「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

The other substrate 3 is manufactured by patterning and forming transparent electrodes 16 for display by the photolithography method using the mask on the one surface 15a of the plastic substrate 15 having the translucency.例文帳に追加

他方基板３は、透光性を有するプラスチック基板１５の一方表面１５ａにマスクを使用してフォトリソグラフィ法によって表示用透明電極１６をパターン形成して作製される。 - 特許庁

Silicon oxide films 14a and 14b are formed by patterning a silicon oxide film after forming a silicon oxide film 4, a polysilicon film 5, and the silicon oxide film 6 in this order on a silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン酸化膜４、ポリシリコン膜５、及びシリコン酸化膜６をこの順にシリコン基板１上に形成した後、シリコン酸化膜６をパターニングすることにより、シリコン酸化膜１４ａ，１４ｂを形成する。 - 特許庁

To provide reticle inspection technology with which the positional relation between patterns can be evaluated for patterns that may be turned into defects on exposure to a sample such as wafer in double patterning technology in the same layer.例文帳に追加

同一レイヤーへのダブルパターニング技術において、ウエハ等の試料への露光時に欠陥となりうるパターンについてパターン間の位置関係の評価を可能にするレチクル検査技術を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition device which can deposit a molybdenum layer suitably removable when performing patterning using a LASER scribe method, and a film deposition substrate manufacturing method and a film deposition substrate.例文帳に追加

ＬＡＳＥＲスクライブ法を用いてパターニングする際に、好適に除去できるモリブデン層を成膜可能な成膜装置、成膜基板製造方法、及び成膜基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

Grooves 500 are formed on a color filter of a liq. crystal display device by patterning and, with common electrodes formed on the same, a groove is formed on the common electrode in a patterned part of the color filter.例文帳に追加

液晶表示装置のカラーフィルタをパタニングして溝５００を形成し、その上に共通電極を形成しカラーフィルタがパタニングされた部分において共通電極に溝を形成させる。 - 特許庁

To provide a resist protective film material for forming a protective film on a photoresist film to protect the photoresist film in liquid immersion photolithography, and a patterning method using the material.例文帳に追加

本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。 - 特許庁

The method of manufacturing an extreme-ultraviolet photomask includes a step of forming an upper pattern 45, having an inclined sidewall by patterning an upper film, after forming the upper film on a photomask substrate 10.例文帳に追加

極紫外線フォトマスクの製造方法は、フォトマスク基板１０上に上部膜を形成した後、上部膜をパターニングして傾いた側壁を有する上部パターン４５を形成する段階を含む。 - 特許庁

An amorphous semiconductor film for channel formation, an n-type semiconductor film formed as source and drain regions, and a conductive film formed as source wiring and drain electrode are stacked and then subjected to patterning operation using the same photomask.例文帳に追加

チャネルが形成される非晶質半導体膜、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜を積層し、同一のフォトマスクにてパターニングする。 - 特許庁

A process for manufacturing the metal structure using the trenches carries out the etching of a semiconductor substrate in a desired depth and width through patterning from the top of the semiconductor substrate in the lower direction to form trenches.例文帳に追加

トレンチを用いた金属構造物の製造工程は、トレンチを形成するために半導体基板の上部から下方向にパターニング過程を経て希望する深さおよび幅に食刻を行う。 - 特許庁

First, patterning process is performed to form plural two-dimensionally disposed micro lens surfaces on the surface of a first optical resin layer 2 having a first refractive index and disposed on a transparent substrate 1.例文帳に追加

先ずパタニング工程を行ない、透明な基板１の上に配された第一の屈折率を有する第一光学樹脂層２の表面に、二次元的に配された複数のマイクロレンズ面を形成する。 - 特許庁

To provide partial metallic holograms of a high design characteristic by easily and inexpensively forming light reflection layers and further patterning and forming the light reflection layers and hologram regions to arbitrary shapes.例文帳に追加

光反射層を簡便かつ安価に形成し、さらには光反射層とホログラム領域を任意の形状にパターン形成した意匠性の高い部分メタリックホログラム、およびその製造方法を提供する - 特許庁

The 2nd electrodes are arranged above the 1st electrodes and supported by the patterning supporting layer so that air gaps having the same thickness are formed between the whole pair of the 1st electrodes and the 2nd electrodes.例文帳に追加

第二電極は第一電極の上方に配置され、かつ等しい厚みを持つエアー・ギャップが第二および第一電極の総ての対の間に作られるように、パターン化支持層によって支持される。 - 特許庁

These trapezoidal protruded parts 7a and 7b are formed by patterning the surface of a p-AlGaInP clad layer 5 with the same photoresist etching process as for the pattering of the current mesa stripe 6.例文帳に追加

この台形凸部７ａ、７ｂはｐ−ＡｌＧａＩｎＰクラッド層５の表面を電流メサストライプ部６のパターニングと同一のフォトレジスト・エッチング工程によりパターニングすることによって形成されている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which can have a source wire, source electrodes, and a drain electrode formed in a single patterning stage without increasing the contact resistance between the drain electrode and a pixel electrode.例文帳に追加

ドレイン電極と画素電極とのコンタクト抵抗を増大させずに、ソース配線、ソース電極およびドレイン電極を一回のパターニング工程で形成できる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

A double refraction layer is formed on a substrate and reactive ion etching is performed after a desired patterning is performed onto the double refraction layer to form a plurality of pits having different depth in the surface of the double refraction layer.例文帳に追加

基板上に複屈折層を形成し、当該複屈折層に所望のパターニングをした後に反応性イオンエッチングを施すことによって複屈折層に深さの異なる複数のピットを形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal cell for color display having a retardation layer with a patterning structure that gives an ideal retardation value even in a single layer, and to provide a liquid crystal display device using the liquid crystal cell.例文帳に追加

一層でも理想的なレターデーション値を付与するパターニング構造の位相差層を備えるカラー表示用の液晶セルを提供し、該液晶セルを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

At the time of the patterning, a mask pattern is set in such a manner that the edge part of the 1st metallic film 120 retreats by prescribed dimensions from the part held by a cramp 210 on the peripheral part of the substrate 100.例文帳に追加

このパターニングに際して、基板１００の周縁部のクランプ２１０で保持される部分から第１金属膜１２０のエッジ部が所定寸法後退するようにマスクパターンを設定する。 - 特許庁

To provide a filter of a color conversion system capable of simplifying manufacturing processes and simultaneously patterning of high fineness and improving the efficiency of color conversion concerning respective primary colors and a display.例文帳に追加

製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とし、各原色に関する色変換の効率を向上させることが可能な色変換方式のフィルタ、およびディスプレイの提供。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the first metallic layer 43 to have the width W1 through the use of an anisotropic etching method, and then, the gate electrode with the lamination structure is formed ((c) in Fig.5).例文帳に追加

次に、感光膜４７をマスクとして第１金属層４３を異方性エッチング方法で幅（Ｗ１）を持つようにパターニングして積層構造のゲート電極を形成する（図５（ｃ））。 - 特許庁

Protein including a metal is patterned on a semiconductor substrate as a result of including steps for patterning a charged material, and adsorbing protein including a metal to the charged material.例文帳に追加

電荷を帯びた材料をパターニングし、電荷を帯びた材料に、金属内包タンパク質を吸着させる工程を含むことにより、結果的に金属内包タンパク質を半導体基板にパターニングするものである。 - 特許庁

To provide an arrangement of an alignment mark that has improved compatibility with extreme dipolar illumination settings and also with less extreme settings to be used in the other patterning step during lithography processing.例文帳に追加

極端ダイポール照明設定と、またリソグラフィ処理中の他のパターニングステップ中に使用することができるあまり極端でない設定と、改善された互換性を有するアライメントマークの構造。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an image sensor capable of performing fine patterning while enhancing a fill factor even if roughness or uniformity is not improved by a CMP or WET process.例文帳に追加

本発明は、フィルファクターを高めながら、ＣＭＰやＷＥＴ工程による粗さやユニフォーミティの改善を施さなくても、微細パターニングすることができるイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic semiconductor layer which can be applied to general organic semiconductor layers or photoresist without using a special protective material such as parylene and can minimize deterioration in performance of the organic semiconductor layer due to patterning, and further to provide a method of manufacturing an organic semiconductor device, an organic semiconductor pattern formed based on that method and an organic semiconductor device, and a display device.例文帳に追加

パリレンなどの特殊な保護材料を用いず、一般的な有機半導体層やフォトレジストに適用でき、パターニングによる有機半導体層の性能低下を抑制できる、有機半導体層のパターニング方法及び有機半導体装置の製造方法を提供し、更にこの方法に基づいて作製された有機半導体パターン及び有機半導体装置、並びに表示装置を提供すること。 - 特許庁

Further, said semiconductor device is manufactured in the steps of: forming a conductive film and a dielectric film in order; forming a laminated film different conductive films in shape of at least 2 layers or more crystal particles; forming the upper electrode 4 by patterning the laminated film; and forming the capacity insulating film 3 and the lower electrode 2 by patterning the dielectric films and the conductive films in order.例文帳に追加

また、基板１上に導電膜と誘電体膜を順次形成し、少なくとも２層以上の結晶粒形状の異なる導電膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを順次成膜して積層膜を形成し、この積層膜をパターニングして上部電極４を形成し、誘電体膜と導電膜を順次パターニングして容量絶縁膜３及び下部電極２を形成して上記半導体装置を製造する。 - 特許庁

The substrate for patterning comprises the substrate material and the cell culture patterning layer that is formed on the substrate, at least has photocatalytic action and the cell adhesion-inhibitory action to inhibit the cell adhesion, further includes a cell adhesion inhibitor that decomposes or modifies the cells by the action of the photocatalyst activated by energy radiation.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒および、細胞と接着することを阻害する細胞接着阻害性を有しかつエネルギー照射に伴う光触媒の作用により分解または変性される細胞接着阻害材料を含有する細胞培養パターニング用層とを有することを特徴とするパターニング用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having metal wires formed on an upper layer wire by RIE using tungsten as a contact burying material in which tungsten can be prevented from being etched by chemical due to the misalignment of a pattern at the time of patterning the upper layer interconnect, no inclusion margin is required at the time of patterning the upper layer interconnect, and the reduction of a pattern size is facilitated.例文帳に追加

コンタクト埋め込み材としてタングステンを用い、その上層配線にRIEを用いて加工するメタル配線をもつ半導体装置の製造に際して、上層配線のパターニングの際にパターンの合わせずれに起因してタングステンが薬液でエッチングされてしまうことを防止でき、上層配線のパターニングの際に包含余裕をとる必要がなくなり、パターンサイズの縮小が容易になる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid jet head includes a step of laminating a first metal layer 191 enhancing adhesion and a second metal layer 192 serving as wiring on one surface of a channel formation substrate 10 where a piezoelectric actuator is formed, a step for patterning the second metal layer 192 by wet etching, and a step for patterning the first metal layer 191 by dry etching.例文帳に追加

圧電アクチュエーターが一方面に形成された流路形成基板１０の当該一方面に密着を向上する第１の金属層１９１と、配線となる第２の金属層１９２とを積層する工程と、前記第２の金属層１９２をウェットエッチングによりパターニングする工程と、前記第１の金属層１９１をドライエッチングによりパターニングする工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

This application provides this method for manufacturing a plasma display panel characterized by comprising steps of: forming a barrier rib material on a lower plate, on which address electrodes and a dielectric are provided; forming a black top material comprising a photosensitive material on the barrier rib material; patterning the black top material to form the black tops; and patterning the barrier rib material using the black tops to form the barrier ribs.例文帳に追加

アドレス電極と誘電体が備えられた下板上に隔壁材料を形成する段階と、前記隔壁材料上に、感光性材料を含むブラックトップ材料を形成する段階と、前記ブラックトップ材料をパターニングしブラックトップを形成する段階と、前記ブラックトップを用いて前記隔壁材料をパターニングする段階とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter substrate by which patterning processes such as pattern exposure and development are performed to form alignment controlling protrusions by using an exposure mask having a pattern exposure region where transmittance is changed stepwise in an alignment controlling protrusion forming step for forming the alignment controlling protrusions by performing the patterning processes such as pattern exposure and development to a transparent photosensitive resin layer.例文帳に追加

透明感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成する配向制御突起形成工程において、段階的に透過率が変化するパターン露光領域を有する露光マスクを用いて、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

In a method for forming a pattern of a film, a patterning region is formed by applying a triazine compound on a substrate and then irradiating a desired region in the substrate, where the triazine compound is applied, with ultraviolet rays, and a film of an inorganic nanoparticle is formed in the desired region by immersing the substrate in an inorganic nanoparticle dispersion so that the inorganic nanoparticle is bonded to the patterning region.例文帳に追加

基板にトリアジン系化合物を付着させ、前記トリアジン系化合物を付着させた前記基板の所望領域に紫外線を照射することでパターニング領域を形成し、前記基板を無機ナノ粒子分散液に浸漬して前記パターニング領域に無機ナノ粒子を接着させることにより、所望領域に無機ナノ粒子の皮膜を形成することを特徴とする皮膜のパターン形成方法。 - 特許庁

A patterning roller body 13 is formed in a cylindrical shape, the projected stripes 12 formed on the surface of the roller have a plurality of parallel rows, and the width of each of the projected stripes is within a range of 0.3 mm to 10.0 mm.例文帳に追加

また、模様付けローラ本体１３は、円筒状であり、そのローラ表面に形成される凸条１２が平行に複数あり、その凸条の幅が０．３ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲であるものである。 - 特許庁

With the photosensitive film 47 as a mask, patterning is performed so as to allow the second metallic layer 45 to have the smaller width W2 of 1 μm to 4 μm than the width W1 of the photosensitive film through the use of an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).例文帳に追加

感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁

In the method for manufacturing the solid-state image pickup device, a pad insulation film 2 and an oxidation resistant film 3 are formed on a silicon substrate 1 for patterning, thus forming an opening 4 for opening the region for separating elements.例文帳に追加

本発明の固体撮像装置の製造方法では、シリコン基板１の上に、パッド絶縁膜２と耐酸化性膜３とを形成し、パターニングを行うことにより、素子分離用領域を開口する開口４を形成する。 - 特許庁

An inserted electrode layer on a piezoelectric material plate 12 is formed and patterning the result is conducted repetitively, and the inserted electrode layer is inserted to a boundary face of the piezoelectric material plates so as to form a laminator consisting of layers of a prescribed number.例文帳に追加

圧電材料板１２の上に介挿電極層を形成し、パターニングする操作を繰り返し行ない、圧電材料板の界面に介挿電極層が介挿され、所定の段数に積層された積層体を形成する。 - 特許庁

As shown in diagram (g), after the patterning film 6 is removed through wet etching, a chemical-mechanical polishing (CMP) treatment is applied, and the metal wiring film 7 on the recessed part 3 as well as the seed film 5 outside the recessed part 3 is polished.例文帳に追加

次いで、図１(g) に示すように、たとえばウエットエッチングによってパターニング膜６を除去した後、ＣＭＰ処理を行うことにより、凹部３上の金属配線膜７および凹部３外のシード膜５を研磨していく。 - 特許庁

To prevent short circuit by ejecting functional liquid such that functional liquids temporarily overflowing from a plurality of line patterning areas do not touch each other, and to bring the line patterns closer to each other.例文帳に追加

複数の線パターンの形成領域から一時的に溢れ出した機能液同士が接触しないように機能液を吐出することによって短絡を防止すると共に、線パターンと線パターンとをより近接させる。 - 特許庁

An extra capacitor or a capacitor is fabricated utilizing the capacitance between interconnections (between M11 and M12) or the capacitance between through holes (between B11 and B12) which is increased as a finer patterning is employed in the process technology.例文帳に追加

プロセス技術の微細化に伴って大きな容量を持つようになった配線間（Ｍ１１およびＭ１２間）容量およびスルーホール間（Ｂ１１およびＢ１２間）容量を利用して、付加容量またはキャパシタを形成する。 - 特許庁

To provide a thin-film patterning method for obtaining narrower isolated trench width, without having to depend on the formation technique of a resist pattern, manufacturing method of a thin-film device, and to provide a manufacturing method of a thin-film magnetic head.例文帳に追加

レジストパターンの形成技術に依存することなく、より狭い孤立トレンチ幅を得ることができる薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV exposure mask etc. in which an absorption film material is specified so as to have a big absorption function in conjunction with excellent microscopic patterning property in order to reduce the projection effect in the EUV exposure.例文帳に追加

ＥＵＶ露光における射影効果を低減するために、大きな吸収機能を持ち、併せて優れた微細なパターニング性を持つよう、吸収膜材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク等を提供すること。 - 特許庁

A bank film M is formed by laminating a first material M1 and a second material M2 on a substrate P, and the patterning of the bank film M is effected to form a bank B consisting of a laminated first bank B1 and second bank B2.例文帳に追加

基板Ｐ上に、第１の材料Ｍ１と第２の材料Ｍ２とを積層しバンク膜Ｍを形成し、バンク膜Ｍをパターニングして、第１のバンクＢ１と第２のバンクＢ２とが積層されてなるバンクＢを形成する。 - 特許庁

Fabric-patterning portions 309, 309' contribute to the deformation of the fabric structure 306 in the direction Z in a deforming region 311, while the fluid pervious property in the deformation region is substantially not changed.例文帳に追加

支持体上の織物パターン化部分３０９，３０９′が変形帯域３１１内のＺ方向の織物構造３０６の変形に寄与し、変形帯域内の流体透過性は本質的に変化しないままである。 - 特許庁

The probes to be used for detecting an objective substance of test are trapped on fine particles 3 in advance, and the fine particles 3 are fixed in every section 2 formed in a lattice state on a substrate 1 by using a surface-chemical patterning method.例文帳に追加

検査対象物質の検出に用いるプローブを予め微粒子３に捕捉し，微粒子を基板１の上に表面化学的なパターニング方法を用いて格子状に形成される各区画２に固定する。 - 特許庁

The abnormality inhibiting film is formed on the silicon surface, an abnormal-growth inhibiting film as the abnormality inhibiting film is further removed, as required; and a treatment, such as a patterning to the silicon film and formation of an insulating oxide film is conducted.例文帳に追加

シリコン表面に異常抑制膜を形成した上で、必要に応じて、異常抑制膜としての例えば異常成長抑制膜を除去して、シリコン膜へのパターニングや絶縁酸化膜形成等の処理を行う。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁