「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(65ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A metal catalyst is provided on a substrate by patterning, using a carbon compound as a carbon source in a reaction atmosphere, from the metal catalyst, a plurality of single-walled carbon nanotubes are formed, so as to produce a single-walled carbon nanotube bulk structure which has been patterned.例文帳に追加

金属触媒を基板上にパターニングして設け、前記金属触媒から反応雰囲気ガス中で炭素源として炭素化合物を用いて、複数本の単層カーボンナノチューブを生成することにより、パターニングされた単層カーボンナノチューブ・バルク構造体を製造する。 - 特許庁

A forgery prevention medium includes a support body, patterning optical anisotropy layers having two or more regions different in birefringence and a printing layer in this order, and a laminated film having a retardation of 50 nm or less is stuck on the printing layer.例文帳に追加

支持体、２つ以上の複屈折性の異なる領域を有するパターニング光学異方性層、および印刷層をこの順に含む偽造防止媒体であって、該印刷層の上にレターデーションが５０ｎｍ以下のラミネートフィルムが貼り合わされている偽造防止媒体。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can simply and efficiently be produced, can reduce the environmental pollution in its production, and enables high resolving patterning, and a polybenzoxazole resin obtained from the photosensitive resin composition.例文帳に追加

簡易かつ効率良く製造することができ、しかも、その製造においては環境汚染を低減することができ、しかも、高解像度でパターンニングすることのできる感光性樹脂組成物、および、その感光性樹脂組成物から得られるポリベンゾオキサゾール樹脂を提供すること。 - 特許庁

The resist-removing composition relates to a composition for removing a resist for patterning metal lines in an electronic circuit or a display element, and the composition contains at least one of alkylene carbonate, tertiary amine and oxidizing agent.例文帳に追加

本発明によるレジスト除去用組成物は、電子回路または表示素子の金属配線をパターン化するレジストの除去用組成物に関し、前記レジスト除去用組成物は、アルキレンカーボネート、および３級アミンおよび酸化剤のうちの少なくともいずれか一つを含む。 - 特許庁

The resin holder is composed of a resin holder joined by an alkoxy silane compound having a thiol group in the front surface, for which patterning exposure is performed.例文帳に追加

樹脂支持体と金属供給用フィルムを用いて作製されたプリント配線基板であって、当該樹脂支持体が、その表面にチオール基を持つアルコキシシラン化合物を結合させた樹脂支持体であり、かつパターニング露光を施されたことを特徴とするプリント配線基板。 - 特許庁

A thermally crosslinked positive photosensitive material layer (first positive photosensitive material layer) and a second positive photosensitive material layer are formed on a substrate and then the second positive photosensitive material layer is patterned followed by patterning of the first positive photosensitive material layer.例文帳に追加

基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層（第１のポジ型感光材料層）と第２のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第２のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第１のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturable when a method for patterning a semiconductor layer by a difference in level of a barrier plate pattern is applied to manufacturing of a bottom-gate/top-contact type organic TFT where a source electrode and a drain electrode are formed by using a printing method.例文帳に追加

隔壁パターンの段差によって半導体層をパターニングする方法を、印刷法を用いてソース電極およびドレイン電極を形成するボトムゲート・トップコンタクト型の有機ＴＦＴの作製に適用して作製可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing laser processing residues and an apparatus for removing laser processing residues with improved burr removal efficiency by bringing burrs generated by laser processing in a patterning step into contact with the tip end parts of brushes of cleaning rolls without fault and thus reliably removing the burrs.例文帳に追加

パターニング工程においてレーザ加工によって発生するバリとクリーニングロールのブラシ先端部との接触を洩れなく行い、バリを確実に除去し得て、バリ除去率を向上したレーザ加工残渣の除去方法およびレーザ加工残渣の除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of the warping indexes of the conductive layer at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.例文帳に追加

ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To decrease patterning defects by preventing the drying and crystallizing of a processing liquid when separating and removing the processing liquid sticking to a substrate by an air knife and preventing the increase of the concentration of the cyclically used processing liquid by the waste gas of a processing chamber.例文帳に追加

基板に付着した処理液をエアナイフで分離除去する際に処理液が乾燥して結晶化するのを防止するとともに、処理室の排気によって循環使用している処理液の濃度が上昇するのを防止し、パターニング不良を低減する。 - 特許庁

The electric field with the mist focusing effect is generated by the modes of forming an electrode face by a recess (25) such as inverse tapered shape outside of the delivery port (12) and of applying different voltage to each electrode by patterning the electrode in the outside of the delivery port (12).例文帳に追加

吐出口（１２）の外側に逆テーパ形状などの凹部（２５）による電極面を形成する態様や、吐出口（１２）の外側に電極をパターニングし、各電極に異なる電圧を印加する態様によってミスト集束効果のある電界を発生させる。 - 特許庁

An insulating film 104, an amorphous semiconductor film 105 for channel formation, an n-type semiconductor film 106 formed as source and drain regions, and a conductive film 107 formed as source wiring and drain electrode are stacked (Fig. (A)), and then subjected to patterning operation with an identical photomask (Fig. (B)).例文帳に追加

絶縁膜１０４、チャネルが形成される非晶質半導体膜１０５、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜１０６及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜１０７を積層し（図（Ａ））、同一のフォトマスクにてパターニングする（図（Ｂ））。 - 特許庁

To provide a manufacturing method in which a polymer EL element of high quality can be manufactured by improving the accuracy and by improving adhesiveness with a transcribed board 7 in patterning and transcription of an ink layer 2 using a relief reversed off-set method.例文帳に追加

凸版反転オフセット法を用いたインク層２のパターニングおよび転写において、その正確性を向上させ、かつ、被転写基板７との密着性を向上させることにより、高品質の高分子ＥＬ素子を製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition device or film deposition system by which highly accurate substrate alignment for accurate patterning can be applied to a large-sized substrate especially having a side having a length exceeding 1 m without depending on a pressure state of an inner part of a vacuum chamber.例文帳に追加

本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。 - 特許庁

To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of the cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a method of measuring non-labeledly an interaction between the biomaterial and a sugar chain concurrently and all-inclusively at real time, using a micro amount of the biomaterial, and of screening and patterning the biomaterial, from the view point of specificity to the sugar chain.例文帳に追加

微量の生体関連物質を用いて、生体関連物質と、糖鎖との相互作用を同時に非標識で、網羅的にリアルタイムで測定し、糖鎖に対する特異性の観点から生体関連物質をスクリーニングする方法やパターニングをする方法を提供する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 17 is formed on the whole surface of a result object on which the gate pattern is formed, and contact holes exposing a gate electrode 9g of the MOS transistor and a specified region of a resistor pattern 9r are formed by patterning the interlayer insulating film 17.例文帳に追加

ゲートパターンが形成された結果物の全面に層間絶縁膜１７を形成し、層間絶縁膜１７をパタニングしてＭＯＳトランジスタのゲート電極９ｇ及び抵抗体パターン９ｒの所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

A fine particle string 14 formed of fine particles 13 of a nano meter size is deposited, whereby in manufacturing the nano device, a solution containing the fine particles 13 is brought into contact with the substrate 11 in which a patterning layer 12 with a predetermined film thickness is partially formed.例文帳に追加

ナノメータサイズの微粒子１３からなる微粒子列１４を堆積させることにより、ナノデバイスの作製する際に、所定の膜厚で構成されるパターニング層１２が部分的に形成されてなる基板１１に対して微粒子１３を含む溶液を接触させる。 - 特許庁

To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.例文帳に追加

ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁

The process of forming the bank B has a process of forming a plurality of layers B1, B2 made of an inorganic material, a process of patterning these plurality of layers B1, B2 by using an organic mask R and a process of removing the organic mask R.例文帳に追加

本発明においては、バンクＢの形成工程は、無機質の材料からなる層Ｂ１，Ｂ２を複数層形成する工程と、これら複数の層Ｂ１，Ｂ２を有機マスクＲを用いてパターニングする工程と、有機マスクＲを除去する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for fixing a particulate substance such as a cell to a line-like pattern by patterning a membrane containing a functional substance having affinity for the particulate substance onto the surface of a solid phase carrier and making the particulate substance absorbed on the surface of solid phase carrier.例文帳に追加

まず粒子状物質に親和性を有する機能性物質を含む膜を固相担体表面にパターニングし、これに粒子状物質を吸着させることによって、細胞等の粒子状物質をライン状のパターンに固定化する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence display device for improving the characteristics of an element by patterning a multilayer organic film by a heat transfer system, optimizing thickness for each of R, G, and B pixels, and using a B emission layer as a common layer, and to provide a method for manufacturing the organic electroluminescence display device.例文帳に追加

多層の有機膜を熱転写方式によりパターニングし、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素ごとに厚さを最適化させ、Ｂ発光層を共通層として用い、素子の特性を向上させられる有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁

The electrolytic copper foil for fine patterning is produced by cold rolling an original electrolytic copper foil, exposing crystal grains having grain size of not larger than 2 μm over the entire surface, and not smaller than 2% for manufacturing degree, thereby smoothing the foil surface.例文帳に追加

ファインパターン用電解銅箔であって、平均粒径２μm以下の結晶粒が全面に渡り表出している電解銅箔の未処理銅箔を原箔とし、２％以上の加工度の冷間圧延加工を行い該箔表面を平滑化したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method with a high yield suppressing a defect at a multi-layered connection position in manufacturing a multi-layer POP structure semiconductor device by multi-layering the semiconductor device in the state of a multiple patterning wiring substrate package, and thereafter cutting it by collective cutting.例文帳に追加

多数個取り配線基板実装パッケージの状態で多層化し、その後、一括切断による個片化をおこなって多層ＰＯＰ構造半導体装置を製造するとき、多層化接続個所での欠陥を抑止した、高歩留りでの製造方法を提供する。 - 特許庁

The fixed pins 3 are disposed at positions, as viewed in a flat plane, which overlap on an outer peripheral edge L1 located outside the effective area of the large-sized substrate placed on the substrate placing stage, and are also disposed at positions which overlap on a cut scheduled line L2 where the large-sized substrate is subjected to two-face patterning.例文帳に追加

この固定ピン３の平面視での位置は、この基板載置ステージに載置される大型基板の有効エリア外となる外周縁Ｌ１に重なる位置に配置され、また大型基板を２面取りする裁断予定線Ｌ２に重なる位置にも配置されている。 - 特許庁

Furthermore, after a surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc., are formed in order, these are patterned by dry etching a contact hole for connecting the region 4 and a source electrode is formed simultaneously with patterning of the electrode 7.例文帳に追加

さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ^+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing elements with high yield by carrying out patterning simply and in high precision on a flexible board, and to provide a manufacturing method of a display device capable of displaying in high definition while having flexibility by using the same.例文帳に追加

可撓性基板上に簡単且つ高精度にパターニングを行って高い歩留りで素子を製造することができる方法、及びそれにより可撓性を有するとともに高精細な表示を行うことができる表示装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the analog capacitive element added to a DRAM cell part, a lower electrode 5 is formed with a gate electrode 4, the side wall insulating film 9 of a connection hole with a capacity insulating film 10 and an upper electrode 12 with a bit line by common materials/patterning.例文帳に追加

ＤＲＡＭセル部に対して、付け加わるアナログ容量素子を、下部電極５はゲート電極４と、接続孔の側壁絶縁膜９は容量絶縁膜１０と、上部電極１２はビット線と、それぞれ共通の材料・パターニングにより作製する構造とする。 - 特許庁

After formation of a thick resin film 5 and an upper layer contact hole 51 that penetrates the film, formation of a lower layer contact hole 41 that penetrates a gate insulation film 15 and patterning of an ITO film for the purpose of forming a transparent pixel electrode are performed all together, under one resist pattern 8.例文帳に追加

厚型樹脂膜５及びこれを貫く上層コンタクトホール５１の形成後に、一つのレジストパターン８の下で、ゲート絶縁膜１５を貫く下層コンタクトホール４１の作成と、透明画素電極形成のためのＩＴＯ膜のパターニングとを一括して行う。 - 特許庁

A wiring pattern containing pads 2g is formed by patterning the metal layer 5 which has been used as a mask, at least a passivation film 6 is formed on the surface of the semiconductor substrate 1 where the empty groove 4 is formed, and an opening is provided to the passivation film 6 to make the pads 2g exposed.例文帳に追加

マスクとして用いられた金属層５をパターニングしてパッド２ｇを含む配線パターンを形成し、空堀４が形成された半導体基板１表面に少なくとも１層のパッシベーション膜６を形成し、パッシベーション膜６を開口して前記パッド２ｇを露出させる。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate for a display panel is provided with a film forming step to form an organic insulating film on a light transmitting substrate and a patterning step to pattern the organic insulating film so as to form first openings and second openings smaller than the first openings penetrating the organic insulating film.例文帳に追加

表示パネル用基板製造方法は光透過性基板上に有機絶縁膜を形成する成膜工程と、第１開口および第１開口よりも小さい第２開口が有機絶縁膜を貫通して形成されるように有機絶縁膜をパターニングするパターニング工程とを備える。 - 特許庁

Since the fine solder thin-film patterns 104-1 to 104-8 can be formed on the substrate by patterning, a minute solder bump having an excellent profile precision can be obtained by bonding and laminating them, resulting in enabling high-density connection without causing defective connections and short-circuits.例文帳に追加

パターニングによって基板上に微細なはんだ薄膜パターン１０４-1〜１０４-8を形成することができるので、これらを接合して積層することにより、形状精度に優れた微小な金属バンプが得られ、接続不良や短絡を招くことなく、より高密度な接続が可能となる。 - 特許庁

Disclosed is the manufacturing method in which a translucent film and a light shielding film, and an intermediate film stopping etching using chlorine system upon occasion are provided, and chlorine-based gas and fluorine-based gas are used in combination as dry etching gas to carry out patterning in sequence without damaging a lower layer.例文帳に追加

透明基板上に、半透過膜と遮光膜と、必要に応じて塩素系ガスのエッチングを停止する中間膜とを設け、ドライエッチングガスとして塩素系ガスとフッ素系ガスを交互に組み合わせて、順次、下層に損傷を与えないようにパターン化していく製造方法を特徴とする。 - 特許庁

A blank 10 with a light shielding film 21 and a regist layer 31 formed on a transparent substrate 11 is prepared, a mask 20 having a light shielding pattern 21a and transmission regions 22 formed on the transparent substrate 11 is produced by carrying out a series of patterning procedures, and the mask 20 is inspected and corrected.例文帳に追加

透明基板１１上に遮光膜２１及びレジスト層３１が形成されたブランク１０を準備し、一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上に遮光パターン２１ａ及び透過領域２２が形成されたマスク２０を作製し、マスク２０の検査、修正を行う。 - 特許庁

The method for patterning the organic thin-film that includes a step for forming the organic thin film on a substrate, a step for selectively printing a masking material on a part of the organic thin film, a step for dry-etching a portion exposed out of the organic thin film, and a step for removing the masking material.例文帳に追加

基板上に有機薄膜を形成するステップ、有機薄膜の一部分上にマスク物質を選択的にプリンティングするステップ、有機薄膜のうち露出された部分をドライエッチングするステップ、及びマスク物質を除去するステップを含む有機薄膜のパターニング方法である。 - 特許庁

A CP selective deflector 32 deflects the electron beam surely from the sample surface during the beam blanking period in order to adjust the synchronization error during the beam blank period, so that the synchronization error of a plurality of electrodes of the deflector 32 is below an allowable value, thus surely preventing the patterning failure due to the beam leakage.例文帳に追加

CP選択偏向器３２の複数の電極部の同期誤差が許容値以下となるように、ビームブランク期間内に同期誤差の調整を行うため、ビームブランク期間に確実に電子ビームを試料面からそらすことができ、ビーム漏れによるパターニング不良を確実に防止できる。 - 特許庁

To provide a multiple-patterning electronic device that stably and firmly sucks a ceramic mother board to a suction table for fixing without shaking when fixing the ceramic mother board onto the suction table for mounting an electronic component, and can accurately and easily mount the electronic component in each wiring substrate region.例文帳に追加

電子部品を搭載するための吸引テーブル上に固定した際に、セラミック母基板がぐらつくことがなく吸引テーブルに安定して強固に吸引固定され、各配線基板領域に電子部品を正確かつ容易に搭載することが可能な多数個取り電子装置を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the RF power detecting device comprises a step of forming the sensor section for detecting power of the RF signal in the lower substrate; a step of patterning the signal transmission line on the upper substrate; and a step of bonding the upper substrate and lower substrate to each other.例文帳に追加

本発明によるＲＦパワー検出装置の製造方法は、下部基板にＲＦ信号パワーを検出するためのセンサ部を形成する段階と、上部基板に信号伝送線をパターニングする段階と、前記上部基板と下部基板とを結合する段階とを含む。 - 特許庁

At the coating starting part, the timing of paste discharge and the timing of starting relative movement of a die head 12 and a substrate 11 are controlled so as to eliminate a region where the coating film thickness is unstable and carry out patterning while stably keeping a prescribed coating film thickness uniform from the coating starting point.例文帳に追加

塗布始端部においては、液送ポンプ１４のペースト吐出とダイヘッド１２と基材１１の相対移動開始のタイミングを制御することにより、塗布膜厚の不安定領域をなくし、塗布開始位置より所定の塗布膜厚を安定して均一にパターニングする。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition which can be forming a highly flat cured film on a substrate, even on a substrate with low surface flatness, and be suitably used for manufacturing a protective film of a color filter which is highly transparent and enables good patterning of a wiring electrode.例文帳に追加

表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性が高く、配線電極のパターニング特性が良好なカラーフィルタの保護膜を製造するために好適に用いられる熱硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The polyamic acid achieves thick film formation and high resolution patterning because of its low molecular weight, and since the ethynyl or ethynylene group becomes a reactive crosslinking portion and causes three-dimensional crosslinking in heat imidation, the strength of the resulting film can be enhanced.例文帳に追加

このポリアミド酸は、低分子量であるため、皮膜を厚膜で形成して、高解像度でのパターン化を実現することができ、また、加熱イミド化時には、エチニル基またはエチニレン基が反応性の架橋部位となって３次元架橋するので、得られる皮膜の強度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A positioning method includes a step of executing part of a positioning procedure on a part of a substrate or on a part of a patterning device by using part of a positioning mechanism in a lithography device until the substrate or part of a lithography device or a part in the lithography device is thermally stabilized within a certain limit.例文帳に追加

この方法は、基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む。 - 特許庁