「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

A mask M3 for forming gates is disposed on a lower surface of the substrate and light is applied from a lower portion, a shadow generated by a light-shielding region of the mask M3 and that generated by the source and drain electrodes 120, 130 become non-exposure regions of the resist layer 191, and a gate electrode layer is formed by patterning.例文帳に追加

基板下面にゲート形成用マスクＭ３を配置して下方から光を照射し、マスクＭ３の遮光領域によって生じる影とソース電極１２０およびドレイン電極１３０によって生じる影とが、レジスト層１９１の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてゲート電極層を形成する。 - 特許庁

To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.例文帳に追加

被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁

The ink composition for precise patterning comprises a volatile solvent, a resin which is soluble in the volatile solvent, and a solid component which is insoluble in the volatile solvent, wherein the ink composition has ink viscosity of 5 mPas or less and surface energy of 25 mN/m or less, and the volatile solvent is preferably a mixture of a quick drying solvent and a slow drying solvent.例文帳に追加

インキ粘度が５ｍＰａ・ｓ以下、表面エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以下である精密パターニング用インキ組成物であり、揮発性溶剤と、この揮発性溶剤に可溶な樹脂と、この揮発性溶剤に不溶な固形成分を含有し、揮発性溶剤が速乾性溶剤と遅乾性溶剤の混合物であることが好ましい。 - 特許庁

Furthermore, a glass mask 15 with an irradiated light amount controlled according to a plane position is used to make patterning in such a way that a plurality of intra-layer lenses including an intra-layer lens 12 on an outermost peripheral circuit region 3 side and an intra-layer lens 12 in the middle part of an effective pixel region 2 will be formed in the same lens shape.例文帳に追加

また、照射光量を平面位置に応じて制御されたガラスマスク１５を用いて、最も周辺回路領域３側の層内レンズ１２と有効画素領域２の中央部の層内レンズ１２とを含む複数の層内レンズ１２のレンズ形状が同一になるようにパターンニングを行う。 - 特許庁

After a lower film of Al-Nd alloy and an upper film of MoW alloy are stacked sequentially on an insulation substrate, a gate line including a gate electrode is formed by patterning the resulting film using an etchant including 50 to 60% of phosphoric acid, 6 to 10% of nitric acid, 15 to 25% of acetic acid, 2 to 5% of stabilizer, and ultrapure water.例文帳に追加

絶縁基板の上部にAl-Nd alloyの下部膜とMoW alloyの上部膜を順次に積層した後、５０-６０％範囲のリン酸、６-１０％範囲の硝酸、１５-２５％範囲の酢酸及び２-５％の安定剤とその他に超純水を含むエッチング液でパターニングしてゲート電極を含むゲート線を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes: a step of coating a semiconductor substrate, having a wiring pattern formed, with an oxide film; a step of covering the oxide film with the film to be etched made of a conductive material; and a step of patterning the film to be etched through plasma etching while giving selectivity to the oxide film by adding a compound containing no carbon and containing sulfur.例文帳に追加

配線パターンが形成された半導体基板上に酸化膜を被覆する工程と、酸化膜上に導電材料の被エッチング膜を被覆する工程と、炭素を含まず硫黄を含む化合物を添加して、被エッチング膜を酸化膜に対して選択性を持たせつつプラズマエッチングしてパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable cyan ink containing a cobalt blue pigment which is excellent in weatherability and used for patterning by ink jet recording; and to provide a building board which is patterned by the dots of plural colors including cyan dots of the ultraviolet curable cyan ink containing the cobalt blue pigment.例文帳に追加

耐候性に優れた、インクジェット記録による模様付けに用いられる、コバルトブルー顔料を含有する紫外線硬化型シアンインクおよびこのコバルトブルー顔料を含有する紫外線硬化型シアンインクによるシアンドットを含む複数色のドットによって模様付けされた建築板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The laminated electrode composed of an upper layer electrode 17 and a lower layer electrode 16 wider than the upper electrode 17 is formed by laminating negative conductive.photosensitive lower layer paste 12 and negative conductive.photosensitive upper layer past both having high photosensitivity and patterning them in a lamp.例文帳に追加

強い感光性を有するネガ型の導電性・感光性下層ペースト１２とネガ型の導電性・感光性上層ペースト１３とを積層し、両者を一括でパターニングすることで上層電極１７と上層電極よりも幅が広い下層電極１６とで構成される積層電極を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical waveguide device further includes steps of applying a photoresist to the Si film, patterning the photoresist so that a portion of the photoresist corresponding to the optical waveguide remains, forming a groove on the substrate along the optical waveguide by reactive ion etching, and removing the photoresist and the Si films.例文帳に追加

光導波路デバイスの製造方法は更に、Ｓｉ膜上にフォトレジストを塗布し、光導波路に対応する部分のフォトレジストが残るようにフォトレジストをパターニングし、反応性イオンエッチングにより、光導通路に沿って基板に溝を形成し、フォトレジスト及びＳｉ膜を剥離するステップを含んでいる。 - 特許庁

This cathode substrate of a carbon nanotube(CNT) field remission display includes a glass substrate, a cathode layer patterned on the glass substrate, and patterning a surface of the cathode layer as mutually separate electron emitting areas, and a plurality of CNT structures respectively grown on a plurality of electron emitting areas.例文帳に追加

本発明のカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）フィールドエミッション・ディスプレイのカソード基板が、ガラス基板と、ガラス基板上にパターニングされて、カソード層の表面が互いに離された電子放出領域としてパターニングされたカソード層と、複数の電子放出領域上にそれぞれ成長された複数のＣＮＴ構造とを含む。 - 特許庁

To provide a construction method for a housing concrete foundation using a concrete placement form, allowing proper and convenient construction in various designs on a foundation portion exposed to a ground without requiring special patterning plates, forms to be prepared or special plastering finish.例文帳に追加

住宅建築における基礎（土台）をコンクリート打設用型枠により施工する方法において、特別な模様板や型枠の用意あるいは特別な左官工仕上作業を必要とすることなく、地面より露出した基礎部分に、適宜に、多様なデザイン（意匠）が簡便に施工できる住宅建築用コンクリート基礎の施工方法。 - 特許庁

To lessen dispersion in etched dimensions in a base barrier metal layer by completing with one patterning of a resist into an etching mask when an aluminum alloy wiring layer not less than 3 μm in thickness deposited on the base barrier metal layer is patterned as desired in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセスにおいて、下地バリアメタル層の上に、３μｍ以上の厚さのアルミニウム合金層が積層された積層配線層を所望のパターンに成形するにあたり、エッチングマスクとなるレジストのパターニングを１回で済ませ、下地バリアメタル層のエッチング寸法のばらつきを小さくすること。 - 特許庁

A patterning unit 1 is equipped with a chemical seed generating unit 2 which generates chemical seeds from material by irradiating it with a laser beam, a nozzle unit 3 which discharges the chemical seeds generated by the chemical seed generating unit 2, and a movable mechanism 15 which moves the nozzle unit 3 relatively to a base where the chemical seeds are disposed.例文帳に追加

材料にレーザー光を照射することによってこの材料から化学種を発生させる化学種発生部２と、化学部発生部２で発生した化学種を吐出するノズル部３と、ノズル部３と化学種が配置される基体との相対的な位置を移動させる可動機構１５とを備えたパターニング装置１。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor memory device includes: a step (a) of sequentially laminating a TMR film 5 and a cap layer 6 on base layers 1, 2, 3 and 4; and a step (b) of patterning the TMR film 5 and the cap layer 6 to form a normal laminate structure pattern 13 and a dummy laminate structure pattern 16 thereof.例文帳に追加

本発明に係る半導体記憶装置は、（ａ）下地層１，２，３，４上にＴＭＲ膜５、キャップ層６を順に積層する工程と、（ｂ）ＴＭＲ膜５、キャップ層６をパターニングして、それらの正規積層構造パターン１３およびダミー積層構造パターン１６を形成する工程とを備える。 - 特許庁

A touch panel (100) according to the present invention includes a transparent substrate (110), a transparent projection part (120) formed on the transparent substrate (110) to surround a partition wall (123) which is subject to patterning, and a transparent electrode (130) formed in the transparent projection part (120) to be surrounded by the partition wall (123).例文帳に追加

本発明に係るタッチパネル（１００）は、透明基板（１１０）と、パターニングされた隔壁（１２３）を備えるように前記透明基板（１１０）に形成される透明突出部（１２０）と、前記隔壁（１２３）に取り囲まれるように前記透明突出部（１２０）内に形成される透明電極（１３０）とを含んでなる。 - 特許庁

In the method of manufacturing a transmissive type optical modulation element, firstly a driving circuit is formed on a Si (silicon) substrate, secondly a film of a transmissive type optical modulation part is formed on the driving circuit and a patterning is performed, then the driving circuit and the transmissive type optical modulation part are transferred from the Si substrate to a transparent substrate.例文帳に追加

透過型光変調素子の製造方法において、まず、Ｓｉ（シリコン）基板上に駆動回路を形成し、次に、その上に透過型光変調部の成膜をしてパターニングを行い、その後、前記駆動回路と前記透過型光変調部を前記Ｓｉ基板から透明基板上に転写するようにした。 - 特許庁

The patterning step for applying an electron beam is provided with a correction step for changing a way of irradiation (irradiation quantity and position) of the electron beam in the respective areas where the structural body of a first wiring layer 1 forming a lower wiring structure exists, in consideration of the structural body on alignment in advance.例文帳に追加

電子線を照射するパターニング工程は、下層配線構造を形成する第一配線層１等の構造体の各々が露光に与える影響を予め考慮し、上記構造体の各々の存在領域それぞれについて、上記電子線の照射の仕方（照射量や照射位置等）を変える補正ステップを有する。 - 特許庁

To provide a polymer compound suitable as a base resin for a positive resist material, especially for a chemically amplified positive resist material, having a high sensitivity, a high degree of resolution, a good pattern configuration after exposure, and in addition an excellent etching resistance; a positive resist material using the polymer compound; and a patterning process.例文帳に追加

高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electro-optical device, which includes a process of forming the metallic film on a glass substrate, the glass substrate having the metallic film formed thereon is subjected to heat treatment after formation of the metallic film on the glass substrate and before patterning processing of the metallic film, whereby bend of the glass substrate is relaxed.例文帳に追加

ガラス基板上に金属膜を形成する工程を含む電気光学装置の製造方法であって、ガラス基板上に金属膜を形成した後、当該金属膜に対してパターニング処理を行う前に、金属膜が形成されたガラス基板を加熱処理することにより、ガラス基板の反りを緩和することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a solar cell excellent in output characteristics by forming a transparent conductive film, a CdS(cadmium sulfide) film and a CdTe(cadmium telluride) film sequentially on a translucent insulating substrate and suppressing thermal damage of an underlying translucent conductive film at the time of patterning the CdTe film by laser scribing.例文帳に追加

透光性絶縁基板上に、透明導電膜、ＣｄＳ膜およびＣｄＴｅ膜順次形成し、レーザスクライブ法によりＣｄＴｅ膜をパターニングする際、下地の透明導電膜が熱的なダメージを受けることを抑止し、優れた出力特性の太陽電池を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a liquid drop jet patterning device having a nozzle head with improved maintenance property capable of adjusting jetting positions at every nozzles by making nozzle heads move in the supplemental scanning direction regardless of the inclined revolving angle of the nozzle head by enlarging the variable width of jetting pitch by enlarging the inclinable angle of the nozzle head.例文帳に追加

ノズルヘッドのメンテナンス性を高め、ノズルヘッドの傾斜可能角度を大きくして吐出ピッチの可変幅を大きくし、ノズルヘッドの傾斜回動角に関係なくノズルヘッドを副走査方向へ移動させ各ノズル毎に吐出位置の調整を容易にすることができる液滴ジェットパターニング装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the display member comprises (A) a process of coating and drying photosensitive paste on a substrate with at least an electrode formed, and then exposing the coated film to light via a photomask, (B) a process of developing the coated film and patterning it, and (C) a process of forming a barrier-rib pattern by baking the pattern-formed coated film.例文帳に追加

少なくとも電極が形成された基板に下記の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）の各工程を順次行って得られるディスプレイ部材の製造方法であって、該（Ａ）工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施した後に、（Ｂ）、（Ｃ）の工程を実施することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁

To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.例文帳に追加

インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁

Since the electron beam shielding region 11 adheres tightly to the pattern formation layer 2 by the effect of the minute adhesiveness of the minute adhesive layer 14, the electron beam does not enter the region that shields the electron beam from an oblique direction even if an inexpensive general-purpose electron beam irradiation device is used, thereby allowing very fine and high-resolution patterning.例文帳に追加

微粘着層１４の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１１が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがなく、高精細、高解像度のパターニングが期待できる。 - 特許庁

To provide an electronic component which comprises enabling its thinning and downsizing as a result of densifying integrated elements, and enhancing Q factor in the element which employs mainly an inductive element such as an inductor and a resonator, as a result of enhancing a patterning accuracy and an interlayer accuracy, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

内蔵素子の高密度化が可能となり、その結果、薄型化、小型化が可能となると共に、パターニング精度や層間精度を高くすることができ、インダクタ、共振器等のような主として誘導成分を用いる素子においてはＱ値の高いものが得られる構成の電子部品とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the nozzle sheet used for an ink-jet head of an ink-jet printer adopts a process of exposing a first photosensitive resin sheet 20 on which a photosensitive liquid repelling film 21 is formed and patterning first nozzles 21a, 20a at the same time on the photosensitive liquid repelling film 21 and the first photosensitive resin sheet 20.例文帳に追加

インクジェットプリンタのインクジェットヘッドに用いられるノズルシートは、感光性撥液膜２１が形成された第１感光性樹脂シート２０に露光し、感光性撥液膜２１及び第１感光性樹脂シート２０に一度に第１ノズル２１ａ、２０ａのパターニングを行う工程を採り入れた製造方法とする。 - 特許庁

To solve the problem that a transistor varies in element characteristics resulting from unevenness in film thickness, patterning precision, etc., of a semiconductor film and a gate insulating film laminated in a manufacturing stage, and a polysilicon transistor further has variance in crystallinity depending upon a crystal growth direction, a defect at a crystal gain boundary, etc.例文帳に追加

トランジスタは、製造過程における積層された半導体膜やゲート絶縁膜の膜厚の不均一性や膜のパターニング精度等に起因して素子特性がばらつき、ポリシリコントランジスタの場合は加えて、結晶成長方向や結晶粒界における欠陥等により結晶性がばらついてしまう。 - 特許庁

The optional pattern is formed with high precision and high accuracy by patterning the photo paste, prepared by imparting photosensitive function to a functional material such as having conductivity, by printing such as offset, screen and after that, exposing, developing and removing excess parts due to the correction of the shape, the short defect or the like, drying and firing.例文帳に追加

導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for patterning an organic thin film capable of preventing the surface of an organic semiconductor layer from being damaged, an organic thin-film transistor capable of preventing the surface of the organic semiconductor layer from being damaged and reducing OFF-current and its manufacturing method and an organic electroluminescent display provided with the organic thin-film transistor.例文帳に追加

有機半導体層の表面損傷を防止できる有機薄膜をパターニングする方法、有機半導体層の表面損傷を防止し、オフ電流を減少させることができる有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタを備えた有機電界発光表示装置を提供する。 - 特許庁

The anode forming process includes a process of forming an insulating film 15 on the anode A after patterning the anode A in a predetermined shape, and further providing the insulating film 15 with an opening to expose the metal, and in the organic layer forming process, the organic layer 10 is formed to come into contact with the metal in the opening.例文帳に追加

又陽極形成工程は、陽極Ａを所定の形状にパターニングした後、陽極Ａ上に絶縁膜１５を形成し、更に絶縁膜１５に開口を設けて金属を露出させる処理を含み、有機層形成工程は、開口にて金属と接するように有機層１０を形成する。 - 特許庁

To provide a structure which increases the degree of freedom of design and not only increases the display area on a liquid crystal device but also miniaturize the device by adopting a structure of a vertical conduction part with which the peripheral part of a display area can be narrowed without being affected by the patterning precision of an alignment layer.例文帳に追加

配向膜のパターニング精度に影響されることなく、表示領域の周囲部分の狭幅化を図ることが可能な上下導通部の構造を採用することによって、設計の自由度を増大させ、液晶装置における表示面積の増大と小型化とを両立することができる構造を提供する。 - 特許庁

To provide a fluorescent converting filter having a fluorescent converting film capable of converting the light of an area from the near ultraviolet area to the green area emitted by a light emitting element to the light of the red area and capable of accurate patterning and showing the excellent display performance, and to provide a color display device having this filter.例文帳に追加

発光素子が発する近紫外領域から緑色領域の光を赤色領域の光に変換することができるとともに、高精細なパターニングが可能である蛍光変換膜を有し、優れた表示性能を発揮する蛍光変換フィルタおよび該フィルタを有してなるカラー表示装置を提供する。 - 特許庁

The polarizing element 1 includes: a substrate 11A; a plurality of metal filaments 18A provided on the substrate 11A by patterning a metal film by means of etching; and a deposition film 118 formed in an upper end part of each metal filament 18A, by chemical reaction of an etching gas with an etching product when etching the metal film.例文帳に追加

基板１１Ａと、金属膜をエッチングによりパターニングし基板１１Ａ上に設けられた複数の金属細線１８Ａと、金属膜のエッチング時におけるエッチングガス及びエッチング生成物が化学反応することで各金属細線１８Ａの上端部に形成されてなる堆積膜１１８とを備えた偏光素子１である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element by which the following problem is solved without requiring addition of a new step; even if a polymerizable liquid crystal is cooled after holding at a temperature showing liquid crystal regularity, the liquid crystal recrystallizes between bringing back to room temperature and an exposure/development step and by which patterning is also possible if necessary.例文帳に追加

重合性液晶を液晶規則性を示す温度で保持した後冷却しても、常温に戻してから露光／現像の工程までの間に再結晶化する問題があった点を、新たな工程の追加の必要もなく、必要に応じてパターン化も可能な光学素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A stencil mask manufacturing process in the preceding back etching process includes forming gradations of a film thickness of a resist left in a pattern field, after developing by adjusting the amount of exposed light, and selectively thinning a masking substrate film in a minute pattern formation field, with an aspect ratio higher than that of the surrounding region, prior to patterning.例文帳に追加

先行バックエッチングプロセスのステンシルマスク製造工程において、現像後のパターン領域のレジスト残膜厚に露光量を調整することにより階調をつけ、周辺領域よりアスペクト比が高い微細パターン形成領域のマスク基板膜厚を選択的にパターニング以前に薄膜化することにより、ステンシルマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a transfer material for forming a circuit, which is to be used for transferring a circuit pattern obtained from patterning a metal foil on an insulating board or ceramic green sheet, which is suitable for the increase in fineness of a circuit pattern, and which can relax the heat pressing conditions and enables to transfer the circuit pattern naturally and stably.例文帳に追加

金属箔のパターニングにより得られた回路パターンを絶縁性基板またはセラミックグリーンシートに転写するのに用いられる、回路パターンの微細化に対応することができ、熱プレス条件を緩和でき、かつ回路パターンを無理なくかつ安定に転写することを可能とする回路形成用転写材を提供する。 - 特許庁

To provide a hardmask composition for a resist underlayer film that has high etching selectivity, sufficient resistance to multiple etchings, and an antireflective property to minimize the reflectivity between the resist and a lower layer, and a method of patterning a backside material layer on a substrate using the hardmask composition.例文帳に追加

エッチング選択性が高く、 多重エッチングに対する耐性が十分であり、レジストと下部層間の反射性を最小化する反射防止能を有するレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供すること、および該ハードマスク組成物を用いて、基板上の裏面材料層をパターン化させる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.例文帳に追加

１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.例文帳に追加

石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁

In the liquid crystal display, a planarization layer covering pigment dispersion layers 14-R, 14-G, 14-B which are laminated and patterned for each of primary colors R, G, B(red, green, blue) separately and block matrices 13 is provided, and thereon a number of columnar spacer protrusions 11 having uniform dimension of protrusion and distribution are constructed with resin coating and patterning.例文帳に追加

Ｒ，Ｇ，Ｂの各原色について別個に積層、パターニングされる顔料分散層１４−Ｒ，１４−Ｇ，１４−Ｂ、及びブラックマトリクス１３を覆う平滑化層１６を設け、この上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起１１を設ける。 - 特許庁

After a conductive film formed by scattering high-concentration impurity-containing regions 13 composed of silicon doped with an impurity at a high concentration in a low-concentration amorphous silicon layer 12, coping with the impurity at a low concentration is deposited on the insulating film 11, a lower electrode 15 is formed by patterning the conductive film.例文帳に追加

層間絶縁膜１１の上に、シリコンに不純物が低濃度でドーピングされてなる低濃度の非晶質シリコン層１２中に、シリコンに不純物が高濃度でドーピングされてなる高濃度の不純物含有シリコン領域１３を分散させた導電膜を堆積した後、該導電膜をパターニングして下部電極１５を形成する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive laminate film having excellent visibility and hardly emphasized patterning since the difference of optical characteristics between a part where a transparent conductive thin film is present and a part where the transparent conductive thin film is not present when the transparent conductive film is patterned, in an electrode film used for an electrostatic capacitance type touch panel or the like.例文帳に追加

静電容量式タッチパネル等に使用される電極フィルムにおいて、透明導電性薄膜がパターニングされた際に、透明導電性薄膜の有る部分と無い部分での光学特性の差が小さいため、視認性に優れ、かつパターニングが強調されにくい透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive dry film achieving fine patterning on a thick film, reducing loss of a coating liquid in a printing method, improving productivity, and having excellent storage stability by using the photosensitive dry film for forming a light-shielding member, which is conventionally carried out by a printing method.例文帳に追加

本発明は、従来印刷法で行なっていた遮光部材の形成を感光性ドライフィルムで行なうことにより、厚膜であっても微細なパターニングが実現でき、印刷法のような塗液のロスが少なく生産性がすぐれており、かつ保存安定性が優れた感光性ドライフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The production method of the semiconductor device comprises a step for forming a conductive layer 27 on the semiconductor substrate 23 through an insulation film 26, a step for making smooth the surface 27a of the conductive layer 27 by filling recesses in the surface with a material 44 itself shaven off from the surface, and a step for forming the dielectric element by patterning the conductive layer 27 spirally.例文帳に追加

半導体基板２３上に絶縁膜２６を介して導電層２７を形成する工程と、導電層２７の表面２７ａを、該表面から削られた材料自体４４で表面の凹部を埋め込んで平滑化する工程と、導電層２７をスパイラル状にパターニングして誘導素子を形成する工程を有する。 - 特許庁

Thereafter a silicon oxidation film 125 is accumulated, patterning for forming a low resistance diffusion layer for emitter and MOS source/drain taking-out is performed, As+ ion is injected on the emitter part of a bi-polar transistor and the source/drain taking-out part of an NMOS transistor, and BF2+ ion is injected to the source/drain taking-out part of a PMOS transistor.例文帳に追加

その後、シリコン酸化膜１２５を堆積させ、エミッタ及びＭＯＳソース／ドレイン取り出し用の低抵抗拡散層を形成するためのパターンニングを行い、バイポーラトランジスタのエミッタ部とＮＭＯＳトランジスタのソース／ドレイン取り出し部にＡｓ＋イオンを注入し、ＰＭＯＳトランジスタのソース／ドレイン取り出し部にＢＦ２＋イオンを注入する。 - 特許庁