「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRONIC APPARATUS AND PATTERNING APPARATUS例文帳に追加

電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及びパターニング装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERNING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL, AND PATTERING MATERIAL FOR ARTIFICIAL MARBLE OR PATTERNED RESIN MATERIAL MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材の製造方法及びこの製造方法により製造した人造大理石又は柄入り樹脂材料用柄材 - 特許庁

A measurement subsystem of the lithographic apparatus includes one or preferably a plurality of alignment and level sensors (AS and LS) directed near a patterning position of a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置の測定サブシステムは、基板のパターニング位置の近くに向けられたひとつまたは（好ましくは）複数のアライメントおよびレベルセンサ（ＡＳ、ＬＳ）を含む。 - 特許庁

A photoresist pattern 132a having an opening part 132x is formed by selectively exposing the photoresist film for patterning in a photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ処理によってフォトレジスト膜を選択的に露光してパターニングすることにより、開口部１３２ｘを有するフォトレジストパターン１３２ａを形成する。 - 特許庁

The projection system also has a series of lens components spaced apart along the beam path between the patterning system and the array of lenses.例文帳に追加

投影システムは、パターン形成システムとレンズのアレイとの間にビーム経路に沿って間隔を空けて配置された一連のレンズ構成要素を有している。 - 特許庁

Patterning is successively performed to the black matrix layer 102 and the 1st photoresist layer 104a by a mask and also the 1st photoresist layer 104a is removed.例文帳に追加

マスクにより順にブラックマトリクス層１０２および第１フォトレジスト層１０４ａをパターニングするとともに、第１フォトレジスト層１０４ａを除去する。 - 特許庁

After patterning the silicon oxide layer in accordance with a gate electrode pattern, the polysilicon layer is patterned by dry-etching using a remaining resist layer as a mask.例文帳に追加

シリコンオキサイド層をゲート電極パターンに従ってパターニングした後、残存するレジスト層をマスクとするドライエッチングによりポリシリコン層をパターニングする。 - 特許庁

To provide an exposure mask blank which prevents an ITO film as a semi-transmitting film from being worn in a process of patterning a light-shielding film.例文帳に追加

遮光膜のパターニングを行う工程に際して、半透過膜であるＩＴＯ膜が損耗することを抑制できる露光マスクブランクを提供する。 - 特許庁

This diffusion allows the P concentration on top of the film 7 to be reduced, thereby suppressing the growth of an edge on top of a gate electrode during patterning.例文帳に追加

この拡散によって、ポリシリコン膜７上端部におけるリン濃度が低減され、パターニング時にゲート電極の上端部のエッジが大きくなるのを抑制できる。 - 特許庁

To form a circuit with a patterning method using the electromagnetic wave such as laser at the internal surface of a base material in the three-dimensional shape having the surfaces opposed with each other.例文帳に追加

対向面を有する立体形状の基材の内面に、レーザ等の電磁波を用いたパターニング方法で回路形成ができるようにする。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support structure constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化デバイスを支持するように構築された支持構造とを備えている。 - 特許庁

The change in magnetic resistance of a magnetoresistance effect (MR) film is measured, before an upper shield layer is formed and prior to patterning of a lower shielding layer.例文帳に追加

上部シールド層が形成される以前に、しかも、下部シールド層のパターニングに先立って磁気抵抗効果（ＭＲ）膜の磁気抵抗変化は測定される。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film capable of suppressing the difference of visibility between a conductive surface and an insulated surface, even if patterning of a transparent conductive layer is carried out.例文帳に追加

透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面とで視認性の差を抑制することができる透明導電性フィルムを提供すること。 - 特許庁

To solve problems that an optical waveguide is very expensive because core patterning by plural times of thin film laminations and semiconductor processes is performed and also constitution and a manufacturing method for a new optical waveguide preparing both economical efficiency and performance are indispensable for a spread of optical communication.例文帳に追加

現状、光導波路は複数回の薄膜積層と半導体プロセスのよるコアパターニングが行われており非常に高コストである。 - 特許庁

To provide an apparatus in which a position of a pattern is arbitrarily set and a sanitary napkin or a paper diaper is patterned at the position when patterning it.例文帳に追加

生理用ナプキン、紙おむつに模様を入れる際に、模様の位置を任意の位置に設定でき、尚かつ同位置に模様が入れられる装置を提供する。 - 特許庁

A substrate development processing machine 10 is provided with a first development tank 12, a second development tank (patterning tank) 13, a residual dross removal tank 14 and a substrate feeding part 21.例文帳に追加

基板現像処理機１０は、第１現像槽１２と、第２現像槽（パターニング槽）１３と、残渣除去槽１４と、基板搬送部２１とを備える。 - 特許庁

In executing the method of manufacturing of the phase change memory, a wafer is wet-cleaned using a cleaning liquid such as water or a chemical after patterning the phase change layer.例文帳に追加

相変化メモリを製造する方法を実施する際に、相変化層をパターニングした後にウェハを水や薬液などの洗浄液でウェット洗浄する。 - 特許庁

A single fluid channel resin layer 11 as a profile of ink channel is formed on an upper face of a device substrate 1 having a heater 2 formed thereon, and then a mask member 12 is formed on the fluid channel resin layer 11 to carry out patterning.例文帳に追加

ヒータ２が形成された素子基板１の上面に、インク流路の型材として流路樹脂層１１を単一の層で形成する。 - 特許庁

To provide an electrophoresis display apparatus 100 wherein patterning of a conductive thin film formed on a bottom surface of a transfer space 50 of charged particles 30 is unnecessary.例文帳に追加

帯電粒子３０の移動空間５０の底面に形成する導電性薄膜のパターニングが不要電気泳動表示装置１００を提供する。 - 特許庁

To provide a cured film for a liquid crystal display apparatus, the film having sufficient heat resistance, surface hardness, sputtering resistance and low degassing property and favorable patterning characteristics.例文帳に追加

耐熱性、表面硬度、耐スパッタ性、低脱ガス性等を満たすとともに、パターニング特性が良好な液晶表示装置用硬化膜を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color conversion filter enabling a precise patterning while simplifying the manufacturing process, and a color filter with color converting function.例文帳に追加

製造工程を簡略化すると同時に、高精細のパターニングを可能とする色変換フィルタの製造方法、ならびに色変換機能付カラーフィルタの提供。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition mask wherein the patterning part will have no distortion of a pattern shape or misregistration, even if it is fixed to a fixed frame with tensile force applied to it.例文帳に追加

張力をかけた状態で固定枠に固定してもパターニング部のパターンの形状の歪みや位置ずれのない真空蒸着マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a wiring structure, in which a narrow part is hardly generated in patterning, even when a highly fine Al material with small impurity content is used.例文帳に追加

不純物含有量の少ない純度の高いＡｌ材料を用いた場合にもパターニングによってくびれの生じにくい配線構造を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate is a method comprises a patterning process wherein a semiconductor substrate 1 on an insulating layer 4 formed with a recessed part 7 is polished and the substrate 1 is left only in the recessed part 7.例文帳に追加

凹部７が形成された絶縁層４上の半導体基板１を研磨し、凹部７内にのみ半導体基板１を残すパターニング工程を行う。 - 特許庁

To provide a material for an organic electroluminescence(EL) element, capable of enabling fine patterning, and further to provide a method for producing the material and the organic EL element by using them.例文帳に追加

微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

By subjecting the mask blank to predetermined patterning, a light-shielding part, a light-transmitting part and a light-semitransmitting part are formed to obtain a gray tone mask.例文帳に追加

該マスクブランクに所定のパターニングを施すことにより、遮光部と透光部と、半透光膜による半透光部を形成し、グレートーンマスクとする。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system, configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁

To provide a mask that has reduced warp and high positional accuracy of patterning and a method for producing the mask, and a mask blanks that has a reduced warp and a method for producing the blanks.例文帳に追加

反りが低減されたパターン位置精度の高いマスクおよびその製造方法と、反りが低減されたマスクブランクスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A wiring board 1, having a laminate structure where interlayer connection is made and wiring boards 2 and 3 subjected to both patterning and interlayer connection, are combined.例文帳に追加

積層構成を層間接続が施された配線板１と，パターン加工と層間接続が施された配線板２および配線板３とを組み合わせる。 - 特許庁

In addition, the silicon oxide layer 3 is removed and consequently a fine opening 41 is formed by the patterning treatment of the silicon thin film layer 2 and thus a transfer mask 100 is obtained.例文帳に追加

さらに、酸化シリコン層３を除去し、続いて、シリコン薄膜層２をパターニング処理して微細開口４１を形成し、転写マスク１００を得る。 - 特許庁

To provide an SMC which distributes a patterning material all over a molded article and excels in reproducibility of external appearance, water resistance, and chemical resistance as well.例文帳に追加

成形品の細部にまでわたり柄材が均一に分布し、外観の再現性に優れ、耐水性および耐薬品性にも優れたＳＭＣを提供すること。 - 特許庁

To provide a molding material which shows uniform distribution of a patterning material on a surface of a molded item, shows excellent moldability and gives a molded item having an excellent mechanical strength.例文帳に追加

成形品表面の柄材分布が均一で、成形性に優れ、機械的強度にも優れた成形品を得ることができる成形材料の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can decrease the number of patterning processes and reduce the manufacture cost, in a manufacturing method for an array substrate used for reflection type flat display.例文帳に追加

反射型平面表示装置に用いるアレイ基板の製造方法において、パターニング工程数及び製造コストを低減できるものを提供する。 - 特許庁

First tin plating is formed on a copper pattern is subjected to patterning.例文帳に追加

パターニングされた銅パターン上に第一のスズメッキを形成し、その後レジストを形成し、レジストが形成されていない部分の銅パターン上に第二のスズメッキの加工を行う。 - 特許庁

To solve such a problem that a conventional etching process for patterning a thin film with fluid causes defects originating from foreign matters precipitated by a treatment fluid which is projected to the back side.例文帳に追加

薄膜パターンを流体によるエッチング処理工程では、裏面に照射した処理流体により異物が析出し、不良の原因となる。 - 特許庁

When patterning the light emitting cells, a lower substrate in a separation region between the respective light emitting cells is partially removed to form a recess region.例文帳に追加

前記発光セルをパターニングするとき、前記発光セル間の分離領域の下方の基板が部分的に除去されてリセス領域が形成される。 - 特許庁

To provide a pattering method of an organic EL semiconductor element in which a production process cost for an organic EL semiconductor element is reduced and a highest possible flexibility in a patterning is secured as well.例文帳に追加

有機ＥＬ半導体素子の製造プロセスに係るコストを低減し、同時にパターニングにおいてできるだけ高いフレキシビリティを保証する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a thin film transistor array board, which enables the execution of a patterning process without employing a photo process.例文帳に追加

本発明の目的はフォト工程を使わなくてもパターニング工程を遂行することができる薄膜トランジスタアレイ基板の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

The embossing lithography can yield a relatively high throughput, provide the ability of patterning a wide ranges of materials and high resolution.例文帳に追加

本発明のエンボス加工は、相対的に高いスループットを生成し、広範囲の材料をパターニングする能力を提供し、高い解像度を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing nano-structure capable of simply patterning pores in a porous coat for a large area to a workpiece with less mechanical strength.例文帳に追加

機械的強度が強くない被加工物に対して、ポーラス皮膜の細孔を大面積にわたり簡易にパターニングするナノ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a barrier film with a transparent electrode which decreases damages of a barrier layer in a post process such as patterning of the transparent and hardly causes deterioration in the barrier property.例文帳に追加

透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a CMP(chemical mechanical polish)-supported liftoff fine patterning which is used for a vacuum-deposited thin film for a micro electronic device and a nano-structure.例文帳に追加

マイクロ電子デバイスおよびナノ構造のための真空堆積された薄膜のためのＣＭＰ補助されたリフトオフ微細パターニングを提供すること。 - 特許庁

To provide a printed wiring patterning method in which a coating pattern can be efficiently formed in a place where a pattern of a conductive part is exposed.例文帳に追加

導電部分のパターンが露出している箇所について、被覆パターンの生成を効率的に行えるプリント配線パターン生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film laminate which can provide a thin EL light-emitting element that does not have deterioration in printing precision and has a good yield in the patterning process of the emitter.例文帳に追加

発光体パターニング工程で、印刷精度が低下せず歩留まり良好で、薄型ＥＬ発光素子を提供できる透明導電フィルム積層体。 - 特許庁

In the patterning roll 11, the cylindrical body 11b, which is provided on its outer peripheral face with the transfer surface 11a, is composed of a fiber reinforced resin (FRP).例文帳に追加

模様付けロール１１では、前記転写面１１ａが外周面に設けられた円筒体１１ｂが、繊維強化樹脂（ＦＲＰ）によって構成されている。 - 特許庁