「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an organic EL display element of high productivity in which a patterning is easy and adhesive property of joint faces is improved.例文帳に追加

容易にパターンニングすることができ、接合面の接着性を改善すると同時に、生産性の良い有機ＥＬ表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive resin composition having excellent patterning property and retaining a rectangular pattern form even after heat treatment at a high temperature.例文帳に追加

パターン加工性に優れ、高温での熱処理後も矩形のパターン形状を維持することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the ferroelectric memory device comprises the steps of laminating and patterning a conductive film on an interlayer insulating film having a contact plug, and forming a capacitor lower part electrode pattern.例文帳に追加

本発明よると、コンタクトプラグを有する層間絶縁膜上に導電膜を積層してパターニングしてキャパシタ下部電極パターンを形成する。 - 特許庁

After forming an interlayer film 11a on another interlayer film 4b, a shielding film 12 consisting of TiSi_2 is formed on the interlayer film 11a through patterning.例文帳に追加

層間膜４ｂ上に層間膜１１ａを形成した後、層間膜１１ａ上に、ＴｉＳｉ_２からなる遮蔽膜１２をパターニング形成する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, PIEZOELECTRIC DRIVING ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

パターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus having a programmable patterning means capable of reducing errors due to the movement of a substrate during the duration of the pulse of radiation.例文帳に追加

放射線のパルスの持続時間中の基板の移動による誤差を低減できる、プログラマブル・パターニング手段を有するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

A photoresist film formed on the stress mitigating film 30 is processed through patterning and, thereafter, a part of the stress mitigating film 30 is removed by employing the photo resist film as a mask.例文帳に追加

応力緩和膜３０上に形成したフォトレジスト膜をパターニングした後、フォトレジスト膜をマスクとして応力緩和膜３０の一部を除去する。 - 特許庁

To increase the bonding strengths between electrodes for outside connection and solder balls without obstructing fine wire patterning by exposing the partial side faces and whole top faces of the electrodes from an insulating coating film.例文帳に追加

フレキシブルテープを配線基板とした半導体装置において、外部接続用電極と半田ボールとの接合強度向上させること。 - 特許庁

An outer layer board is laminated on the surface covering layer 6, and the conductive layer 9 of the outer layer board is subjected to a patterning treatment to form a required wiring pattern.例文帳に追加

そこで、表面被覆層６上に外層基板を積層し、この外層基板の導電層９に対して所要の配線パタ−ンニング処理を施す。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board capable of forming a plating film uniform in thickness with respect to a pattern to be plated by an electrolytic plating method.例文帳に追加

電解めっき法により被めっきパターンに厚みが均一なめっき膜を被着させることが可能な多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

To prevent the degradation in arrangement accuracy of filters of respective colors with respect to pixels when alignment of masks is performed for every color in patterning of a color filter array of a solid state imaging element.例文帳に追加

固体撮像素子のカラーフィルタアレイのパターニングにおけるマスクの目合わせを各色毎に行うと画素に対する各色のフィルタの配置精度が低下する。 - 特許庁

A pattern creation means 8 finds a plurality of patterns of the combination for one material under a predetermined patterning condition according to the size of the order.例文帳に追加

パターン作成手段８は、注文の寸法に応じて、所定のパターン化の条件の下、１本の材料に対する取り合せのパターンを複数個求める。 - 特許庁

The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加

前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁

While patterning is performed on the surface of a substrate W, deviation information is delivered from a position controller 74 to a position correction control circuit 72.例文帳に追加

基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、位置コントローラ７４からは偏差情報が位置補正制御回路７２へ出力される。 - 特許庁

To obtain a material capable of being developed in a short time when used for a positive type photosensitive resin composition and developing high sensitive and high contrast patterning properties.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に短時間で現像が行え、かつ、高感度、高コントラストのパターニング性能を発現する材料を提供する。 - 特許庁

Further the dielectric 12 on the glass substrate 11 is subjected to patterning by etching by using the patterned mask layer 13 and then the mask layer 13 is removed (Fig.1(h)).例文帳に追加

次に、パターニングされたマスク層１３によりガラス基板１１上の誘電体（１２）をエッチングによりパターニングした後、マスク層１３を除去する（図１（ｈ））。 - 特許庁

The conductive film or the adhesive layer is subjected to patterning processing to gain the same effect as a usual conductive plate including an ITO (Indium Tin Oxide) layer.例文帳に追加

前記導電性フィルム又は前記接着層がパターン化処理され、従来のＩＴＯ層を含む導電板と同様の効果を奏することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a non-volatile memory element and a patterning method to realize a stepped structure gate in the non-volatile memory element.例文帳に追加

本発明は、不揮発性メモリー素子の製造方法を提供し、不揮発性メモリー素子において階段形態のゲートを具現できるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method for a photomask and an inspection apparatus for a photomask, for determining a defect of a photomask for double patterning and verifying a degree of influences by defects.例文帳に追加

ダブルパターニング用フォトマスクの欠陥判定及び欠陥影響度を検証するフォトマスクの検査方法及びフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor film suitable for a patterning step upon the production of a semiconductor element, and to provide an oxide sintered compact allowing the semiconductor film to be deposited.例文帳に追加

半導体素子の作製の際のパターニング工程に適した酸化物半導体膜、及び半導体膜を成膜できる酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic film capable of preventing stitching unevenness occurring between widths of laser beams due to limit of beam sizes of a laser.例文帳に追加

レーザのビームサイズ（幅）の限界によるレーザビームの幅間に発生するステッチングむらを防止することができる有機膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A slimmed sidewall core 4 is formed in a memory cell array area 1a by patterning a polysilicon layer formed on a silicon nitride layer 3.例文帳に追加

窒化シリコン層３上に形成されたポリシリコン層をパターニングすることによってメモリセルアレイ領域１ａにスリミングされたサイドウォールコア４を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in solubility with an alkali aqueous solution during patterning and excellent in mechanical strength, particularly elastic modulus, after cured.例文帳に追加

パターニング時のアルカリ水溶液への可溶性に優れ、かつ硬化後の機械的強度特に弾性率に優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an aromatic ring-containing polymer for a resist underlayer, a resist underlayer composition containing the polymer and a method for patterning a device.例文帳に追加

レジスト下層膜用芳香族環含有重合体、この重合体を含むレジスト下層膜組成物、および素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce dispersion of a pattern dimension and a pattern shape, and to improve superposition accuracy in manufacturing a semiconductor device using superposition on a lower layer or a double patterning method.例文帳に追加

パターン寸法やパターン形状ばらつきの低減や下層との重ね合わせやダブルパターニング法を用いた半導体デバイス製造時の重ね合わせ精度向上。 - 特許庁

Thus, even when a pattern is formed on a wafer by using a double patterning method, it is possible to achieve the high overlay accuracy of the pattern.例文帳に追加

これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁

Then, self-aligned lithographic patterning is used to form a pattern of the doped semiconductor layer 40 and generate a conductive lead 62.例文帳に追加

次に、ドープ半導体層４０を自己整合リソグラフィー法（ｓｅｌｆ−ａｌｉｇｎｅｄ ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）を用いてパターン形成し、導電性リード６２を生成する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a formation of an inversely tapered cross-sectional end portion of a scan line due to alkali formed from peeling liquid and water during a resist-peeling process after patterning of the scan line.例文帳に追加

走査線をパターニング後、レジスト剥離の際、剥離液と水で形成されるアルカリによって走査線の断面端部が逆テーパとなることを防止する。 - 特許庁

To provide a simple method where cost effect for patterning a mutual connection structure, in which the material subjected to spin-on is used as a hard mask, is high.例文帳に追加

スピンオンされた材料がハード・マスクとして使用される相互接続構造をパターン化するコスト効果が高くかつ簡単な方法を提供すること。 - 特許庁

At least one of the solutions 210 and 230 is applied by an actively-controlled patterning or blanketing method.例文帳に追加

前記陽イオン溶液２１０と前記陰イオン溶液２３０のうちの少なくとも一方は、能動的に制御されたパターニング方式又はブランケット方式にて適用される。 - 特許庁

According to the manufacturing method, without using an expensive patterning device and an etching device, less expensive and precise shadow mask is available.例文帳に追加

本発明によるシャドウマスクの製造方法によれば、高価なパタニング装置やエッチング装置を使用しなくても、安値で精密なシャドウマスクを生産できる。 - 特許庁

In order to form the layers, an element working step in the patterning of a tunnel joined film part is finished before the lowest layer of the tunnel joined film is completely patterned.例文帳に追加

トンネル接合膜部をパターン化する際の素子加工工程を、トンネル接合膜を構成する各層のうち最下部までは行わないことによる。 - 特許庁

Then, after laminating a protective film thereon and patterning it, contact holes are so formed in the protective film as to expose respectively to the external of the surfaces of each drain electrode, each gate pad, and each data pad.例文帳に追加

次に、保護膜を積層しパターニングしてドレーン電極、ゲートパッド及びデータパッドの表面を各々露出する接触孔を形成する。 - 特許庁

After a metallic thin film 13 having a temperature-dependency is formed on an insulating substrate 2, heat-sensitive sections 5 and 6 are formed by patterning the film 13 by sputter etching.例文帳に追加

絶縁性基板上に温度依存性の金属薄膜を形成し、金属薄膜をスパッタエッチング法によりパターニングして感熱部を形成する。 - 特許庁

The organic layers 18a, 18b, 18c are produced by a light irradiating dry etching method whereby an organic substance layer 12 is irradiated with light so that patterning is made.例文帳に追加

有機層１８ａ、１８ｂ、１８ｃを、有機材料層１２に光を照射してこれをパターニングする光照射ドライエッチング法によって形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for enabling a double patterning process in which a substrate is processed by one-time dry etching, and a resist material used therefor.例文帳に追加

１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method or the like for manufacturing a semiconductor device which enables high precision patterning by using a resist pattern, whose wall surfaces are smoothened to reduce its roughness.例文帳に追加

壁面を平滑化しラフネスを低減したレジストパターンを用いて高精細なパターニングを可能とした半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁

To provide a metal mask in which patterning superior in handling property and of high precision is enabled in a vacuum vapor deposition process when manufacturing an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造における真空蒸着工程において、取り扱い性の良い且つ高精細パターニングを可能とする金属マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method using a liquid material while using an inkjet system, which directly forms a wiring pattern of a complicated shape on a substrate at a low cost and on-demand.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、複雑形状の配線パターンを低コスト、オンデマンドに基板に直描すること。 - 特許庁

The patterning of the carbon nanotubes is typically accomplished using electrostatic attraction between pre-formed metal lines and the charged carbon nanotubes.例文帳に追加

カーボンナノチューブのパターニングは典型的には予め形成された金属線と帯電したカーボンナノチューブとの間の電気的引力を利用することでなされる。 - 特許庁

To provide a heat resistant photosensitive resin composition having high adhesiveness to a substrate, free of the problem of precipitation, etc., and exhibiting good patterning performance.例文帳に追加

基板との高い接着性を有し、析出等の問題が無く、良好なパターニング性能を発揮する耐熱性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The main magnetic pole layer 12 is formed through a series of patterning processes using a buffer layer 15 slow in etching speed or a nonmagnetic layer 13 as a stopper layer.例文帳に追加

エッチング速度の遅いバッファ層１５や非磁性層１３をストッパ層として使用した一連のパターニング工程を経て主磁極層１２を形成する。 - 特許庁

To perform specific patterning of a mask appropriately when a processed film on a substrate is etched under low temperature environment where the temperature of a substrate is 100°C or lower.例文帳に追加

基板の温度が１００℃以下の低温環境下において、基板上の被処理膜をエッチングする際のマスクを所定のパターンに適切に形成する。 - 特許庁

For example, when a pixel is patterned on a flexible substrate to manufacture a display device, this method is suitably applicable to pixel patterning.例文帳に追加

例えば、可撓性基板上に画素をパターニングして表示装置を製造する場合、画素のパターニングに上記の方法を好適に適用することができる。 - 特許庁