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process variationsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 231件
To solve the problem that it is expensive to implement an integrated resistor with a precise value that does not change with temperature and variations in the process of fabrication.例文帳に追加
コストがかかる、温度と作製プロセスの変動と共に変化しない正確な値を有する集積抵抗器を実装しないようにする。 - 特許庁
(c) By using the differential data calculated in the process (b) as a population, a focus evaluation index representing a degree of variations of the population is computed.例文帳に追加
(c)前記工程bで求められた微分データを母集団とし、該母集団のばらつきの度合いを表すフォーカス評価指標を算出する。 - 特許庁
To provide an organic EL device which has little variations in brightness among the pixels even if rate of reflection of light of a reflecting layer is deteriorated in the manufacturing process.例文帳に追加
反射層の光反射率が製造工程で低下しても画素間で明るさのばらつきの少ない有機EL装置を提供すること。 - 特許庁
To suppress process variations caused by a gap between single crystal silicon carbide substrates in the manufacture of a semiconductor device using a composite substrate.例文帳に追加
複合基板を用いた半導体装置の製造において単結晶炭化珪素基板の間の隙間に起因した工程変動を抑制する。 - 特許庁
To enable space saving, easy manufacture, and reduction of clock skew, even if temperature, power voltage and process variations are fluctuated.例文帳に追加
省スペース化を可能にし、製造が容易であって、さらに温度,電源電圧,プロセスばらつきの変動があってもクロックスキューの削減を可能にする。 - 特許庁
In the step (B), at least one cycle is performed, in which a drying process and a wetting process are repeated such that temperatures and relative humidities are set to be varied within a range of ±5°C of dew-point variations in the drying process and the wetting process.例文帳に追加
工程(B):金属材料に対して、乾燥工程及び湿潤工程での露点変動が±5℃以内の範囲内で温度及び相対湿度を変化させて設定した乾燥工程と湿潤工程とを繰り返すことを1サイクルとし、このサイクルを少なくとも1回行う工程。 - 特許庁
To provide a duty correction circuit that corrects a duty ratio to a desired numeric value even if the characteristics of an N-type transistor and a P-type transistor deviate from the design stage due to variations in process and change in process.例文帳に追加
プロセスバラツキや、プロセス変更によりN型トランジスタ及びP型トランジスタ双方の特性が設計段階に対してずれても、デューティ比を所望の数値に補正するデューティ補正回路を提供する。 - 特許庁
This prevents variations from occurring in the reflow profile of a plurality of objects to be held, and variations from occurring in the reflow profile of the objects to be held, during the process of performing reflow processing to the objects to be held together with the jig device 200.例文帳に追加
このため、被保持物を治具装置200とともにリフロー処理する場合、複数の被保持物のリフロープロファイルに偏差が発生することや、被保持物の内部にリフロープロファイルの偏差が発生することを、防止することができる。 - 特許庁
To prevent variations in gate resistance caused by the fact that polysilicon of the gate cannot be extracted because of variations in height of the active region and the element isolation region in a transistor which is fabricated by gate-last process.例文帳に追加
ゲートラストプロセスで作製するトランジスタにおいて、活性領域と素子分離領域の高さばらつきのためゲートのポリシリコンを抜くことができないことにより、ゲートの抵抗にばらつきが生じるのを防ぐことを目的とする。 - 特許庁
To provide a semiconductor device receiving an external input signal from which a high speed output is obtained when variations in a threshold take place due to variations in a manufacturing process in a transistor in an amplifier circuit receiving a reference voltage.例文帳に追加
基準電圧が入力される増幅回路内のトランジスタにおいて製造プロセスの変動に起因する閾値の変動が生じた場合に外部入力信号に対して高速な出力を得られる半導体装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a stable output waveform at all the time, regardless of process variations, temperature fluctuations, power supply voltage variations, considerable variation of input capacity and the like, in a current/voltage-converting circuit used in an optical communication system or the like.例文帳に追加
光通信システム等において使用される電流電圧変換回路において、プロセス変動、温度変動、電源電圧変動、入力容量の大幅な変動等に関係なく、常に安定した出力波形を得られるようにする。 - 特許庁
To provide a support apparatus for process design for assembly/ disassembly allowing even a planner not accumulating know-how and knowledge to design easily and appropriately, achieving process design not causing variations without reference to planners and improving an efficiency of the process design.例文帳に追加
ノウハウや知識を蓄積していない計画者でも容易に適正な設計することができ、また計画者によってバラツキの起こらない工程設計を実現し、工程設計効率を向上させる組立分解工程設計支援装置を提供する。 - 特許庁
Even if the process fluctuation and the variations of the temperature and the supply voltage exist, a consumption power is small as an output convergence of the AGC amplifier is over in a short time.例文帳に追加
プロセスバラツキ、温度、電源電圧の変動があっても極く短い時間でAGCアンプの出力収束が終る為消費電力が少ない。 - 特許庁
To provide a detection circuit capable of performing high-speed operation by reducing variations in detection voltage level, caused by process mismatching or the like, for each sample.例文帳に追加
プロセスミスマッチ等によるサンプルごとの検出電圧レベルのばらつきを低減させることができ、高速動作を行うことが可能な検出回路を提供する。 - 特許庁
To provide a waveguide transmission line converter capable of reducing deterioration of frequency characteristics due to processing accuracy variations in a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程における加工精度のばらつきによる周波数特性の低下を低減させることができる導波管伝送線路変換器を提供する。 - 特許庁
To shorten a lock-in time by controlling a PLL circuit according to variations of a process, temperature, a source voltage, etc.例文帳に追加
この発明は、PLL回路に関し、プロセス、温度、電源電圧等の変動に合わせた回路の制御を行い、ロックイン時間を短縮させる事を目的とする。 - 特許庁
To make it possible to decrease the variations in ashing rates in a resist ashing treatment of a batch type in a production process for semiconductor products.例文帳に追加
半導体製品製造工程におけるバッチ式のレジストアッシング処理において、アッシングレートのばらつきを低減させることが可能なアッシング装置を提供する。 - 特許庁
To automatically optimize the local area ratio of an exposed part of an element isolation layer so that variations in temperature do not occur in a lamp anneal process.例文帳に追加
ランプアニール工程において温度のばらつきが発生しないように素子分離層の露出部の局所面積率を自動的に最適化すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which has a relatively easy manufacturing process and suppresses variations in characteristics of a MOSFET (Metal-Oxide Semiconductor Field Effect Transistor).例文帳に追加
製造プロセスが比較的容易で、かつMOSFETの特性のばらつきを抑えることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing optical fiber preforms capable of efficiently manufacturing the optical fiber preforms having small variations in characteristics with respect to specifications by a simple process.例文帳に追加
仕様に対して、特性のばらつきの小さな光ファイバ母材を簡便なプロセスで効率良く製造できる光ファイバ母材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a D/A converter which applies band-limiting on its analog output to obtain desired frequency characteristics, irrespective of process variations.例文帳に追加
プロセス変動に関係なく、そのアナログ出力に帯域制限をかけて所望の周波数特性を得ることができるDA変換器を提供する。 - 特許庁
To perform stable operation using a low voltage without increasing power consumption even if a threshold voltage of a transistor is varied by temperature or production process variations.例文帳に追加
温度や製造プロセスのばらつに起因してトランジスタの閾値電圧がばらついても、消費電力を増大させずに、低電圧で安定動作させる。 - 特許庁
To provide an electroluminescent display device capable of easily manufacturing multiple variations of different colors of display segments without complicating the manufacturing process.例文帳に追加
製造工程が煩雑になる虞がなく、表示セグメントの色が異なる複数のバリエーションを簡単に製造できる電界発光表示素子を提供する。 - 特許庁
To provide an oscillator which has a small size and a wide-band width, while the variations in the characteristic oscillation frequency is small with respect to a process, and to provide an electrical signal processing element.例文帳に追加
小型で帯域幅が広く、且つプロセスに対して固有振動周波数のバラツキの小さい振動子及び電気信号処理素子を提供する。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor which has high sensitivity with small variations in withstand potential, an electrophotographic device that is equipped therewith, and a process cartridge.例文帳に追加
高感度でかつ耐久電位変動が小さい電子写真感光体、該電子写真感光体を備えた電子写真装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
To output a signal in a stable oscillation frequency independently of process variations or the ambient temperature without inviting complication or expansion of circuit scale.例文帳に追加
回路規模の複雑化や増大化を招くことなく、プロセスばらつきや周囲温度に依存しない安定した発振周波数で信号を出力させる。 - 特許庁
To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.例文帳に追加
基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁
To provide a negative voltage detection circuit which is hardly affected by temperature variation and variations in manufacturing process and can detect negative voltages with higher precision.例文帳に追加
温度変動や製造プロセスのバラツキの影響を受け難く、より精度の高い負電圧検知を実現できる負電圧検知回路を提供する。 - 特許庁
The pareto is specified for the worst performance considering variations of operation environment and manufacturing process, thereby improving the yield ratio dramatically.例文帳に追加
なお、動作環境や製造プロセスのばらつきを考慮した上で最悪性能についてパレートを特定するため、歩留まりを飛躍的に高めることができる。 - 特許庁
To improve the reliability and the productivity of a solid-state imaging apparatus by controlling an ion implantation angle so as to suppress characteristic variations due to process dispersions.例文帳に追加
イオン注入角度を制御してプロセスばらつきによる特性変動を抑制し、固体撮像装置の信頼性向上、生産性向上を可能とする。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor element capable of high speed operation and exhibiting large current driving power while suppressing variations between the elements.例文帳に追加
高速動作が可能で電流駆動能力の高く、且つ複数の素子間においてばらつきの小さい半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁
To utilize the test results during the manufacturing process by enabling a test during slitting by eliminating variations between oprators and test errors.例文帳に追加
磁気記録媒体の検査装置において、作業者間のバラツキや誤検査をなくし、裁断中の検査を可能として、検査結果を製造工程稼動中に生かす。 - 特許庁
To obtain a start-up circuit that can generate an optimum start-up signal for each chip corresponding to dispersion in a characteristic of TRs due to variations in the manufacture process.例文帳に追加
プロセスのばらつきによるトランジスタの特性のばらつきに対応してチップ毎に最適な起動信号を生成することができる起動回路を提供する。 - 特許庁
To provide a surface mount coil component, and its manufacturing process, in which variations in the coil characteristics can be suppressed between products while reducing the size.例文帳に追加
小型化を達成すると共に製品毎のコイル特性のバラツキを抑制可能な面実装型コイル部品及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To control variations in delay time due to a temperature dependence characteristic of resistors so as to prevent a delay circuit from being inoperable due to process variations in the resistors and to shift an output voltage from a correction circuit to a desired voltage at high speed when the standby state is released.例文帳に追加
抵抗の温度依存特性による遅延時間のばらつきをコントロールし、抵抗のプロセスばらつきによって遅延回路が動作しないことを防ぎ、スタンバイ解除時に補正回路からの出力電圧を高速に所望の電圧に遷移させる。 - 特許庁
A smoothing process for smoothing variations, in relation to the detected central AD converted value is performed, and the results (averaged values) of the smoothing process are to be output to a microcomputer as data to be used by engine control.例文帳に追加
そして更に、その検出した真中の各A/D変換値に対して、変動を滑らかにするなまし処理を行い、そのなまし処理の結果(なまし値)を、エンジンの制御に使用されるデータとして、マイコンに出力する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a magnetic tape by which variations in a manufacturing process can be suppressed and a constant curve shape can be acquired also at a pancake periphery side.例文帳に追加
製造工程上のばらつきを抑え、パンケーキ外周側にも一定の湾曲形状を得られる磁気テープの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a system that can consider and compensate for expected process variations during the design and verification procedures so that a layout can be made more effective and easier to manufacture.例文帳に追加
レイアウトが、より効果的で製造しやすいように、設計および検証工程中に、予測されるプロセス変動を考慮し、補正できるシステムを提供すること。 - 特許庁
To provide a method of setting measurement and inspection conditions which enables setting of high-precision measurement and inspection conditions irrespective of process variations and to provide a computer program.例文帳に追加
本発明は、プロセス変動に依らず、高精度な測定,検査条件の設定を可能とする測定,検査条件設定方法、及びコンピュータプログラムの提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a semiconductor integrated circuit capable of mitigating a restriction on timing design because of variations of a semiconductor manufacture process and improving an yield after manufacture.例文帳に追加
半導体製造プロセスのばらつきによるタイミング設計上の制約を緩和し、製造後の歩留まりを向上させることができる半導体集積回路を提供する。 - 特許庁
To allow for the pack clearance of a clutch pack to be adjusted to the proper amount during the manufacturing process, even if there are variations in friction disc thickness and steel disc thickness .例文帳に追加
摩擦ディスクの厚さと鋼鉄ディスクの厚さにばらつきがある場合でも、製造工程においてクラッチパックのパック隙間が適切な値に調整されることを可能にする。 - 特許庁
To provide a bandgap reference circuit that reduces variations in a manufacturing process and supplies a constant voltage independent of supply voltage and temperature change.例文帳に追加
製造プロセスでのばらつきの影響が抑えられ、なおかつ、電源電圧、温度の変動に依存しない定電圧を供給できるバンドギャップリファレンス回路を提供する。 - 特許庁
To provide a transfer device, where stable performance can be secured, with respect to environmental variations in a constant current control transfer process of an electrophotographic printer.例文帳に追加
電子写真プリンタにおける定電流制御転写プロセスにおいて、環境変動に対して安定した性能を確保することが出来る転写装置を提供する。 - 特許庁
To provide a slip form device capable of constructing a cylindrical structure making variations in a sectional form in accordance with height by a simple process without being required for a form exchange.例文帳に追加
断面形状が高さに応じて変化する筒状構造物を、型枠交換を必要としない簡易な工程で構築することが可能なスリップフォーム装置を提供する - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing apparatus which reduces variations in the thickness of a film formed on a semiconductor substrate by restraining the biased flow of process gas.例文帳に追加
プロセスガスが偏って流れることを抑え、半導体基板上に形成される膜の膜厚バラツキを低減することが可能な半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To realize an increase in yield by eliminating variations in temperature for heating arc tubes and making the inflow amount of frit uniform, in a sealing process of arc tubes for ceramic metal halide lamps.例文帳に追加
セラミックメタルハライドランプの発光管の封止工程において、発光管ごとの加熱温度のバラツキをなくし、フリットの流れ込み量を均一にし、歩留を向上させる。 - 特許庁
To provide a semiconductor device for electric power wherein the lowering of breakdown voltage due to variations on a manufacturing process is suppressed and that is provided with a super-junction structure to realize low on-resistance.例文帳に追加
製造プロセス上のばらつきに対する耐圧の低下が小さく、低オン抵抗化も可能なスーパージャンクション構造を有する電力用半導体素子を提供する。 - 特許庁
To verify timing of worst or best-case simulation after obtaining the result of highly accurately extracting a parasitic element allowing for wiring shape variations occurring in an LSI at random, when verifying timing allowing for variations in a manufacturing process for a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路の製造プロセスばらつきを考慮したタイミング検証を行なう際、LSI内でランダムに発生する配線形状ばらつきを考慮して高精度に寄生素子抽出の結果を得てワースト又はベストケースシミュレーションのタイミング検証を行なう。 - 特許庁
The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process.例文帳に追加
この方法は、シミュレートされた画像を生成するための、リソグラフィプロセスに関連したプロセス変動を説明する関数を決定すること、および、リソグラフィプロセスのターゲットデザインの結像結果を表す前記シミュレートされた画像を、前記関数を用いて生成することを含む。 - 特許庁
To provide a coating and developing device which calculates a first time period (PCD time period), etc. from completion of the coating process of a resist by a coating unit to start of a heating process by a first heating unit in a subsequent process, without processing a substrate actually, and can predict variations of a circuit line width, etc.例文帳に追加
実際に塗布、現像装置にて基板を処理することなく、塗布ユニットでのレジストの塗布処理が終了してから次工程の第1の加熱ユニットにて加熱処理が開始されるまでの第1の時間(PCD時間)時間等を演算して、回路線幅等のバラツキを予測すること。 - 特許庁
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