「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

The reflection plate is manufactured by patterning the photosensitive resin 5 applied on one surface of a substrate 4 by a photomask, thereby forming plural recessed parts 8 which are made of the photosensitive resin and are isolated.例文帳に追加

基板４の一方の面に塗布した光感光性樹脂５をホトマスク６によってパターニングし、光感光性樹脂でできた離隔した複数の凹部８を形成して反射板を製造するようにした。 - 特許庁

In patterning ribs of a plasma display panel by a sand-blast method, the sand-blast processing is performed after previously disposing a shielding member to cover parts that should not be damaged by the blast.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト法によりパターニングするに際し、ブラストによってダメージを受けてはならない部分を覆うように予め遮蔽部材を配置してからサンドブラスト加工を行うようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device by which a desired patterning is facilitated irrespective of the presence of the etching-face azimuth dependency of a semiconductor layer in the wet etching of the semiconductor layer having crystallizability.例文帳に追加

結晶性を有する半導体層のウェットエッチングにおいて、半導体層のエッチング面方位依存性の有無に起因せずに所望なパターニングが容易な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The first resistance R1 and the second resistance R2 are formed by patterning the same conductive layer formed on the same substrate as the control means 4, and formed on mutually adjacent spots.例文帳に追加

第１の抵抗Ｒ１と第２の抵抗Ｒ２が、制御手段４と同じ基板に形成された同一の導電層をパターンニングして形成され、かつ、互いに隣接した箇所に形成されている。 - 特許庁

A multilayer wiring structure 13 is formed in a surface 57A of a metallic plate 57 which is a supporting plate when the multilayer wiring structure 13 is formed, and a slot antenna 60 is formed by patterning the metallic plate 57.例文帳に追加

多層配線構造体１３を形成するときの支持板となる金属板５７の面５７Ａに多層配線構造体１３を形成し、金属板５７をパターニングしてスロットアンテナ６０を形成した。 - 特許庁

Hereby, since patterning of the Au film 26 is not performed even if the Au film 26 is removed for insulation between electrodes, addition of a process line of photolithography exclusive for Au is not required.例文帳に追加

このため、電極間における絶縁のために、Ａｕ膜２６を除去したとしても、Ａｕ膜２６をパターニングするものではないため、Ａｕ専用のフォトリソグラフィの工程ラインを追加する必要がない。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin film transistor forms an oxide semiconductor thin film 6 by patterning and then heating a precursor thin film 6' formed by the application of a precursor solution.例文帳に追加

前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜６’をパターニングした後、加熱することにより酸化物半導体の薄膜６を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

The other substrate 3 is manufactured by patterning and forming transparent electrodes 16 for display by the photolithography method using the mask on the one surface 15a of the plastic substrate 15 having the translucency.例文帳に追加

他方基板３は、透光性を有するプラスチック基板１５の一方表面１５ａにマスクを使用してフォトリソグラフィ法によって表示用透明電極１６をパターン形成して作製される。 - 特許庁

Patterning is applied to at least one layer of an organic electroluminescent layer by using a photo-lithography method in this manufacturing method of the electroluminescent element.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層を、フォトリソグラフィー法を用いてパターニングすることを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The connecting pad parts are divided into outside regions 13, 20 positioned on the outside of the board 2 and inside regions 14, 21 positioned on the slightly inside than the outside regions, for patterning.例文帳に追加

前記接続パッド部は、基板２上の外側に位置する外側領域１３，２０と、前記外側領域よりも若干内側に位置する内側領域１４，２１にそれぞれ区画してパターニングされる。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film capable of improving adhesion in a copper wiring patterning process and stably maintaining the resistance of the transparent conductive film, in a flexible touch panel.例文帳に追加

可撓性を有するタッチパネルにおいて、銅配線のパターニング工程においての付着性を向上させると共に、透明導電膜の抵抗が安定に保持されることができる透明導電膜を提供する。 - 特許庁

To reduce remarkably the expense of investment for a part such as a rolling roller, a forming mold or the like by patterning onto a synthetic resin product without using any rolling roller or forming mold provided with an engraved pattern.例文帳に追加

合成樹脂製品の表面への模様付けを模様を刻設された圧延ローラや成形型を使用することなく行って、圧延ローラや成形型等の部品への投資費用を大幅に軽減させる。 - 特許庁

To provide a method for forming deposited films for forming patterns on a substrate without masking or a patterning process relating to general metallic films, dielectric films, and more particularly organic material films.例文帳に追加

一般的な金属膜、誘電体膜、そして特に有機物膜に関し、マスク成膜やパターニングプロセスなしに、基板上へのパターン形成を可能にする堆積膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

A high-capacitance storage node structure is produced in a substrate 10, by patterning a hybrid resist 12, to produce both negative tone resist regions 16 and positive tone resist regions 18 in the exposed region 14.例文帳に追加

基板１０内に高静電容量の記憶ノード構造を形成するため、ハイブリッド・レジスト１２をパターニングして、露光領域１４内にネガ型レジスト域１６とポジ型レジスト域１８を生成する。 - 特許庁

After a conductive polysilicone layer is deposited on the insulating film 16 by covering the connecting holes 18a to 18c, the deposited layer is subjected to patterning, to obtain an electrode (or wiring) having an engaging part 20a.例文帳に追加

接続孔１８ａ〜１８ｃを覆って絶縁膜１６の上に導電性ポリシリコン層を堆積した後、その堆積層をパターニングして係止部２０ａを有する電極（又は配線）２０を得る。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a flash memory device which facilitates the etching process of a device isolation film to be executed after gate patterning by lowering the height of the device isolation film formed in a peripheral region.例文帳に追加

周辺領域に形成される素子分離膜の高さを下げるように形成して、ゲートパターニング後に実施する素子分離膜のエッチング工程を容易にするフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film having high transmissivity in a visible light region while suppressing a difference in visibility between a conductive face and an insulating face when patterning a transparent conductive layer.例文帳に追加

可視光領域において高透過率を有し、透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面で視認性の差を抑制することが出来る透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which can have a source wire, source electrodes, and a drain electrode formed in a single patterning stage without increasing the contact resistance between the drain electrode and a pixel electrode.例文帳に追加

ドレイン電極と画素電極とのコンタクト抵抗を増大させずに、ソース配線、ソース電極およびドレイン電極を一回のパターニング工程で形成できる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

These trapezoidal protruded parts 7a and 7b are formed by patterning the surface of a p-AlGaInP clad layer 5 with the same photoresist etching process as for the pattering of the current mesa stripe 6.例文帳に追加

この台形凸部７ａ、７ｂはｐ−ＡｌＧａＩｎＰクラッド層５の表面を電流メサストライプ部６のパターニングと同一のフォトレジスト・エッチング工程によりパターニングすることによって形成されている。 - 特許庁

To provide a photoresist composition capable of forming a high resolution pattern without an additional heating process, a method of patterning a thin film using the same, and a method of manufacturing a liquid crystal display panel using the same.例文帳に追加

別途の加熱工程を経ずに高解像度のパターンを形成できるフォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法、及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A light absorbing layer 2 and a resist film 3 are formed in this order on the inner surface of a glass panel 1, and after patterning the resist film 3, the black matrix 7 is formed by applying etching to the light absorbing layer 2.例文帳に追加

ガラスパネル１の内面に、光吸収層２とレジスト膜３とをこの順に形成し、レジスト膜３をパターニングした後、光吸収層２をエッチングしてブラックマトリックス７を形成する。 - 特許庁

An amorphous semiconductor film for channel formation, an n-type semiconductor film formed as source and drain regions, and a conductive film formed as source wiring and drain electrode are stacked and then subjected to patterning operation using the same photomask.例文帳に追加

チャネルが形成される非晶質半導体膜、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜を積層し、同一のフォトマスクにてパターニングする。 - 特許庁

A process for manufacturing the metal structure using the trenches carries out the etching of a semiconductor substrate in a desired depth and width through patterning from the top of the semiconductor substrate in the lower direction to form trenches.例文帳に追加

トレンチを用いた金属構造物の製造工程は、トレンチを形成するために半導体基板の上部から下方向にパターニング過程を経て希望する深さおよび幅に食刻を行う。 - 特許庁

First, patterning process is performed to form plural two-dimensionally disposed micro lens surfaces on the surface of a first optical resin layer 2 having a first refractive index and disposed on a transparent substrate 1.例文帳に追加

先ずパタニング工程を行ない、透明な基板１の上に配された第一の屈折率を有する第一光学樹脂層２の表面に、二次元的に配された複数のマイクロレンズ面を形成する。 - 特許庁

To provide partial metallic holograms of a high design characteristic by easily and inexpensively forming light reflection layers and further patterning and forming the light reflection layers and hologram regions to arbitrary shapes.例文帳に追加

光反射層を簡便かつ安価に形成し、さらには光反射層とホログラム領域を任意の形状にパターン形成した意匠性の高い部分メタリックホログラム、およびその製造方法を提供する - 特許庁

The polysilicon germanium gate having the negative slope is formed by forming a polysilicon germanium layer having a profile in which a germanium concentration monotonously decreases from a gate bottom toward a gate top and patterning the layer.例文帳に追加

ゲートボトムからゲートトップ側へと単調減少するゲルマニウム濃度プロファイルを有したポリシリコンゲルマニウム層を形成してパターニングすることにより、負の傾斜面を有するポリシリコンゲルマニウムゲートを形成する。 - 特許庁

To form a coplanar thin film transistor having an active layer of polycrystalline silicon, a polysilicon film 3 is formed on an undercoat film 2 having a recessed part 12 formed in a desirable shape by patterning.例文帳に追加

多結晶シリコンを活性層とするコプラナー型の薄膜トランジスタを形成する際、パターニングして所望の形状に形成された凹所１２を有するアンダーコート膜２の上に、ポリシリコン膜３を形成する。 - 特許庁

To provide a light emitting organic thin film display of a high productivity in which without damaging an element by laser machining, and in which patterning of an upper part electrode can be easily made in an arbitrary shape.例文帳に追加

レーザー加工により、素子に損傷を与えることなく容易に上部電極を任意の形状にパターニングすることができ、かつ、生産性の高い有機薄膜発光ディスプレイを提供する。 - 特許庁

Grooves 500 are formed on a color filter of a liq. crystal display device by patterning and, with common electrodes formed on the same, a groove is formed on the common electrode in a patterned part of the color filter.例文帳に追加

液晶表示装置のカラーフィルタをパタニングして溝５００を形成し、その上に共通電極を形成しカラーフィルタがパタニングされた部分において共通電極に溝を形成させる。 - 特許庁

To provide a film deposition device which can deposit a molybdenum layer suitably removable when performing patterning using a LASER scribe method, and a film deposition substrate manufacturing method and a film deposition substrate.例文帳に追加

ＬＡＳＥＲスクライブ法を用いてパターニングする際に、好適に除去できるモリブデン層を成膜可能な成膜装置、成膜基板製造方法、及び成膜基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist protective film material for forming a protective film on a photoresist film to protect the photoresist film in liquid immersion photolithography, and a patterning method using the material.例文帳に追加

本発明は、液浸フォトリソグラフィーにおいて、フォトレジスト膜を保護すべくフォトレジスト膜の上に保護膜を形成するためのレジスト保護膜材料及びこれらの材料を用いたパターン形成方法に関する。 - 特許庁

A double refraction layer is formed on a substrate and reactive ion etching is performed after a desired patterning is performed onto the double refraction layer to form a plurality of pits having different depth in the surface of the double refraction layer.例文帳に追加

基板上に複屈折層を形成し、当該複屈折層に所望のパターニングをした後に反応性イオンエッチングを施すことによって複屈折層に深さの異なる複数のピットを形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing an extreme-ultraviolet photomask includes a step of forming an upper pattern 45, having an inclined sidewall by patterning an upper film, after forming the upper film on a photomask substrate 10.例文帳に追加

極紫外線フォトマスクの製造方法は、フォトマスク基板１０上に上部膜を形成した後、上部膜をパターニングして傾いた側壁を有する上部パターン４５を形成する段階を含む。 - 特許庁

The 2nd electrodes are arranged above the 1st electrodes and supported by the patterning supporting layer so that air gaps having the same thickness are formed between the whole pair of the 1st electrodes and the 2nd electrodes.例文帳に追加

第二電極は第一電極の上方に配置され、かつ等しい厚みを持つエアー・ギャップが第二および第一電極の総ての対の間に作られるように、パターン化支持層によって支持される。 - 特許庁

Because this method is free of generation of a large electric discharge during the sandblasting process, there is no risk of producing any defect in the electrode or barrier, and the patterning of the barrier can be conducted while the quality of the base board is well maintained.例文帳に追加

サンドブラスト加工中に大きな放電を起こすことがないことから、電極や障壁に欠陥を生じることなく、基板品質を良好に保って障壁のパターニングを行うことができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.例文帳に追加

製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減によりコストを低減し、混色が容易に防止でき、高精細なパターニングが可能な色変換フィルタの提供を主目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method or the like for a nozzle plate which is excellent in productivity without repetition of processes by photolithography, enables patterning of highly precise nozzle holes each including a taper shape, and is excellent in ejection characteristic.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる工程の繰り返しがなくて生産性に優れ、テーパ形状を含む高精度なノズル孔のパターニングが可能で、吐出特性に優れたノズル基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a reactive compound having high flame resistance, capable of light patterning, excellent in photo sensitivity, whose cured film sufficiently satisfies development performance, curability, adhesion, PCT resistance, flexibility, and the like.例文帳に追加

高い難燃性を有しており、光パターニング可能であり、光感度に優れ、その硬化膜は、現像性、硬化性、密着性、ＰＣＴ耐性、柔軟性等も十分に満足する反応性化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a cured film excellent in patterning property of a contact hole, ITO sputter resistance, and heat resistance transparency, which can be produced at high and stable sensitivity, with slit coating.例文帳に追加

高感度で安定した感度で製造でき、コンタクトホールのパターニング性能やＩＴＯスパッタ耐性、耐熱透明性に優れる硬化膜を、スリットコートで製造する製造方法を提供すること。 - 特許庁

As a method for manufacturing the structure, a method for curing a resin material in a perforated state of the raw material of the separator, a photolithography method, a patterning method e.g. a screen printing method, an ink jet method, etc. and the like are used.例文帳に追加

また、該構造を製作する方法として、セパレータ原料に穿孔した状態で硬化させる方法、フォトリソグラフィ法、スクリーン印刷法、インクジェット法などによるオパターニング法などを用いる。 - 特許庁

To effectively reutilize waste water without marring the swelling properties of clay substance added to improve patterning properties by pressing in a sheet-manufacturing method in which a large amounts of waste water are generated.例文帳に追加

大量の排水が生じる抄造法において、プレスによる模様つけ性を良くするため添加される粘土物質の膨潤性を損なうことなく排水を有効に再利用可能とすることを課題とする。 - 特許庁

To provide a safety system for preventing a collision of a support with another parts, for a lithographic apparatus which has a stationary magnet motor for driving the support such as a substrate support or a patterning device support.例文帳に追加

基板支持体又はパターニングデバイス支持体などの支持体を駆動する固定磁石モータを有するリソグラフィ装置に、例えば支持体と別の部品との衝突を防止する安全システムを提供する。 - 特許庁

The resilient metal layer 1 is subjected to required patterning using an unnecessary resilient metal layer part 1B as a mask such that the terminal part located on the circumferential fringe of the opening 9 is protected.例文帳に追加

そして開口部９の周縁に位置する端子部を保護すべく不要なバネ性金属層部分１Ｂをマスクとして機能させながらこのバネ性金属層１に所要のパタ−ンニング処理を加える。 - 特許庁

To provide a method for patterning a conductive film in which short circuit due to deposition of plating particles can be prevented when a conductive film is patterned by plating, and to provide a process for manufacturing a droplet ejection head.例文帳に追加

メッキによる導電膜パターンの形成時に、メッキ粒子の析出に起因するショートを防止した、導電膜パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method that allows the reduction in tact time for pattern-forming, allows pattern layers and dielectric layers to be fired together, and is capable of reducing the total cost of pattern-forming.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁