「positive contrast」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a method and a system for computer aided detection of high contrast objects in tomography in which on one hand, false positive detection decreases, but on the other hand, a lesion detected as true positivity is not badly affected.例文帳に追加

一方では偽陽性検出が低減し、他方ではこれによって真陽性に認識された病変が悪影響を受けないようにする。 - 特許庁

In contrast, reflecting comparatively firm domestic demand centering on personal consumption, France was the only country that maintained positive growth (+0.2%) among the major countries.例文帳に追加

一方で個人消費を中心に内需が比較的堅調なフランスは主要国中唯一プラス成長を維持（同+0.2%）した。 - 経済産業省

To provide a positive type photosensitive composition for forming an EL element insulating film having low dielectricity constant and improved contrast, and to provide an insulating film and EL element manufactured from the positive type photosensitive composition.例文帳に追加

低い誘電率を有し、コントラストを向上したＥＬ素子絶縁膜形成用のポジ型感光性組成物、ポジ型感光性組成物により製造された絶縁膜及びＥＬ素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive lithographic printing plate having high sensitivity to light in a near IR region, excellent contrast between an image part and a non-image part, and wide developing conditions.例文帳に追加

近赤外線領域の光に対して高感度であって、画像部と非画像部とのコントラストに優れ、現像条件の幅の広いポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition and a positive photosensitive lithographic printing plate, which are insensitive to light in the ultraviolet region, excellent in sensitivity and contrast between image and non-image areas as well as in handleability under a white fluorescent lamp, and sufficiently keep a residual film ratio of the image area.例文帳に追加

紫外線領域の光に対しては感応せず、白色蛍光灯下における取扱性に優れると共に、感度、及び画像部と非画像部とのコントラストに優れ、画像部の残膜率も十分に保持されるポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for the use of an exposure light source at ≤160 nm wavelength, in particular, for F_2 excimer laser light (at 157 nm wavelength), and specifically, to provide a positive resist composition showing sufficient transmittance and preferable contrast by dissolution when the light source at 157 nm wavelength is used.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ良好な溶解コントラストを有するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition suitable for use under a light source for exposure which emits light of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and specifically to provide a positive type resist composition exhibiting satisfactory transmittance when a light source which emits light of 157 nm is used and having good contrast by dissolution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ良好な溶解コントラストを有するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a new positive photosensitive polyimide composition having a higher dissolution rate contrast than a conventional photosensitive polyimide composition and achieving high-definition patterning even the case of patterning in a thick film.例文帳に追加

溶解速度コントラストが公知の感光性ポリイミド組成物よりも大きく、厚膜のパターニングを行なった場合でも高精細のパターニングが達成できる、新規なポジ型感光性ポリイミド組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having high resolving power and good suitability to a halftone phase contrast shift mask (side lobe light resistance).例文帳に追加

高い解像力を有し、ハーフトーン位相差シフトマスク適性（サイドロープ光耐性）が良好な遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of ≤160 nm, concretely F_2 excimer laser light (157 nm) is used and excellent in sensitivity and contrast.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ感度及びコントラストに優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

The positive A-plate and the negative A-plate may minimize dispersed polarization states of a colored light and a contrast ratio and the viewing angle can be enhanced.例文帳に追加

このように、ネガティブ及びポジティブＡ−プレートを通じて各色光の偏光状態の分散を最小化してコントラスト比及び視野角を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a positive type resist formulation which indicate sufficient transmittivity when the light source of a laser light whose wavelength is 160nm or less, concretely, an F_2 excimer laser light (157nm) is used and which is excellent in selectivity and a contrast.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ感度及びコントラストに優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

The produced super-paramagnetic iron-oxide nano-particle having the positive charge has high intracellular absorption efficiency and stability, and can be utilized variously as an effective contrast medium using a non-invasive organism image.例文帳に追加

製造された正電荷性の超常磁性酸化鉄ナノ粒子は、高い細胞内吸収効率及び安定性を有し、非侵襲的生体画像を用いた効果的な造影剤として多様に活用されることができる。 - 特許庁

To obtain an internal latent image type direct positive silver halide emulsion having high sensitivity and high contrast in a low density region on a reversal characteristics curve and to obtain a color diffusion transfer photosensitive material using the emulsion and excellent in graininess.例文帳に追加

高感度で反転特性曲線上の低濃度部が硬調な内部潜像型直接ポジハロゲン化銀乳剤を得、それを用いて粒状性に優れたカラー拡散転写感光材料を得る。 - 特許庁

To provide the internal latent image flat type direct positive silver halide emulsion high in sensitivity and contrast in the low density parts of a reversal characteristic curve and low in double reversal negative sensitivity.例文帳に追加

高感度で反転特性曲線上の低濃度部が硬調で再反転ネガ感度の低い平板状内部潜像型直接ポジハロゲン化銀乳剤、及びそれを用いたカラー拡散転写感光材料を提供する。 - 特許庁

A positive contrast signal is generated from local gradient compensation and then a balanced SSFP type of echo is formed near the local magnetic field perturber, meanwhile, the echo is shifted out of the data acquisition window at other all positions.例文帳に追加

局所磁場摂動体の近くで、正のコントラスト信号が局所勾配補償から発生することによりバランスＳＳＦＰタイプのエコーが形成され、一方、他のすべての場所では、エコーがデータ収集ウィンドウ外にシフトする。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having high sensitivity, high contrast and superior resolution even under thick film conditions including >10 μm initial film thickness.例文帳に追加

初期膜厚が１０μｍを越える厚膜条件下においても高感度、高コントラストであり、かつ優れた解像性を示すポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a copolymer for chemical amplification positive type semiconductor lithography, which has high developing contrast and excellent resolution in a fine pattern.例文帳に追加

現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ferroelectric liquid crystal display element with a high contrast ratio, high resolution and symmetric display characteristics with respect to applied negative/positive electric potential.例文帳に追加

高いコントラスト比、高解像度及び陰/陽の印加電位について対称の表示特性を有する強誘電性液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition showing sufficient transparency when a light source at ≤160 nm wavelength, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used, having high sensitivity and excellent dissolution contrast, and favorable dry etching durability.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度で、溶解コントラストに優れ、更に耐ドライエッチング性が良好なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a material capable of being developed in a short time when used for a positive type photosensitive resin composition and developing high sensitive and high contrast patterning properties.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に短時間で現像が行え、かつ、高感度、高コントラストのパターニング性能を発現する材料を提供する。 - 特許庁

To provide an excellent positive resist composition which has sufficiently excellent contrast, furthermore, which has no problem of outgassing at the time of exposure by solving a problem associated with a performance improving technique in microprocessing of a semiconductor element using EUV (Extreme Ultraviolet) rays.例文帳に追加

ＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決し、充分良好なコントラストを有し、さらに露光時のアウトガスの問題がない優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type original plate of a planographic printing plate for an IR laser for direct plate making having a recording layer excellent in latitude in image formation by development and capable of forming an image excellent in contrast.例文帳に追加

現像による画像形成時のラチチュードに優れ、コントラストに優れた画像の形成が可能な記録層を備えたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

To provide a method for developing positive photosensitive material superior in contrast between image parts and nonimage parts, kept sufficient in residual film thickness in image parts and wide in development latitude.例文帳に追加

画像部と非画像部とのコントラストに優れ、画像部の残膜率も十分に保持され、よって、現像条件の幅の広いポジ型感光体の現像方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good storage stability and heat resistance.例文帳に追加

高コントラストの薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な引置き安定性及び耐熱性を有するポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive planographic printing plate having a photosensitive layer which exhibits image formability of high contrast without degrading sensitivity, has good inking properties and obviates the generation of sludge.例文帳に追加

感度を低下させることなく、硬調な画像形成性を示し、かつ、良好な着肉性とヘドロの発生の無い感光層を有するポジ型感光性平版印刷版を提供すること。 - 特許庁

To provide a plate making method for a planographic printing plate using a positive-working IR sensitive planographic printing plate excellent in contrast between image and non-image areas, capable of forming a highly sharp and clear image and coping with a wide range of development conditions.例文帳に追加

画像部と非画像部とのコントラストに優れ、高鮮鋭で鮮明な画像を形成することができる、現像条件の幅の広い、ポジ型赤外線感光性平版印刷版による平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having improved storage stability, capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good heat resistance.例文帳に追加

引置き安定性が改善され、高コントラスト薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な耐熱性のポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

In contrast to these, a case of (surface treatment) indicates that the greater the rotational speed V, the greater the value of slippage μ, and μ-V positive gradient slope property is indicated.例文帳に追加

これに対して、［表面処理］の場合には、回転数Ｖの増加とともにスリップμの値も次第に増加しており、μ−Ｖ正勾配性を示している。 - 特許庁

To provide a positive image recording material responsible to a heat mode and having excellent sensitivity in which production of a residual film during developing is suppressed, an image with excellent contrast can be formed and thermal diffusion to a supporting body is prevented.例文帳に追加

現像時の残膜の発生が抑制され、コントラストに優れた画像の形成が可能で、且つ、支持体への熱拡散を防止し、感度に優れたヒートモード対応ポジ型画像記録材料を提供する。 - 特許庁

A positive voltage is applies to one end of a contact chain by a probe, a charged particle beam is scanned, to be irradiated on the surface of the contact chain, and then the non-conductive point is specified by obtaining a potential contrast image.例文帳に追加

触針によりコンタクトチェーンの片端に正の電圧を印加し、荷電粒子線をコンタクトチェーンの表面に走査照射して、電位コントラスト画像を得ることによって非導通箇所を特定する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can give a high-contrast pattern at a high sensitivity and is excellent in the resolution of a fine pattern and in adhesion.例文帳に追加

高感度で高コントラストのパターンを得られると同時に、微細パターンの解像性及び接着性に優れたポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To prevent contrast between characters and a background color from being reduced, when an image signal resulting from reading a film original that is obtained by applying negative positive conversion to an original in a background color with a medium density is subjected to A/D conversion.例文帳に追加

中間濃度の地色をもつ原稿をネガポジ変換したフィルム原稿を読み取った画像信号をＡ／Ｄ変換した場合に、文字と地色とのコントラストが小さくならないようにする。 - 特許庁

To provide a plasma display panel which provides sharp contrast display, is low-cost without decreasing brightness and can be driven by positive drive, and to provide a drive method therefor.例文帳に追加

強いコントラストを得ることができると共に、輝度を低減させることなくコストを削減することができプログレッシブ駆動が可能なプラズマディスプレイパネル及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-mode compliant positive lithographic printing original plate which suppresses production of a residual film during development, which can form an image with excellent contrast and which has printing durability/chemical resistance and excellent sensitivity.例文帳に追加

現像時の残膜の発生が抑制され、コントラストに優れた画像の形成が可能で、且つ、耐刷性・耐薬品性を有し、感度に優れたヒートモード対応ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist material which has an extremely high alkaline dissolution-rate contrast before and after exposure, a high resolution, a high sensitivity, and good roughness (LWR) after exposure, and further which suppresses acid diffusion rate, in particular, a positive type resist material using a high molecular compound suitable as a base resin of a chemical amplification positive type resist material, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、高感度で、露光後のラフネス（ＬＷＲ）が良好であり、その上特に酸拡散速度を抑制できるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the IPS liquid crystal display which improves the contrast characteristics at the front and at an inclination angle thereof, and design conditions and manufacture of the compensation film for angular field of view, by using a positive A-plate and a positive C-plate of a positive uniaxial retardation film, while minimizing color shifts, according to the viewing angles in the black state.例文帳に追加

本発明は、ＩＰＳ液晶表示装置において正面と傾斜角でのコントラスト特性を向上し、暗状態での視野角による色ずれが最小化できる、正の一軸性位相差フィルムの＋Ａ−プレートと＋Ｃ−プレートを用いた視野角の補償フィルムの設計条件と作製に係る。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition capable of forming an image superior in contrast between an image part and a nonimage and wide in development latitude and sufficient in film endurance, and more preferably, nonsensitive to ultraviolet rays and superior in handleability even under white fluorescent light and to provide the positive lithographic printing plate.例文帳に追加

画像部と非画像部とのコントラストに優れ、現像ラチチュードが広く、画像部の残膜率も十分に保持され、更に望ましくは、紫外線領域の光に対して感応せず、白色蛍光灯下における取扱性にも優れるポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition having such a degree of sensitivity that it can be satisfied as a positive type photoresist composition used in ultra-microfabrication in the production of a semiconductor device, excellent in image contrast and section shape, particularly having good focal depth-width characteristics and good heat resistance, excellent also in storage stability and having very high practicality.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における超微細加工に用いられるポジ型ホトレジスト組成物として、十分に満足しうる程度の感度を有し、画像コントラスト、断面形状に優れる上、特に焦点深度幅特性及び耐熱性が良好で、保存安定性にも優れた実用性の極めて高いものを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable when an exposure light source at ≤160 nm, in particular F_2 excimer laser light (at 157 nm), is used, and specifically, to provide a positive resist composition showing sufficient transmitting property when a light source at 157 nm is used, and having excellent coating property, resolution, exposure latitude and dissolution contrast.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、塗布性、解像性、露光ラチチュード、および溶解コントラストが優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a light source of ≤160 nm, concretely F_2 excimer laser light (157 nm) is used, excellent in sensitivity and contrast and ensuring a small number of particles in a resist solution.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ感度及びコントラストに優れ、レジスト液中のパーティクル数の小さいポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that attains both low acid diffusibility and high dissolution contrast, and is improved in a DOF and roundness or LWR of a hole pattern or a trench pattern by suppressing chemical flare caused by a produced acid or a quencher.例文帳に追加

低酸拡散性と高い溶解コントラストを両立すると共に、発生酸やクエンチャーなどによるケミカルフレアを抑制することにより、ホールパターンやトレンチパターンのＤＯＦと真円性もしくはＬＷＲを改善したポジ型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is suitably used for use of an exposure light source of ≤160 nm, specially, F_2 excimer laser light (157 nm) and shows sufficient transparency in use of the light source of 157 nm and has high sensitivity, a high contrast, and superior coating property.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ_２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高コントラストで塗布性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive planographic printing plate original plate for an infrared laser for direct plate having high sensitivity and storage stability, and having a recording layer of superior latitude in image formation by development and which is capable of forming images having superior contrast.例文帳に追加

現像による画像形成時のラチチュードに優れ、コントラストに優れた画像の形成が可能な記録層を備え、且つ、感度・保存安定性に優れたダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which simultaneously satisfies sufficiently high sensitivity, high definition, successful pattern geometry and good invacuo PED and line edge roughness under irradiation with electron beams or X-rays, further has high sensitivity and high contrast in characteristic evaluation by irradiation with EUV light.例文帳に追加

電子線又はＸ線照射下で十分な高感度、高解像性、良好なパターン形状と、良好な真空中ＰＥＤとラインエッジラフネスを同時に満足し、さらにＥＵＶ光の照射による特性評価においても高感度で高コントラストなポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁