「process variations」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To perform stable exposure by preventing light from entering silicon carbide in exposure, and hence avoiding variations in the quantity of light caused by reflection light in the pattern exposure of an exposure process.例文帳に追加

露光時における炭化珪素への光の入射が防止され、露光工程のパターン露光時における反射光による光量変動を回避して安定した露光を可能とする。 - 特許庁

To provide a production method by which metal compound oxide powder having no variations in composition in a production process, and in which precise compositional control is possible, and having a homogeneous composition can easily be obtained.例文帳に追加

製造工程にて組成のずれが生じず、精密な組成制御が可能であり、かつ組成が均質な金属複合酸化物粉末を容易に得られる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resistor and manufacturing method of the same for reducing variations in characteristics in a manufacturing process, in a small resistor manufactured by processing a material composed of an alloy.例文帳に追加

合金からなる材料に加工を施して製造される小型の抵抗器において、製造工程における特性ばらつきを低減した抵抗器と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To ensure that an insulator is more reliably prevented from being damaged and has sufficient durability during a compression and heating process or the like, and variations in a resistance value of a resistor are relatively reduced.例文帳に追加

圧縮加熱時等における、絶縁体の破損をより確実に防止できるとともに、十分な耐久性を有し、かつ、抵抗体の抵抗値のばらつきを比較的少なくする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of an optical film, which is a cellulose easter film made by a melt flow film forming method, has smaller variations in film thickness and retardation and is useful for a protection film for polarizing plates.例文帳に追加

本発明の目的は、溶融製膜されたセルロースエステルフィルムであって、膜厚ムラやリターデーションムラが低減された偏光板保護フィルムに有用な光学フィルムの製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor which has high mobility, low threshold voltage and less variations by lowering the capture level of a semiconductor layer formed by a low-temperature process as well as MOS boundary.例文帳に追加

低温プロセスで形成した半導体層およびＭＯＳ界面の捕獲準位を低減せしめ、高移動度、低しきい値電圧でなお且つバラツキの少ない薄膜トランジスタを実現する。 - 特許庁

The spring set provides planar motion while reducing undesired out of plane motion, which makes MEMS devices substantially insensitive to the process-induced etch angle variations of the spring elements.例文帳に追加

該バネセットは、面運動を提供し、同時に、望ましくない面外運動を低減し、ＭＥＭＳデバイスを、該バネ要素のプロセス誘発エッチング角度ばらつきに対し実質的に鈍感にする。 - 特許庁

To output a plurality of clocks in which a phase relation becomes constant in accordance with the cycle of an external clock, even if there is fluctuations in element characteristics due to power source voltage, variations in the temperature and manufacturing process.例文帳に追加

電源電圧、温度変動、製造プロセスによる素子特性の変動があっても、外部クロックの周期に応じて位相関係が一定になる複数のクロックを出力する。 - 特許庁

To disclose an overflow drain structure in an amplification type solid-state image pickup device which prevents variations in manufacturing process from substantially influencing transfer characteristics and overflow characteristics of signal charge.例文帳に追加

増幅型固体撮像素子において、製造工程でのばらつきが信号電荷の転送特性、及びオーバーフロー特性に大きく影響しないオーバーフロードレイン構造を開示する。 - 特許庁

To provide a magnetic sensor manufacturing method and a magnetic sensor capable of reducing variations in offset voltage even if heat is added to the sensor at least in a packaging process at manufacture.例文帳に追加

少なくとも製造時のパッケージ工程においてセンサに熱が加えられたとしても、オフセット電圧のバラツキを軽減することができる磁気センサの製造方法及び磁気センサを提供する。 - 特許庁

Consequently, when timing that the internal signal C is fetched into the internal circuit 11 and a timing the internal circuit 11 is activated by the activation signal B are matched, an influence of process variations is alleviated.例文帳に追加

これにより、内部信号Ｃが内部回路１１に取り込まれるタイミングと活性信号Ｂで内部回路１１を活性化するタイミングを合わせるとき、プロセスバラツキの影響を緩和する。 - 特許庁

To adjust an exposure luminous energy in each area precisely set within a substrate plane, to improve uniformity in a resist residual film after a developing process and to suppress variations in the line width and pitches of a wiring pattern.例文帳に追加

基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

To control an effective voltage V' effectively applied to a gap 7 at a predetermined value during "an activation process", in order to suppress the variations of electron emission characteristics.例文帳に追加

電子放出特性のばらつきを抑制するために、「活性化工程」中において間隙７に実効的に印加される実効電圧Ｖ’を所望の値になるように制御する。 - 特許庁

To provide a template creating method for template matching, stably securing high matching accuracy without depending on process variations etc. and also to provide a template creating apparatus.例文帳に追加

本発明は、プロセス変動等に依らず、高いマッチング精度を安定して確保することが可能なテンプレートマッチング用テンプレート作成方法、及びテンプレート作成装置の提供を目的とする。 - 特許庁

Further, the signal processing process has a tilt value calculating process step S3 wherein the tilt values of one beat wave at the time of rising and falling are calculated and a folding-back decision process S4 wherein the folding-back time point of the object to be measured is decided according to time-series variations of the tilt values calculated in the tilt value calculating process.例文帳に追加

しかも、信号処理工程は、ビート波での一波について当該ビート波の上昇時の傾き値と下降時の傾き値とを算出する傾き値算出工程ステップＳ３と、この傾き値算出工程Ｓ３にて算出された上昇時と下降時との傾き値の時系列での変化に基づいて測定対象物の折返し時点を判定する折返し判定工程Ｓ４とを備えた。 - 特許庁

To provide a flip chip type electric connecting structure of a semiconductor chip with a simple process, by which a reliable electrical connection can be obtained even when there are some variations in the height and the size of a bump.例文帳に追加

バンプの高さや大きさに多少のバラツキがあっても確実な電気的接続が得られる、フリップチップ方式による半導体チップの接続構造を、簡便な工程で安価に提供する。 - 特許庁

To provide a timing control circuit for a semiconductor integrated circuit device capable of suppressing a control signal given to a control object circuit of the semiconductor integrated circuit device from being fluctuated due to variations of a manufacture process, a power supply voltage and ambient temperature or the like.例文帳に追加

半導体集積回路装置の制御対象回路に与える制御信号が製造プロセスや電源電圧、周囲温度などの変動によって変動するのを抑制すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a bit contact which settles an issue of insufficient separation margin on resist pattern exposure as well as local variations in dry-etching process to suppress increase in the number of steps and laboriousness.例文帳に追加

レジストパターン露光時の分離マージン不足の解消と同時にドライエッチング加工の局所ばらつきを解消し、工程数の増大及び煩雑化を抑えたビットコンタクトの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse generating circuit capable of carrying out phase adjustment without being affected by an external environment such as temperature and semiconductor process variations in comparison with that of prior arts and to provide an imaging apparatus and a camera.例文帳に追加

従来に比べて温度や半導体プロセス変動などの外部環境の影響を受けずに位相調整を行うことができるパルス生成回路、撮像装置及びカメラを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display device at a high yield by preventing the continuous occurrence of failures due to variations in laser conditions or device faults and preventing failures in a laser annealing process.例文帳に追加

レーザ条件の変動あるいは装置異常による不良が連続して発生するのを防いで、レーザアニール工程での不良を防止し、高歩留まりに表示装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process for a reclaimed polyester resin which has a high viscosity with reduced viscosity variations and from which a high tenacity and stable quality industrial polyester fiber is obtained with a good operability.例文帳に追加

高強度で安定した性能の産業資材用ポリエステル繊維を操業性良く得ることができる、高粘度でかつ粘度のバラツキが小さい再生ポリエステル樹脂の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor and its system that can support high integration and high-speed by means of monitoring fluctuations due to process variations in a system LSI or the like.例文帳に追加

システムＬＳＩ等において、プロセスばらつきの変動を監視することによって、高集積化および高速性に対応出来るようにした半導体の製造方法およびそのシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for controlling an industrial process, which can quickly calculate a correct target value and an actuating quantity corresponding to variations in operating conditions or the like, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

操業条件などの変動に対応した正しい目標値計算及び操作量計算を迅速に行うことができる工業プロセスの制御方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To uniformly heat a plasma display panel by reducing heating variations in an exhausting process in manufacturing processes of the plasma display panel; and to reduce impure gas and impurities remaining in the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造工程における排気工程において、加熱ムラを低減してプラズマディスプレイパネルを均一に加熱し、プラズマディスプレイパネル内に残留する不純ガスおよび不純物を低減する。 - 特許庁

To provide a waveguide element and a wavelength conversion element capable of suppressing variations of effective refractive index due to a size error that a channel optical waveguide has during a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程においてチャネル型光導波路に導入される寸法誤差により生じる等価屈折率のバラツキを抑制することができる導波路素子及び波長変換素子を提供すること。 - 特許庁

In addition, as to the axial direction wall surface 4c1, variations of machining allowances are made small by performing grinding process or hardened steel cutting operation, after the heat treatment (carburizing and quenching, and tempering) of the cage 4.例文帳に追加

さらに、軸方向壁面４ｃ１については、該保持器４の熱処理（浸炭焼入れ焼戻し）後に、研削又は焼入れ鋼切削等を行って、加工代のバラツキが小さくなるようにしている。 - 特許庁

To suppress lowering of discrimination accuracy by suppressing noise components caused in a normalization process in the process of normalizing an image subjected to face image discrimination such that a uniform degree of variance of pixel values suppresses contrast variations and then discriminating the image.例文帳に追加

顔画像であるか否かの判別対象画像に対して、コントラストのばらつきを抑制すべく画素値の分散の程度を揃える正規化処理を施した後に、この画像の判別を行う処理において、正規化処理によるノイズ成分の発生を抑え、判別精度の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for effectively collecting and keeping process data on long articles, while utilizing data on the pitch of a set length and the pitch of a set cycle, letting the process data of the long articles, especially a long article having conspicuous variations in length from lot to lot be representative data on each of articles and processes.例文帳に追加

長尺製品、特にロット間で長さに著しいバラツキがある長尺製品のプロセスデータを各製品、プロセスの代表データとなるように、また定長ピッチや定周期ピッチのデータを利用しながら効率的に長尺製品のプロセスデータを収集・保管する方法を提案する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a highly reliable molded coil having excellent characteristics at a low cost, in which the mold structure is not complex, the molding process can be simplified, and variations in the mold position of a winding and the dimensions are small.例文帳に追加

金型構造が複雑でなく、モールド工程が簡略化でき、巻き線のモールド位置や寸法ばらつきが少なく、低コストで特性や信頼性の高いモールドコイルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and device as the method and device for cleaning and measuring a tool of a tool unit accurately without having large variations and directly incorporated in an operation process.例文帳に追加

工具装置の工具を洗浄し、測定するための方法および装置として、大きいばらつきなしに極めて正確な測定を可能とし、作業プロセスに直接に組み込むことのできる方法および装置を提案する。 - 特許庁

To provide a signal generator and method, with which the phase shift by supply voltage, operating temperature and process variations are suppressed and the phase is easily adjusted with high precision even when an external load and output buffer structure are different.例文帳に追加

電源電圧、動作温度、プロセスばらつきによる位相のずれを抑制し、かつ外部負荷や出力バッファ構成が異なる場合でも高精度かつ容易に調整できる信号発生装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for calculating spatial and temporal variations of a toner concentration in accordance with an advection diffusion equation in the case that a spatial distribution of developer mass density is not uniform in an electrophotographic development process with a two-component developer.例文帳に追加

電子写真における二成分現像プロセスにおいて、現像剤質量密度の空間分布が一様ではない場合に、トナー濃度の空間時間変化を移流拡散方程式で計算する方法を提供する。 - 特許庁

The circuit is implemented in a customized POR built into a custom IC, and emulates the critical circuit transistors in the custom IC using imitating counterparts which are similarly affected by changes in temperature and process variations as the main circuit components.例文帳に追加

この回路は、カスタム化されたＰＯＲに実施され、温度変化やプロセス変動によって主回路要素と同様に影響される模倣相手部品を使うカスタムＩＣ中で、臨界回路トランジスタをまねる。 - 特許庁

To provide a current drive circuit which supplies driving currents of the same level from a plurality of a constant current driving parts by restraining influences from dropping in voltage due to power supply wiring and variations in production process.例文帳に追加

電源配線による電圧降下や製造プロセスのばらつきの影響を抑え、複数の定電流駆動部から同じ大きさの駆動電流を供給することができる電流駆動回路を構成する。 - 特許庁

To provide a method for correcting variations in a CD due to fogging effect, that appears in electron beam exposure and/or loading effect that appears in a dry etching process for exposure, and to provide a record medium where the method is recorded.例文帳に追加

電子ビーム露光時に現れるフォギング効果及び／または乾式エッチング工程時に現れるローディング効果によるＣＤの変化を補正して露光する方法及びこれを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a clock and data reproducing circuit providing strong immunity against manufacturing process variations and environmental fluctuations and capable of recovering a clock signal and a data signal even from data including long same codes.例文帳に追加

製造工程ばらつきや環境変動に対する強い耐性をもち、さらに、長い同符号を含むデータに対してクロック信号及びデータ信号を再生することができるクロック及びデータ再生回路を提供する。 - 特許庁

To achieve highly accurate concentration control in the process of generation processing on concentration control parameters while suppressing decrease in productivity and suppressing the influence by concentration variations due to difference of positions on a photoreceptor drum.例文帳に追加

濃度制御パラメータを生成処理する際に、生産性の低下を抑制しながら、かつ、感光体ドラム上の位置の違いによる濃度ばらつきの影響を抑制して、高精度な濃度制御を実現する。 - 特許庁

To fabricate a semiconductor device satisfying the demand of reduction in size and weight with high reliability while eliminating generation of leakage current or variations in the resistance or characteristics without causing any increase in the fabrication process.例文帳に追加

小型化、軽量化の要請に応じた半導体装置を、リーク電流の発生、抵抗値や特性のばらつきのない高い信頼性で、かつ製造工程の増加を招くことなく製造することを目的とする。 - 特許庁

Since the time length of aging treatment required for a prescribed characteristic state, such as prescribed activation and discharge stabilization, varies due to manufacturing variations in the PDP, for example a minimum required time length is set and a second aging process is executed to those where aging is insufficient due to variations, thus preventing a decrease in efficiency by executing unnecessarily long aging and providing stable characteristics without any variations efficiently.例文帳に追加

ＰＤＰにおける製造上のばらつきなどにより、所定の活性化や放電安定化などの所定の特性状態とするために必要なエージング処理の時間長にもばらつきが生じることから、例えば必要最小限の時間長に設定し、ばらつきによりエージングが不十分なものに対して第２エージング工程を実施することで、不要に長いエージングを実施することによる効率低下を防止でき、ばらつきがない安定した特性を効率よく提供できる。 - 特許庁

In a method for analyzing time-series distribution information of defects within the surface of a wafer obtained in an identical inspection process of a manufacturing process of a thin film device for forming the thin film device by sequentially processing the wafer, the occurrence of abnormality in the manufacturing process is determined on the basis of a judgement of local variations in distribution of the defects within the wafer.例文帳に追加

基板を順次処理して薄膜デバイスを形成する薄膜デバイスの製造工程において同一の検査工程にて時系列に得られた欠陥の前記基板面内での分布情報を解析する方法において、前記欠陥の基板面内での分布の局所的な粗密変動を判定基準として前記製造工程において異常が発生したことを判定するようにした。 - 特許庁

A lock range, corresponding to each worst condition, is taken out by adding a limit circuit 5, a control current value to be supplied according to the fluctuations by the variations of the process of a VCO ring by adding a current ratio adjustment circuit 6 is adjusted by changing a current ratio, and a fixed VCO gain is realized, regardless of the fluctuations of the process.例文帳に追加

又リミット回路５を付加することで各ワースト条件に応じたロックレンジを取り出し、カレント比調整回路６を付加することでＶＣＯリングのプロセスバラツキによる変動に応じて供給する制御電流値についてカレント比を変えることで調整し、プロセス変動によらず一定のＶＣＯゲインを実現する。 - 特許庁

To provide an efficient process for producing fine nickel powder, capable of metallizing the powder at low temperature to prevent its sintering, and fine nickel powder produced by the process, composed of particles having a flat shape, diameter of limited variations and uniform thickness, and suitable for internal electrodes for laminate ceramic capacitors of high electric capacity.例文帳に追加

焼結を防止するため低温度で金属化することができる効率的な微粒ニッケル粉末の製造方法と、それにより得られる高容量積層セラミックスコンデンサ内部電極用として好適な、扁平な形状を有し、粒径のバラツキが少ない均一な厚さを有する微粒ニッケル粉末を提供する。 - 特許庁

To provide a method in which when chlorine compounds extracted from a chlorine bypass apparatus of a cement manufacturing plant are recovered to the cement manufacturing plant, the chlorine compounds do not adhere to a transport machine in a transport process, and variations in component quality are not generated by uneven distribution due to the segregation phenomenon of the chlorine compounds in a storage process.例文帳に追加

セメント製造装置の塩素バイパス装置から抽出される塩素化合物を、セメント製造装置へ回収する際に、輸送工程で輸送機に付着せず、貯蔵工程にて塩素化合物がセグリゲーション現象による偏在によって、成分品質のばらつきが発生しないような方法を見出す。 - 特許庁

A laser 23 is irradiated on a substrate 1 where a pattern or a film is formed, and variations among chips of reflected light levels fluctuating by fluctuation of process conditions is obtained in a chip group within a wafer, and this fluctuation is monitored within the wafer or among wafers, and thus control over the process conditions in a semiconductor manufacturing can be achieved.例文帳に追加

パターンあるいは成膜が形成された基板１上にレーザ２３を照射し、プロセス条件の変動により変動する反射光レベルのチップ間でのばらつきをウエハ内のチップ群内で求め、この変動をウエハ内あるいはウエハ間で監視することで半導体製造上のプロセス条件の管理を達成できる。 - 特許庁

To provide a resistor circuit in which resistance value variations are few and stable and an output voltage precision is high, the influence of a plasma charge in connection with a semiconductor manufacturing process, heat-stress, etc. is suppressed and which consists of a polycrystalline silicon resistor.例文帳に追加

抵抗値変動が少なく安定的で出力電圧精度が高く、半導体製造工程に関わるプラズマチャージや熱・応力などの影響を抑制し、多結晶シリコン抵抗体からなる抵抗回路を提供する。 - 特許庁