ＣＶＤ法により単結晶シリコン薄膜４をグラフォエピタキシャル成長させ、これをパターン化して複数の短冊状の形状とし、これらの単結晶シリコン薄膜４を用いて単結晶シリコンＴＦＴＱ_1 〜Ｑ_n を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing circuit board includes: a substrate formation process S1 for burning green sheet to form a ceramic substrate; a catalyst patterning process S2 for drawing and forming a catalyst pattern from a liquid body containing plating catalyst; and a plating process S3 for plating the catalyst pattern.例文帳に追加

グリーンシートを焼成してセラミック基板を形成する基板形成工程Ｓ１と、めっき触媒を含有する液状体で触媒パターンを描画形成する触媒パターニング工程Ｓ２と、前記触媒パターンにめっきを施すめっき工程Ｓ３と、を有する回路基板の製造法。 - 特許庁

To provide a plant monitor control system having a guidance system for preparing a guidance database related with operations for realizing guidance by patterning, storing and learning the history of operations by human being, and for improving efficiency by shortening the operations.例文帳に追加

人間による操作の履歴をパターン化して蓄積、学習していくことにより、操作に関するガイダンスデータベースを作成し、ガイドを行い、かつ、操作の短縮をも可能にして、効率を向上させることが可能なガイダンスシステムを有するプラント監視制御システムを提供すること。 - 特許庁

The method for preparing the oxide thin film transistor having a substrate, a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, a drain electrode, and a semiconductor thin film includes a step for patterning the gate insulating film or the semiconductor thin film through the helicon plasma dry etching process.例文帳に追加

基板とゲート電極とゲート絶縁膜とソース及びドレイン電極と半導体薄膜とを含む酸化物薄膜トランジスタの製造方法において、ゲート絶縁膜又は半導体薄膜は、特定エッチングガスを使用するヘリコンプラズマ乾式工程を通じてパターン化されるステップを含んでいる。 - 特許庁

(2) The resist is patternwise exposed with an allowance for the resolution limit of the resolving power of wavelength of exposing light and this resist or a mask material formed from the resist is treated by isotropic etching to carry out patterning finer than the resolution limit.例文帳に追加

レジストについて露光波長の解像力の解像限界より余裕をもったパターン露光を行い、その後該レジスト又はレジストにより形成されたマスク材料を等方性エッチングを用いて処理することにより、前記露光波長の解像力の解像限界よりも微細なパターニングを行う。 - 特許庁