「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索

In this case, when patterning of the wiring layer is applied in the external layer, laser treatment is adopted to partly remove a conductive film in the external layer and an insulating material so as to expose the confirmation hole 14 to the outside.例文帳に追加

更に本形態では、外層の配線層のパターニング等を行う際に、レーザー加工により、外層の導電膜および絶縁材料を部分的に除去して確認孔１４を外部に露出させている。 - 特許庁

To provide a substrate for a vertical magnetic recording medium being superior in flatness, patterning accuracy, and mechanical strength, and its manufacturing method, and a vertical magnetic recording medium using the substrate and its manufacturing method.例文帳に追加

平坦性、パターニング精度および機械的強度に優れた垂直磁気記録媒体用基板およびその製造方法、並びに、その基板を用いた垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The lithography equipment comprises a vacuum housing for providing a vacuum environment for a supporting portion or a substrate table structured such that a patterning apparatus is supported, a projection system, or its arbitrary combination.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターン化機器を支持するように構築された支持部又は基板テーブル或いは投影システム若しくはそれらの任意の組合せに真空環境を提供するための真空ハウジングを備えている。 - 特許庁

To provide a deposited mask that allows high-accuracy patterning, and has a thin precise pattern mask, and its manufacturing method, and to provide organic electroluminescent equipment with a high numerical aperture by using the deposited mask.例文帳に追加

高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 - 特許庁

After that, the carrier tape is separated from the circuit pattern, the solder resist 22 is also formed at the external terminal formation side of the circuit pattern for patterning, and the external connection terminal formation region on the other surface of the circuit pattern is exposed.例文帳に追加

その後、キャリアテープを回路パターンから剥離し、回路パターンの外部端子形成側にもソルダレジスト（２２）を形成しパターニングを行って、回路パターンの他面の外部接続端子形成領域を露出させる。 - 特許庁

When patterning a microlens material by means of photo-lithography, the microlens material is exposed (defocused) while shifting a focal position of exposure just by an arbitrary distance, so that after development, the microlens material obtains a pattern shape and a curvature radius as desired.例文帳に追加

マイクロレンズ材をフォトリソグラフィー技術によりパターニングする際、露光の焦点位置を任意の距離だけずらして露光する（デフォーカス）ことにより、現像後、マイクロレンズ材に所望のパターン形状と曲率半径を得る。 - 特許庁

The method and the equipment for lithography comprises an illumination system which supplies a beam of radiation, a patterning device which patterns the beam, and a projecting system which projects the patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。 - 特許庁

As a result, the fine patterning in a few μm or the like is made possible, and a plurality of CNT emitter regions can be formed in a single pixel and a uniformity of electron emission can be improved.例文帳に追加

このような構成により、数μｍ程度の微細パターニングが可能であり、１つのピクセル内に複数のＣＮＴエミッタ領域を形成することができるので、電子放出の均一度を向上させることができる。 - 特許庁

Therefore, an expensive circuit board, which was necessary in a conventional apparatus, is not necessary, and a process for patterning the wiring pattern and a process for connecting the external terminals to the wiring pattern are not necessary when the apparatus is manufactured.例文帳に追加

したがって、従来装置で必要とされた高価な回路基板が不要であり、しかも、装置を製造する際に、配線パターンをパターニングする工程、および、外部端子を配線パターンに接続する工程が不要である。 - 特許庁

To prevent the leakage of abrasives from a slit opening through which a supply piping system for the abrasives passes during sandblast machining for patterning ribs of a plasma display panel, without giving ill effect to a substrate being machined.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのリブをパターニングするサンドブラスト加工時に、加工中の基板に悪影響を与えることなく、研削材の供給配管系が通るスリット状開口部からの研削材漏れを防止できるようにする。 - 特許庁

An oxidized film 12, having openings 13 at places on which trenches 14 are to be formed, is formed by a patterning process as a hard mask for etching upon forming the trenches 14 on the surface of a silicon substrate 11 by etching.例文帳に追加

シリコン基板１１の表面にトレンチ１４をエッチングで形成する際のエッチング用ハードマスクとして、トレンチ１４を形成すべき箇所に開口１３を有する酸化膜１２をパターニング工程で形成する。 - 特許庁

Further, the translucent layer 2c is subjected to the patterning treatment, by which the halftone type phase shift mask 10 having the shading regions 2a, the translucent regions 2b and apertures 3 on the transparent substrate 1 is obtained.例文帳に追加

さらに、半透明層２ｃをパターニング処理して、透明基板１上に遮光領域２ａ、半透明領域２ｂ及び開口部３を有する本発明の遮光領域つきハーフトーン型位相シフトマスク１０を得る。 - 特許庁

To provide a simple and easy method by which pattern edges can be sharply exposed at a user's request in a patterning technique by photolithography in the vacuum deep UV region, therefore a fine pattern can be accurately formed.例文帳に追加

真空深紫外線領域でのフォトリソグラフィー手法によるパターニング技術において、パターン端が所望通りに綺麗に露光でき、もって微細なパターンを正確に描画できる簡便な手法の確立が課題である。 - 特許庁

The surface of the substrate 1 is patterned by irradiating the surface of the substrate 1 with ultraviolet rays 3 through an exposure mask 30, while bringing ozone water 2 into contact with the surface of the substrate 1 to which the exposure patterning is to be performed.例文帳に追加

露光パターニングしようとする基板１の表面にオゾン水２を接触させながら、紫外線３を露光マスク３０を介して基材１の表面に照射して、基材１の表面をパターニングする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent substrate with a circuit pattern, having a circuit pattern not generating a disconnection when used as an electrode of an electronic circuit, etc., without pattern exfoliation and residual resist, and with good patterning accuracy.例文帳に追加

パターン剥がれやレジスト残りがなくパターン精度が良好で、電子回路等の電極として用いたときに断線を生じない回路パターンを有する回路パターン付き透明基板を製造する方法の提供。 - 特許庁

For patterning such a configuration on the printed circuit board 1, a temperature detection circuit 12 is composed of a constant-current circuit, and the thermistor TH1 is connected to the drain of the power MOSFET Q2 whose temperature should be measured.例文帳に追加

また、プリント基板１上に、このような構成をパターン化するために、温度検出回路１２を定電流回路で構成し、サーミスタＴＨ１を温度測定対象であるパワーＭＯＳＦＥＴＱ２のドレインに接続する。 - 特許庁

Thus, Cu electrode can be formed precisely and with high production efficiency by patterning A1 easy to work and burying Cu in a part where the A1 pattern never exists and removing the A1 pattern.例文帳に追加

このように、加工が容易なＡｌをパターニングし、Ａｌパターン２が存在しない部分にＣｕを埋め込んでＡｌパターン２を除去することで、高精度でかつ高い生産効率でＣｕ電極を形成することができる。 - 特許庁

The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.例文帳に追加

作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

In a lithography method for manufacturing such product as a semiconductor device or a mask for lithography, etc., a material is applied to a substrate for patterning, and a product is manufactured by a series of steps using a patterned layer.例文帳に追加

半導体デバイス又はリソグラフ用マスクのような製品を製造するためのリソグラフ方法において、基板上に材料を塗布し、パターン付けし、パターン付層を用いる一連のステップにより製品を製造する。 - 特許庁

The substrate is subsequently annealed typically in vacuo at a temperature dependent on the particular patterning material, such as a carbide-forming temperature, a carbon-dissolution temperature or a low melting point metal-melting temperature.例文帳に追加

次に、基板は典型的な場合真空中で、具体的なパターン形成材料に依存した温度、たとえばカーバイド形成が起こる温度、カーボン分解が起こる温度又は低融点金属が溶融する温度で、アニールされる。 - 特許庁

According to the principle of this invention, it becomes possible to form the low resistance metallic film on the whole surface of the data wiring and the source electrodes by using a diffracting exposure method in the process for patterning the data wiring and the source electrodes.例文帳に追加

本発明の原理に従えば、データ配線及びソース電極をパターンする工程で回折露光方式を用いて、データ配線及びソース電極の全面に低抵抗金属膜を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element that prevents a tunnel insulating film formed on a lower part thereof from being damaged when patterning a charge storage film.例文帳に追加

本発明は、電荷貯蔵膜をパターニングする時に下部に形成されたトンネル絶縁膜が損傷するのを防止することができる半導体素子の製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

A layer insulating film 70 containing an impurity is formed on a semiconductor wafer 44, and a pad contact hole for exposing a prescribed area on the semiconductor wafer 44 is formed by patterning the layer insulating film 70.例文帳に追加

半導体基板４４の上に不純物を含む層間絶縁膜７０を形成し、層間絶縁膜７０をパターニングして半導体基板４４の所定領域を露出させるパッドコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

When the predetermined voltage is applied between the electrodes, the coloring material of the electrolyte existing in the patterning portions of sheet body 4 causes the change in the optical absorption or optical reflection, thereby performing the display of the desired pattern in a specific color.例文帳に追加

電極間に所定の電圧を印加すると、シート体のパターニング部分にある電解質の発色材料が光学的吸収や光学的反射を変化させ、特定色で所望パターンの表示が行なわれる。 - 特許庁

A processor combines measurements of relative positions of the plurality of marks to provide measurement results with sufficient accuracy for positioning at least a first substrate portion to the alignment sensor at the patterning position.例文帳に追加

プロセッサは複数の前記マークの相対位置の測定を組み合わせ、前記パターニング位置で少なくとも最初の基板部分を前記アライメントセンサに対して位置決めするのに十分な正確さで測定結果を提供する。 - 特許庁

The mask patterns of the photomask used in patterning wiring patterns by the photolithography process step are subjected to correction of the mask patterns by dividing the photomask to ≥2 regions and determining correction parameters by each of the respective regions.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程により配線パターンをパターニングする際に使用するフォトマスクのマスクパターンについては、フォトマスクを２以上の領域に分割し、各領域毎に補正パラメータを求めてマスクパターンの補正を行う。 - 特許庁

Scanning part of a laser beam is determined such that at least part obtained by patterning can be crystallized and then the semiconductor film is crystallized partially by projecting the beam spot to the scanned part.例文帳に追加

そして、少なくともパターニングすることで得られる部分を結晶化することができるようにレーザー光の走査部分を定め、該走査部分にビームスポットがあたるようにし、半導体膜を部分的に結晶化する。 - 特許庁

The plurality of the photoelectric conversion cells 10, and a plurality of the photoelectric conversion cells 10 and the periphery part 100R of the photovoltaic apparatus 100 are separated by the isolation grooves G1-G3 formed by laser patterning.例文帳に追加

分離溝Ｇ１〜Ｇ３は、レーザパターニングにより形成され、複数の光電変換セル１０間および複数の光電変換セル１０と光起電力装置１００の外周部１００Ｒとの間を分離している。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises a process of forming the wiring layer on a semiconductor substrate, a process of patterning the wiring layer, and a process of covering the wiring layer with a protective insulating film.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上に配線層を形成する工程と；前記配線層をパターニングする工程と；前記配線層を保護絶縁膜で覆う工程とを含む。 - 特許庁

The copper foils are treated by patterning, wiring leads and the like are formed, the wiring leads are performed an electrolytic gold plating treatment or the like to form wiring patterned units 13a, 13b and 13c and a film carrier tape is formed.例文帳に追加

銅箔をパターニング処理し配線リード等を形成し、配線リードを電解金めっき処理等を行って、配線パターンユニット１３ａ、１３ｂ及び１３ｃを形成し、本発明のフィルムキャリヤテープを作製する。 - 特許庁

A processing apparatus comprises a laser irradiator 10 for patterning a laser beam into an elongated shape having a scheduled processing line in the longitudinal direction and irradiating the scheduled processing line on a brittle material substrate with the patterned laser beam.例文帳に追加

加工装置は、レーザビームを加工予定線が長手方向である細長い形状にパターニングし、パターニングされたレーザビームを脆性材料基板の加工予定線上に照射するレーザ照射装置１０を備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, which can form dual oxide by a simplified process of forming and patterning a protection film such as a photosensitive organic film and forming an oxide film once.例文帳に追加

感光性有機膜等の保護膜の成膜及びパターニングと１回の酸化膜形成という単純化された工程によってデュアルオキサイドを形成することができる半導体装置の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck device which can provide a patterning process of increasing a product yield, and stabilizing dry etching by controlling discharge in the interior of an He gas supply hole.例文帳に追加

Ｈｅガス供給穴内部での放電を制御して、製品の歩留りを向上させ、ドライエッチングによる安定したパターンニング工程を提供することができる静電チャック装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

Etching masks 5, corresponding to individual patterns, are formed by patterning on the whole surface of a conductive material 14 including a peripheral region not requiring pattern formation, and patterns are formed by etching on the whole surface of a substrate 3.例文帳に追加

個々のパターンに対応するエッチングマスク５をパターンを形成する必要のない導電性材料１４の外周領域まで含めた全面にパターニングし、エッチングによって基板３の全面にパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chucking device which is resistant to a corrosive substance and can keep high insulation in the gap of an electrode pattern and respond to fine patterning of the electrode pattern.例文帳に追加

腐食性物質に対する耐蝕性があり、電極パターンの間隙における絶縁性を高く維持することが可能であり、これによって電極パターンの微細化に対応可能な構造の静電吸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TFT array substrate in which a process is simplified by directly exposing and patterning a protective film without using a photoresist, and the unit price of the process is reduced, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

フォトレジストを用いることなく保護膜を直接露光及びパターニングすることによって工程を簡素化し工程単価を節減することができるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.例文帳に追加

より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、電子デバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive pattern generation method that eliminates the need for using a printer for patterning and its complicated process, and enables easy generation and miniaturization of conductive patterns.例文帳に追加

パターニングのための印刷装置を用いず、またそれによる複雑な処理工程を必要とすることなく、導電パターンの生成を簡易に行え、導電パターンの微細化を実現できる導電パターンの生成方法を提供する。 - 特許庁

To improve accuracy in printing position of an alignment film (patterning) and to improve uniformity in the thickness thereof in a liquid crystal display device in which the alignment film is printed by an alignment film printing system which is noncontact with respect to a substrate.例文帳に追加

基板に対して非接触な配向膜印刷方式によって配向膜を印刷する液晶表示装置における、配向膜の印刷位置（パターニング）精度を良くし、さらにその膜厚の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.例文帳に追加

より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、薄膜トランジスタ、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

Then, the substrates 14A, 14B are removed with an etching liquid, and patterning of the laminate 60 is executed, in a state where the laminate 60 is held by a Si single-crystal substrate 14C prepared differently.例文帳に追加

そして、Ｓｉ単結晶基板１４Ａ，１４Ｂをエッチング液によって除去し、別途用意したＳｉ単結晶基板１４Ｃによって積層体６０が保持された状態で、積層体６０のパターニングをおこなう。 - 特許庁

Since a material, having a low adhesive property to particles, is used for forming the protective film 6 the adhesion of the particles to, particularly, the opening 5 of the mask pattern can be suppressed and the accuracy of the patterning can be improved.例文帳に追加

保護膜６の材料としてパーティクルとの密着性の低い材料を用いることにより、特にマスクパターンの開孔５へのパーティクルの付着を抑えることができ、パターニング精度を向上させることができる。 - 特許庁

After removal of the first resist pattern, a first light transflective film 16 is formed throughout a surface of the substrate, and second patterning is performed by etching at least the first light transflective film with a second resist pattern formed on the film 16 as a mask.例文帳に追加

第１レジストパターンを除去後、基板全面に第１半透光膜１６を形成し、その上に形成した第２レジストパターンをマスクとして少なくとも第１半透光膜をエッチングして第２のパターニングを行う。 - 特許庁