「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(69ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of sequentially forming the polycrystalline silicon film 5, the tungsten silicide film 6 and an insulating film 7 on the gate insulating film 4 of the main surface of a semiconductor substrate 1, a step of patterning them, and a step of forming the gate electrode 8 having the laminated structure of the polycrystalline silicon film 5 and the tungsten silicide film 6.例文帳に追加

半導体基板１の主面のゲート絶縁膜４上に、多結晶シリコン膜５、タングステンシリサイド膜６および絶縁膜７を順に形成し、それらをパターニングして多結晶シリコン膜５およびタングステンシリサイド膜６の積層構造を有するゲート電極８を形成する。 - 特許庁

The photo spacer constituting the liquid crystal display apparatus of which the cell thickness is 2 to 4 μm is manufactured by forming and patterning a photosensitive resin layer using a photosensitive resin component of which the cross-linking radical density is ≥0.0073 mole/g and then performing heating processing so that a cross-linking reaction rate becomes 86 to 100%.例文帳に追加

セル厚が２〜４μｍである液晶表示装置を構成するフォトスペーサーを、架橋基密度が０．００７３モル／ｇ以上の感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂層を形成してパターニングした後に、架橋反応率が８６〜１００％となるように加熱処理を行なう。 - 特許庁

After patterning the metal conductive film 6 and the polycrystalline semiconductor film 5, a first gate insulating film 7 is formed on the metal conductive film 6, and then a second gate insulating film 8 which grows faster than the first gate insulating film 7 is formed on the first gate insulating film 7.例文帳に追加

そして、金属性導電膜６及び多結晶半導体膜５をパターニングした後、金属性導電膜６上に第１のゲート絶縁膜７を形成し、第１のゲート絶縁膜７上に第１のゲート絶縁膜７に比べて成長速度が速い第２のゲート絶縁膜８を形成する。 - 特許庁

First, insulating films 10 and 11 between the electrodes and an insulating film 12 are formed between transfer electrode-shadowing films by patterning the insulating material layer at the identical process using a common mask on a substrate 1, and the mutual position of the transfer electrode 4 and a photodetecting receiver 3 is decided.例文帳に追加

まず、基板１上に電極間絶縁膜１０および１１と、転送電極−遮光膜間絶縁膜１２とを、共通のマスクを用いた同一工程で絶縁材料層をパターニングして形成し、転送電極部４と光電受光部３の相対位置を確定する。 - 特許庁

To provide an actuator ink jet recording head in which stabilized ejection quantity and ejection speed can be achieved without increasing crosstalk due to deformation of the wall even if nozzle density is increased in order to achieve high resolution, and to provide an ink jet recorder, a patterning device and a coater.例文帳に追加

本発明の目的は、高解像度実現のためにノズル密度を大きくしても、隔壁の変形によるクロストークを増加することなく、安定した吐出量、吐出速度を実現できるアクチュエータインクジェット記録記録ヘッド、インクジェット記録装置、パターニング装置および塗装装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a means for forming an organic metal thin film for manufacturing an organic semiconductor device using a conductive charge transfer complex material which is difficult to form a thin film by vacuum evaporation, and for manufacturing an electrode by patterning the organic metal thin film, and to provide a material suitable for the same.例文帳に追加

真空蒸着法による薄膜形成が困難な導電性電荷移動錯体材料を用いた有機半導体装置用の有機金属薄膜の形成と、そのパターニングによる電極作製のための手段、及びそれに適した材料を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board in which, even if a lid is joined in block to a conductor for sealing of each of a plurality of wiring board regions and cut, the lid is certainly joined to the conductor for sealing and which can form an electronic apparatus excellent in hermeticity with good productivity.例文帳に追加

蓋体を複数の配線基板領域の封止用導体に一括して接合し、切断する場合でも、封止用導体に蓋体が確実に接合された、気密性に優れた電子装置を、生産性良く形成することが可能な多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide an EL display unit in which a full color display is made possible, by forming a blue charge transport organic luminescent layer on a neighboring layer through vacuum vapor deposition method, after patterning red and green organic luminescent layers for each pixel by ink-jet method, and provide a manufacturing method of the EL display unit.例文帳に追加

赤、緑の有機発光層をインクジェット方式により画素毎にパターニングし、その隣接層に青色の電荷輸送型有機発光層を真空蒸着法等にて形成することにより、フルカラー表示可能なＥＬ表示体およびＥＬ表示体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

When the patterning of a multi-layer film, composed of a metal film 5 and an amorphous ITO film 4 which covers the metal film 5, is performed, a sequence of processes is executed as follows: (a) etching of the ITO film 4→(b) sufficient etching of the metal film 5→(c) etching to remove overhang part from the metal film 5 of the ITO film 4.例文帳に追加

金属膜５と、これを覆うアモルファスＩＴＯ膜４とからなる多層膜をパターニングするにあたり、(a)ＩＴＯ膜４のエッチング→(b)金属膜５の充分なエッチング→(c)ＩＴＯ膜４の金属膜５パターンからのひさし部分を除去するためのエッチング、という一連の工程を行なう。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition giving a high resolution with a suppressed LER deterioration caused by film-thinning at the time of forming a chemically amplified resist film with a film thickness of 10-100 nm in lithography, and also to provide a resist patterning process using the chemically amplified positive resist composition.例文帳に追加

本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。 - 特許庁

Next, a 1st core 53a and a 2nd core 53b orthogonally crossing each other are formed by patterning the 1st core layer, and a 2nd cladding layer is formed by applying the solution of 1st polyamide fluoride to make an optical waveguide body 51 in which the 1st and 2nd cores are embedded in the 1st and 2nd cladding layers.例文帳に追加

ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、第１フッ素化ポリイミド溶液を塗布して第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。 - 特許庁

In the magneto-resistance effect type head of the CPP structure, at least a part of a boundary between a lower shield layer 10 and a nonmagnetic film 11 formed around it is covered with an insulating protective film 20, and an area of the lower shield layer exposed to the surface of a substrate during patterning of a magneto-resistance effect sensor film is reduced.例文帳に追加

CPP構造の磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、下部シールド層10とその周囲に設けられている非磁性膜11との境界の少なくとも一部を絶縁保護膜20で被覆して、磁気抵抗効果センサ膜のパターニングの際に基板表面に出る下部シールド層の面積を小さくする。 - 特許庁

In this non-inductive strain sensor and its measuring method, the strain measurement in the environment wherein the noise is generated under the high magnetic field and the extra-high voltage can be performed by a grid 2 comprising a one-turn coil subjected to patterning so as to be mutually overlapped on the front and back of an insulating substrate 1 in an approximately reverse U-shape.例文帳に追加

略逆Ｕ字状に絶縁基板１の表裏に互に重なる様にパターニングされた１ターンコイルから成るグリッド２によって強電界、強高電圧下でノイズが発生する環境下での歪測定を行なうことが可能な無誘導歪センサ及びその測定方法を得る。 - 特許庁

The ferromagnetic thin membrane layer 15 has 0.5-50 oersted coercive force, may have a squareness ratio regulated so as to be 0.7-1.0, may be formed into the pattered one by a thin film-removing means such as a laser processing method, an etching method and a lift-off method, and further may have a bar code mark formed by patterning.例文帳に追加

上記強磁性薄膜層１５は、保磁力が０．５〜５０エルステッドで、かつ角型比が０．７〜１．０に調整されているようにでき、レーザ加工法、エッチング法、リフトオフ法等の薄膜除去手段によりパターン化されたものとすることができ、また、バーコードマークをパターン化して設けることができる。 - 特許庁

With respect to calling signals from a plurality of slave units and an alarm signal of a sensor, a voltage level of a power source superimposed on a transmission line by a power source supply from a master unit is changed by a voltage patterning portion of a slave unit, and the signals are transmitted to the master unit from a data transmission/reception circuit of the slave unit as a patterned signal.例文帳に追加

複数の子機からの呼出信号、センサの警戒信号を、親機からの電源供給により伝送路上に重畳される電源の電圧レベルを子機の電圧パターン化部で変化させ、パターン化された信号として子機のデータ送受信回路から親機に送信する。 - 特許庁

The manufacturing method of a laminated electronic component constituted by the laminate of a ceramic green sheet includes a process of patterning the external terminal electrode on the ceramic green sheet, and laminating and forming the same so as to provide unevenness along a boundary between a ceramic region of an electronic component and an external terminal electrode region .例文帳に追加

セラミックグリーンシートに外部端子電極をパターンニングして、電子部品のセラミック領域と外部端子電極領域との境界に凹凸を設けるように外部端子電極を形成するように積層する工程を含むことを特徴とする積層型電子部品の製造方法。 - 特許庁

The resin composition is prepared by compounding a thermosetting resin with additives such as a filler, a patterning material, an internal mold release agent, a curing agent, etc., and is poured into a casting mold to be molded and hardened, giving an artificial marble molding.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填材、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られる樹脂組成物で、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石成形品を製造するのに用いる人造大理石製造用の樹脂組成物である。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular, a chemically amplified negative resist material that can exhibit higher resolution than conventional hydroxy styrene or novolac negative resist materials, that provides excellent pattern profiles after being exposed and that exhibits excellent etching resistance; and a patterning process that uses the resist material.例文帳に追加

従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing an array substrate comprises the steps of forming a barrier layer in the lower portion of a source and drain electrodes using material unetched by wet etching liquid for a metal material constituting the source and drain electrodes, and patterning the barrier by anisotropic dry etching, thereby obtaining the desired CDs of a channel portion.例文帳に追加

ソース電極及びドレイン電極の下部に、ソース電極及びドレイン電極を構成する金属物質の湿式エッチング液にエッチングされない物質を利用してバリア層を形成して、バリア層を異方性の乾式エッチングによってパターニングし、望むチャンネル部のＣＤを得る。 - 特許庁

It has least the process, which forms the organic EL layer of at least one-layer which constitutes the EL element by patterning it with the photo lithography method, and the process, which forms the buffer layer which is not eluted in a solvent.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層をフォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程と、溶媒に不溶なバッファー層を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに１００〜２８０ｎｍの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

On a substrate to be machined, a thin film pattern is formed by using a resist originating from a material containing silicon being formed by patterning and the succeeding glassification treatment, and transferring the resist pattern to a thin film already formed on the substrate to be machined by a dry etching treatment.例文帳に追加

被加工基板上において、薄膜パターンを、パターニングとそれに続くガラス化処理によって形成されたシリコン含有材料由来のレジストパターンをマスクとし、そのレジストパターンを被加工基板上にすでに形成されている薄膜にドライエッチング処理で転写することによって形成する。 - 特許庁

The scattering bars 108a and 108b have a width sufficient for improving the depth of focus of the isolated wire 106b during semiconductor device patterning and are arranged at a distance from the isolated wire 106b sufficient to improve the depth of focus of the wire 106b.例文帳に追加

このスキャッタリング・バー１０８aおよび１０８bは、半導体デバイスパターニング時における孤立した導線１０６bの焦点深度を向上させるに十分な幅を有し、かつ、該導線１０６bの焦点深度を向上させるに十分な距離だけ該孤立した導線１０６bから離間させて配置される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel and a method for manufacturing the same, of which the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is saved by patterning a flattening layer and spacers of the liquid crystal display panel without conducting a photolithography process.例文帳に追加

本発明の目的は、液晶表示パネルの平坦化層およびスペーサーをフォトリソグラフィー工程を実施することなくパターニングすることにより、製造工程を単純化すると共に製造費用を節減し得る液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

Also, a contact hole 10 is formed in an interlayer insulating film 9, and the high melting point metal silicide is accumulated on the whole face, and the patterning of the high melting point metal silicide is carried out, without etching-back, and metallic wirings including the bit lines 12 are formed so that a manufacturing process can be shortened in time.例文帳に追加

また、層間絶縁膜９にコンタクト孔１０を形成し高融点金属シリサイドを全面に堆積させた後にエッチバックを行うことなく、そのまま高融点金属シリサイドのパタ−ニングを行い、ビット線１２を含む金属配線を形成しているので製造工程を短縮できる。 - 特許庁

By patterning the lead group 14 bridging over the substrates 12a and 12b, the probe unit 10 can be bent at the connection section of the leads 16 and attached to the conduction tester 1, and the projection area of the probe unit 10 on the panel surface where the specimen is put on can be reduced.例文帳に追加

リード群１４を基板１２ａ、１２ｂに跨ってパターニングすることにより、リード１６の連結部位でプローブユニット１０を屈折させて導通検査装置１の本体に取り付けて、検体３０が載置される盤面へのプローブユニット１０の投影面積を低減することができる。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor devices by patterning a wiring material film (film to be worked) 10 containing metal to be formed on a substrate 1 consists in first forming the resist patterns 13 across an antireflection film 11 consisting of a silicon material on the wiring material film 10.例文帳に追加

基板１上に形成された金属を含有する配線材料膜（被加工膜）１０をパターニングする半導体装置の製造方法であり、先ず、配線材料膜１０上にシリコン系材料からなる反射防止膜１１を介してレジストパターン１３を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can make etching without giving a local damage to a base film, when patterning is made by using multilayer resist as a mask on a semiconductor substrate having a surface step and machining for a gate electrode, a fine wiring and so on are made.例文帳に追加

表面段差を有する半導体基板上において、多層レジストをマスクとしてパターニングを行い、ゲート電極や微細配線等を加工する際に、下地膜に局所的な損傷を与えずに、エッチングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises patterning a cell adhesive domain of micro order on a cell unbondable surface, voluntarily aggregated cells on the domain to efficiently form spheroids of a uniform size, and then noninvasively collecting cell spheroids formed under the conditions.例文帳に追加

細胞非接着性の表面上にマイクロオーダーの細胞接着性ドメインをパターニングし、このドメイン上で細胞を自発的に凝集させることでサイズの整ったスフェロイドを効率的に形成せしめた後、条件によって形成した細胞スフェロイドを非侵襲的に回収する手段の提供 - 特許庁

The transfer film having the inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition of the present invention obtained by using a specific photoinitiator can provide the flat panel display capable of forming a black matrix which is flat and smooth, has no warpage, and has excellent patterning performance.例文帳に追加

特定の光重合開始剤を用いて得られた本発明の無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムは、平滑で反りのない、優れたパターニング性能を有するブラックマトリクスを形成できるフラットパネルディスプレイを提供することができる。 - 特許庁

To provide a cycloolefin laminate wherein a metal part in a side contacting a photo-permeable supporting material can be blackened, an adhesion between a cycloolefin supporter and a patterned metal part can be improved, and the cycloolefin laminate having a low haze can be obtained even when the patterning metal part does not adhere to other base materials, and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

光透過性支持体と接する側の金属部が黒化でき、シクロオレフィン支持体とパターニングされた金属部との接着性を改善し、かつパターニングされた金属部を他の基材と貼合せずとも、ヘイズの低いシクロオレフィン積層体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

One of the anode and cathode of a chip-shaped solid electrolytic capacitor with an electrode substrate as an electrode or both of them are configured of two independent conductive boards, and a fuse element for connecting the both independent conductive boards is formed by patterning.例文帳に追加

電極基板を電極としたチップ状固体電解コンデンサの陽極と陰極のうちどちらか一方、または両方がそれぞれ二つの独立した導電板からなり、独立した両導電板を接続するためのヒューズ素子をパターニングすることにより形成させることを特徴とする。 - 特許庁

A method for patterning metal using nanoparticles containing precursors comprises: providing pre-nucleated metal nanoparticles in a composite; generating a metal atom by reducing a metal ion by exposure to radiation; and reacting the metal atom with the pre-nucleated metal nanoparticle, thereby growing the metal nanoparticles.例文帳に追加

予備核形成した金属ナノ粒子を複合材にして準備し、放射線への露光により金属イオンを還元することのより金属原子を生成し、前記金属原子を前記予備核形成した金属ナノ粒子と反応させ、それにより金属ナノ粒子を成長させる。 - 特許庁

The solid state imaging device is manufactured through a process of forming conductive layers 13, 14 containing the metallic element on the semiconductor substrate 6 to form the electrode 15 by patterning the conductive layers 13, 14, and another process of forming the nitride silicon film 16 on the surface of the electrode 15.例文帳に追加

また、半導体基体６上に金属元素を含む導電体層１３，１４を成膜し、この導電体層１３，１４をパターニングして電極１５を形成する工程と、この電極１５の表面に窒化珪素膜１６を形成する工程とを有して、上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁

To provide a transparent electrode substrate excellent in conductivity, capable of maintaining high levels of adhesion, storage stability and conductivity, and also excellent in heat resistance and moist heat resistance, while a pattern with high resolution can be formed in an electrode obtained by performing patterning and a pattern shape is also excellent.例文帳に追加

導電性に優れ、かつ、密着性、保存安定性、導通率を高いレベルで維持することができ、耐熱性、耐湿熱性も良好であり、パターニングを行って得られた電極は、解像度の高いパターンが形成でき、パターン形状も良好である、透明電極基板を提供すること。 - 特許庁

This can allow for (secure an offset of) the patterning between gate electrodes SLG-SLG to make it possible to prevent the occurrence of the short-circuit failure between both sides of gate electrodes SLG even though the dummy contact hole is formed at the part of the image-resolved auxiliary pattern 4c.例文帳に追加

ゲート電極ＳＬＧ−ＳＬＧの間のパターンニングに余裕を持たせることができ（オフセットを確保することができ）、解像した補助パターン４ｃの部分でダミーコンタクトホールが形成された場合でも、両脇のゲート電極ＳＬＧとの間で短絡不良が発生するのを防止することが出来る。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring substrate capable of being easily and correctly partitioned along partitioning grooves and reduced in the probability of generating burs, deformation or the like upon partitioning, and to provide a highly reliable electronic component receiving package and an electronic device.例文帳に追加

母基板を分割溝に沿って容易かつ正確に分割することが可能であり、分割の際にバリや変形等が発生する可能性を低減した多数個取り配線基板を提供し、信頼性の高い電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing a crystal resonator includes forming metal films and resist films on both sides of a substrate; then patterning the outer form of the crystal resonator, respectively on the resist films on the front and rear sides of the substrate; and thereafter, removing the metal films exposed on both the sides of the substrate by etching, and then etching the crystal substrate.例文帳に追加

水晶振動子の製造方法において、基板の両面に金属膜、レジスト膜を形成した後、基板の表裏面のレジスト膜にそれぞれ水晶振動子の外形形状をパターニングし、その後、基板両面に露出した金属膜をエッチング除去、水晶基板のエッチングを行う。 - 特許庁

To provide a resin composition having a low dielectric constant, excellent in patterning precision and adhesion to a substrate, developable with water or a diluted alkali solution, and suitable for forming a solder resist for a printed wiring board or an IC package, or an interlayer insulating layer or the like, and to provide a photosensitive film using this resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide the forming method of buried wiring wherein the material of an insulating substrate, in which the buried wiring is formed, is not limited so as to be high in thermal resistance and the corrosion resistance of terminal unit of the buried wiring can be improved while being capable of surely effecting the patterning thereof through reduced processes with excellent accuracy of film thickness.例文帳に追加

埋込配線が形成される絶縁性基板の材料が耐熱性の高いものに限定されず、当該埋込配線の端子部の耐食性を向上でき、パターニングが少ない工程で且つ良好な膜厚精度で確実に行われる埋込配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

To optimize an antireflection film for use, when patterning a resist for use in an ion implantation step and enhance throughput in the manufacture of a semiconductor device, containing a step of ion-implanting impurities in a region selected by the use of a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを使用して選択された領域に不純物をイオン注入する工程を含む半導体装置の製造方法に関し、イオン注入工程において使用されるレジストをパターニングする際に使用される反射防止膜の最適化を図るとともに、スループットを向上すること。 - 特許庁

To reduce capacitance between adjacent data electrodes and curtail power consumption accompanying data pulse impression by patterning dielectric layers.例文帳に追加

ＡＣ型面放電プラズマディスプレイの背面基板のデータ電極の上には全面に誘電体層が形成されているため、隣接するデータ電極間の静電容量には当該誘電体層に基く容量成分が必然的に付加されることになり、データパルス印加に伴う消費電力が大きくなる。 - 特許庁

The method for manufacturing an active element array includes a process of forming pixel electrodes and a process of forming an amorphous transparent conductive film and then patterning the amorphous transparent conductive film into the same pattern as the pixel electrodes by a photolithographic method.例文帳に追加

アクティブ素子アレイの製造方法であって、画素電極を形成する工程と、非晶質透明導電膜を成膜した後、前記非晶質透明導電膜をフォトリソグラフィー法で前記画素電極を同じパターンに形成する工程を有するアクティブ素子アレイの製造方法。 - 特許庁

A conductive film formed as a pixel electrode 119 is formed and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain region 116, and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation.例文帳に追加

画素電極１１９となる導電膜を形成し、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、及びチャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する。 - 特許庁