| 例文 |
process variationsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 231件
To provide a semiconductor device which can reduce the area occupied by a memory cell and suppress the influence of variations to minimum in the manufacturing process to ensure the stable operation of the semiconductor device.例文帳に追加
本発明は、半導体記憶装置に関し、メモリセルが占有する面積を減少し、且つ、製造プロセスのばらつきの影響を最小限に抑さえて安定した半導体記憶装置の動作を保証することを目的とする。 - 特許庁
Since the device is arranged not to perform its switching operation when variations in all the signals are not smaller than the predetermined value α, the device performs no switching operation when a process quantity as a source of the input signal varies stepwise or disturbances are superimposed.例文帳に追加
また、全ての信号の変化量が所定の値α以上になると切り替えないようにしたので、入力信号の元になっているプロセス量がステップ状に変化し、また外乱が重畳したときには、切り替えが発生しない。 - 特許庁
To solve the problem that a control system utilizing a low speed scan cycle is unable to compensate for high frequency process variations which have a duration less than the round-trip communications time between the controller developing the compensating control signal and the measurement device.例文帳に追加
低速な走査サイクルを用いる制御システムは、補償制御信号を生成するコントローラと測定デバイスとの間の往復通信時間よりも継続時間が短い高周波プロセス変動に対して補償することができない。 - 特許庁
To achieve a new uplink connection process between a mobile station and a base station based on the EUTRA standard to flexibly coping with a condition of the mobile station and actual transmission procedure variations and also effectively using communication resources.例文帳に追加
移動局の状態や実際の送信手順のバリエーションに柔軟に対応可能であり、通信リソースの有効利用も可能な、EUTRA規格に準拠した、移動局と基地局との間の新規な上り接続処理を実現する。 - 特許庁
To provide a spread spectrum clock generating circuit that can easily be designed, facilitate changing a modulation protocol, and efficiently carry out frequency modulation constantly at all times independently of a process, a temperature, and variations in a power supply voltage.例文帳に追加
設計が容易、かつ変調プロファイルの変更も簡単であり、しかもプロセス、温度、電源電圧の変動に関わらず、常に一定の周波数変調を効率的に行うことができるスペクトラム拡散クロック生成回路を提供する。 - 特許庁
As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加
実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、CMP加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁
To compensate color variations among multiple user prints by providing a target simulation process, to each user printer, that modifies its default color characteristics so that it has the same color characteristics as those of a designated target printer.例文帳に追加
ユーザプリンタのデフォルト色特性が指定されたターゲットプリンタと同じ色特性を有するように修正するターゲットシミュレーション処理を各ユーザプリンタに提供することにより、複数のユーザプリント間における色変動を補償する。 - 特許庁
To prevent short-circuiting due to deformation at a bonding process, pressurization spots (variations), or deformation of a material itself at unit shape processing, caused by pressure treatment at bonding of a counter electrode and a photoelectrode, in the manufacturing of a dye-sensitized solar battery.例文帳に追加
色素増感太陽電池の作製において、対極と光電極を貼り合わせる際の加圧処理に起因する貼り合わせ工程時の変形、加圧斑(むら)、または材料自体のユニット形状加工時の変形等による短絡の防止。 - 特許庁
Regarding the delay circuit blocks, the delay of each delay circuit is properly adjusted according to the column latency and operating frequency, and also adjusted according to the variations of process and operating voltage and changes of the operating temperature as well.例文帳に追加
これらの遅延回路ブロックは、カラムレイテンシ、動作周波数にあわせて各遅延回路の遅延量が適切な値に調節されると共に、プロセスや動作電圧のばらつき、動作温度の変化に対応して、遅延量が調節される。 - 特許庁
To provide a high-performance capacitance pressure sensor efficiently manufactured by a simple process with its sealing property maintained while restraining detection accuracy from changing due to temperature variations, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
簡単な工程で封止性を維持しつつ効率よく製造が可能であり、かつ温度の変動による検出精度の変化を抑えることが可能な高性能な静電容量型圧力センサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process and an apparatus for manufacturing laminates continuously with a high productivity at a low cost which are excellent in molderbility, heat resistance, thermal expansion and flame retardance and has little variations such as warping.例文帳に追加
本発明の目的は、成形性に優れ、反り等のバラツキが少なく、耐熱性、熱膨張性および難燃性に優れた積層板を、生産性が高く低コストで連続的に製造する方法および装置を提供することである。 - 特許庁
To provide a method for load distribution which has small processing delay variations, hardly causes a deterioration in processing performance for queuing due to process order reversal and hardly causes an increase in delay due to an increase in the amount of receiving buffers.例文帳に追加
処理遅延バラツキが小さく、処理順序逆転による待ち合わせのための処理性能パフォーマンス低下が生じにくく、受付バッファ量の増大による遅延増大が発生しにくい負荷分散の手法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for securing a wafer in which the variations in processing accuracy can be reduced among the wafers, with the wafer protected properly against damages, and to provide a process for manufacturing a semiconductor chip of high productivity.例文帳に追加
ウエハ毎に発生し得る加工精度のバラツキを低減することができ、しかもウエハの破損を良好に防止することが可能なウエハの固定方法、ならびに、生産性の高い半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a wide variety of carbazole derivatives through a simple, uncomplicated process, wherein the variations in yield, purity, etc., of a desired substance due to the type of an aryl group introduced is reduced as much as possible.例文帳に追加
簡潔かつ単純なプロセスで、しかも導入されたアリール基の種類によって生ずる目的物質の収率及び純度等の差異を極力低減した各種バリエーションのカルバゾール誘導体を製造する方法の提供。 - 特許庁
To provide an apparatus and method for heating a stator coil, capable of improving workability of a heating process of the stator coil, and effectively preventing partial thermal deformation of a core caused by flux of coil heads without causing variations in heating temperature.例文帳に追加
加熱温度がばらつくような問題もなく、ステータコイルの加熱処理の作業性の向上を図り、コイルヘッドの磁束によるコアの局部的な熱変形を有効に防止できるステータコイルの加熱装置及び加熱方法を提供する。 - 特許庁
To provide a means for detecting a tracking error signal which has an easy assembly process and also resists variations in track pitch, and to provide a diffraction grating, an optical pickup, and an optical disk device for attaining the means.例文帳に追加
本発明は、組み立て工程の安易で、かつまたトラックピッチ変動に強いトラッキングエラー信号検出の手段、およびその手段を実現するための回折格子、光ピックアップ、光ディスク装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
In the process for forming the SiGe removal hole H, the Si_3N_4 film 18 remains in the element region, thus preventing the Si layer 13 below the Si_3N_4 film 18 from being etched, and hence reducing variations in the working of the element region.例文帳に追加
このSiGe除去穴Hを形成する工程では、素子領域にSi_3N_4膜18が残っているので、その下のSi層13はエッチングされずに済み、素子領域の加工ばらつきを少なくすることができる。 - 特許庁
To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which can prevent variations in the thickness of an interlayer insulating film during formation of a multi-layered wiring structure, by a resist etch back process to thereby obtain a semiconductor device having a stable capacity between wiring layers.例文帳に追加
多層配線構造のレジストエッチバックによる形成プロセスにおいて、層間絶縁膜厚の変動を防ぎ、配線層間容量の安定した半導体装置が得られる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
By including a differential amplifier circuit 40 which is operated with the transistor N3 as a current source, as one of components, the voltage drop circuit 24 which is hardly influenced by a change in threshold voltage due to the variations in process or the temperature can be realized.例文帳に追加
トランジスタN3を電流源として動作する差動増幅回路40を構成要素とすることによりプロセスばらつきや温度によるしきい値電圧の変動の影響を受けにくい電圧降下回路24が実現できる。 - 特許庁
To enable the speedy ad definite discovery of the generation of failure, etc., by allowing the 100% inspection of recording media in the manufacturing process of the recording media and systematically recognizing the manufacturing history of the variations in deposition, etc., of a recording layer.例文帳に追加
記録媒体の製造過程において、記録媒体に対する全数検査を可能とし、記録層の成膜ばらつき等の製造履歴を体系的に把握できるようにして、故障の発生等を迅速に、かつ、的確に発見できるようにする。 - 特許庁
To prevent variations in combustion for each cylinder by obtaining information, corresponding to the heat generating ratio through a process of comparing the rotational fluctuation of an engine output shaft with the rotational fluctuation of the motoring operation state.例文帳に追加
この発明は、エンジン出力軸の回転変動をモータリング運転状態における回転変動と比較して熱発生率相当の情報を得て、気筒毎の燃焼バラツキを防止することを可能にするエンジンの燃料噴射制御装置を提供する。 - 特許庁
Regarding the laser welding method, in a welding process step, the variations of the physical quantity in the output state of a laser beam and in an environmental state upon the welding are detected by an output state detection sensor group 204 and a welding environment detection sensor group 205.例文帳に追加
このレーザ溶接方法では、溶接中工程において、レーザビームの出力状態及び溶接時の環境状態の物理量の変化を、出力状態検出センサ群204及び溶接環境検出センサ群205によって検出する。 - 特許庁
To provide a waterproof connector for solving problems of crack etc. resulting from variations in inner pressure of a waterproof case, adapting to the waterproof case made of resin having relatively low rigidity and strength and also being manufactured with a low cost by simplifying a manufacturing process.例文帳に追加
防水ケースの内圧の変化による亀裂等の課題を解消して、比較的剛性強度の低い樹脂製の防水ケースにも適用できるとともに、製造工程を簡素化して低コストで製造可能な防水用のコネクタを提供する。 - 特許庁
To provide a fixing device where a good fixed image can be always obtained even when variations are made in each mode required in a process for forming a fixed image, especially a variation of the size of passed paper, and where energy saving is achieved by not consuming unnecessary electric power.例文帳に追加
定着画像を形成する過程で要請される各種モードの変更、特に通紙サイズの変更時でも常に良好な定着画像が得られ、かつ不用の電力を浪費せず省電力が達成される定着装置の提供。 - 特許庁
To stabilize a temperature on a substrate surface in response to even a difference in heat generation amount at each substrate in an electron source manufacturing process, improve an electron emission property and performance such as a service life of an electron source and also reduce variations in performance of each substrate.例文帳に追加
電子源製造プロセス中の基板毎の発熱量の違いにも対応して基板表面の温度を一定に制御し、電子源の電子放出特性や寿命等の性能を向上させ、且つ、基板毎の性能ばらつきを小さくする。 - 特許庁
A plurality of capacitance libraries are prepared according to variations, for instance, wiring width, wiring film thickness, interlayer film thickness, in the manufacturing process for the semiconductor integrated circuit, and one among these capacitance libraries is appropriately selected according to object layout.例文帳に追加
例えば配線幅、配線膜厚や層間膜厚などの半導体集積回路の製造プロセスばらつきに応じて複数の容量ライブラリを準備し、これらの容量ライブラリの中から1つを対象レイアウトに応じて適切に選択する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a semiconductor device capable of suppressing variations in film thickness and the amount of impurities between semiconductor wafers and between lots for obtaining stable element characteristics in plasma surface reforming and an impurity introduction process.例文帳に追加
プラズマ表面改質や不純物導入工程において、半導体ウェーハ間やロット間で膜厚や不純物量のばらつきが抑制され、安定した素子特性が得られる半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a broadband balanced lamination strip line filter capable of reducing variations in an attenuation pole in a filter characteristic due to deviation in the lamination caused in a process of laminating a plurality of dielectric layers.例文帳に追加
平衡型積層ストリップラインフィルタにおいて、複数の誘電体層を積層する工程において発生する積層ずれによるフィルタ特性の減衰極の変動を低減することができる広帯域な平衡型積層ストリップラインフィルタを提供する。 - 特許庁
In a method for adjusting the integration period, a hybrid tuning circuit consisting of a digital finite state machine and an analog tuning circuit is used to effectively keep the RC product of the continuous time integrator constant for process, temperature, power supply, and sampling rate variations.例文帳に追加
デジタル有限状態機械およびアナログ同調回路で構成されたハイブリッド同調回路を用いて、プロセス、温度、電力供給、およびサンプリング・レートの変化に対して連続時間積分器定数のRC積を効果的に維持する。 - 特許庁
To provide a PLL circuit capable of enhancing a general versatility of voltage-current converter and also enhancing yields with reducing variations of characteristics of voltage-current conversion due to process fluctuations.例文帳に追加
電圧電流変換器の汎用性を高めることができると共に、プロセス変動による電圧電流変換特性のばらつきを低減させることができ歩留まりを向上させることができる電圧制御発振器を備えたPLL回路を得る。 - 特許庁
The above-described steps are repeated regarding the provided designed structure using different values of process variations and positioning deviation errors, decides whether or not the predicted superposed dimensions are improper, and further a report of a measure of improperness is provided as an output.例文帳に追加
異なるプロセス変動値および位置合せずれ誤差値を使用して、提供された設計構成について上述のステップを繰り返し、予測重なり寸法が不良になるかどうか判定し、さらに不良の目安のレポートが出力される。 - 特許庁
The voltage-current conversion circuit suppresses variations in a process by incorporating a variable resistance circuit 4, prevents the influence of the parasitic capacity of the external resistance terminal, and can respond in a high band, without being affected by the influence of a PLL-loop band.例文帳に追加
可変抵抗回路4を内蔵することでプロセスばらつきを制御し、外付抵抗端子の寄生容量の影響を受けずに済み、PLLループ帯域の影響を受けない高帯域で応答可能な電圧電流変換回路が実現できる。 - 特許庁
To provide a rotary head device, and a recording and reproducing device for reducing variations in a mutual inductance of a rotary transformer and also to prevent the complexity of a gap adjusting process and a device structure and the adverse effect such as cost increase caused therewith.例文帳に追加
回転式ヘッド装置及び記録再生装置において、ロータリートランスの相互インダクタンスに係るバラツキを低減するとともに、そのためにギャップ調整工程や装置構成の複雑化、コスト上昇等の弊害を伴わないようにする。 - 特許庁
The defective area detecting/restoring method includes the steps of monitoring gain variations of a variable gain amplifier which amplifies a signal detected from a recording medium, detecting a defective position based on the gain variations of the variable gain amplifier, and determining the detected defective position as a position of a symbol where an error has occurred and executing an error correcting process.例文帳に追加
本発明の欠陥領域の検出/復旧方法は、記録媒体から検出された信号を増幅する可変利得増幅器の利得変動量をモニタリングするステップと、可変利得増幅器の利得変動量に基づいて欠陥位置を検出するステップと、検出された欠陥位置をエラーが発生したと予測されるシンボルの位置として決定してエラー訂正処理を実行するステップと、を含む。 - 特許庁
To carry out a desired circuit connection in a subsequent wiring forming step and enhance a yield of a semiconductor product in such a manner that, even when a finished dimension of a wiring layer or a diffusion layer fluctuates because of exposure variations and etching variations in a production process, a characteristic fluctuation of a transistor because of its fluctuation is corrected or a decrease in an operating allowance of an internal circuit is prevented.例文帳に追加
製造プロセスでの露光ばらつき、エッチングばらつきによって配線層あるいは拡散層の仕上がり寸法が変動した場合でも、その変動によるトランジスタの特性変動を補正する、あるいは内部回路の動作余裕の減少を防止するように、以後の配線形成工程で所望の回路接続を行うことができ、半導体製品の歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁
To provide a digital DLL circuit capable of easily cancelling an external gate delay error even in the presence of power supply voltage, temperature or process variations and eliminating the need for occurrence of remaking an LSI after clarification of the presence of a delay error and addition of another delay adjustment mechanism other than a DLL.例文帳に追加
外部のゲート遅延誤差を電源電圧や温度、プロセス変動があっても容易に打ち消すことができ、遅延誤差判明後のLSI作り直しやDLLとは別の遅延調整機構追加が不要とすることが可能なデジタルDLL回路を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a nitride-based compound semiconductor substrate for eliminating a growth process of a low-temperature protective layer for reducing the manufacturing cost of a GaN-based semiconductor substrate and removing influence due to variations in the quality of the low-temperature protecting layer.例文帳に追加
低温保護層の成長プロセスを省略でき、GaN系半導体基板の製造コストを低減できるとともに、低温保護層の品質のばらつきによる影響を排除できる窒化物系化合物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To efficiently verify, in a short time, that arrangement of semiconductor elements and a surrounding situation thereof are desired ones, with increasing production variations according to minuteness in a design pattern and increase in circuit density in a production process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路の製造工程における設計パターンの微細化や回路の高密度化に伴い製造ばらつきが増加するなかで、半導体素子の配置やその周辺の状況が所望の通りであることを短時間で効率的に検証する。 - 特許庁
To solve the problem that the life becomes short for a chip that is most heavily stressed by the electric field in a nonvolatile memory cell and the memory reliability deteriorates because the electric field stress changes on the capacitor insulation film or the tunneling insulation film due to the variations in the process even if the power source voltage is kept constant.例文帳に追加
不揮発性メモリセルにおける電源電圧が一定であっても、プロセスばらつきのために、容量絶縁膜あるいはトンネル絶縁膜にかかる電界ストレスがばらつき、最大の電界ストレスがかかるチップは寿命が短く、信頼性低下を招く。 - 特許庁
To prevent occurrence of variations of property of a Gate-Overlapped LDD (GOLD) structure caused by generation of asymmetry of left and right LDD regions resulting from overlapping accuracy, in a photoengraving process at the time of gate electrode formation, in the manufacturing method of the GOLD structure for improving reliability.例文帳に追加
信頼性向上のためのGate-Overlapped LDD(GOLD)構造の製造方法において、ゲート電極形成時の写真製版工程で、重ね合わせ精度に起因して左右のLDD領域に非対称性が発生することによって、特性のばらつきが発生することを抑制する。 - 特許庁
In process of high-speed variations, a stop symbol specification command 32 is transmitted to respective display regions 3a1-3c3 in order, the pattern varying at high speed is replaced by the control board for display in accordance with a stop symbol specified by the command 32.例文帳に追加
高速変動の最中に、停止図柄指定コマンド32が各表示領域3a1〜3c3に対して順に送信され、そのコマンド32によって指定される停止図柄に合わせて、表示用制御基板により高速変動中の図柄が差し替えられる。 - 特許庁
A group of change patterns which differ in shape from the reference pattern are generated according to variations of process parameters, the amounts of changes in shape of the group of change patterns are calculated, and the calculated amounts of changes in shape are added to information on the edge points of the reference pattern.例文帳に追加
プロセスパラメータの変動に応じてその形状が基準パターンから変化した変化パターン群を作成し、該変化パターン群における形状の変化量を算出し、算出された形状の変化量を基準パターンのエッジ点の情報に付加する。 - 特許庁
To provide a gain control circuit of an AGC amplifier which does not take a time until an AGC amplifier output converges on an optimum voltage even in the case that a process fluctuation and variations of a temperature and a supply voltage exist at resetting from a standby or at turning on a power supply.例文帳に追加
スタンバイから復帰する際もしくは電源投入時にプロセスバラツキ、温度、電源電圧の変動があった場合でもAGCアンプ出力が最適な電圧に収束するまでに時間が掛らないAGCアンプの利得制御回路を提供する。 - 特許庁
To provide a magnetostrictive torque sensor manufacturing method which reduces variations for every sensor in detection sensitivity characteristics caused by the manufacturing process of a magnetostrictive torque sensor by improving the manufacturing process, eliminates a complete inspection process for sensor-by-sensor torque detection sensitivity, reduces the load of sensor adjustment when installed on a system, and thereby improves the efficiency of installation on an electric power steering system or the like.例文帳に追加
磁歪式トルクセンサの製造プロセスに起因するセンサごとの検出感度特性のバラツキを当該製造プロセスを改善することにより少なくし、各センサごとのトルク検出感度についての全数検査工程を省略でき、装置組付け時のセンサ調整の負担を軽減することができ、もって電動パワーステアリング装置等への組付け作業の効率を高めることができる磁歪式トルクセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus for calibrating gain of an radio frequency receiver (Rx) to provide, among other things, a structure for performing in-situ gain calibration of an RF integrated circuit over long time and/or over wide temperature without removing the RF integrated circuit from its operational configuration, especially when the gain of the RF integrated circuit is susceptible to variations in process, such as inherent with the CMOS process.例文帳に追加
無線周波数受信機(Rx)の利得を校正する装置は、特に、RF集積回路の利得がCMOSプロセスに内在するようなプロセスの変動の影響を受けやすいときに、RF集積回路をその動作コンフィギュレーションから取り除くことなく、長時間及び/又は広い温度に亘ってRF集積回路のイン・シトゥ利得校正を達成する、特に、構造を提供する。 - 特許庁
When disconnection of a clutch is determined by a clutch sensor 50, the process to gradually reduce the amount of injection is stopped, thereby enlarging the practicable area for learning the variations in the injection characteristic of the fuel injection valve 22 making it one of conditions that fuel cut is performed.例文帳に追加
ここにおいて、クラッチセンサ50によってクラッチが断絶されると判断される場合には、噴射量の漸減処理を停止することで、フューエルカット中であることを条件の1つとする燃料噴射弁22の噴射特性のずれ量の学習の実行可能領域の拡大を図る。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a high product yield in which patterning process accuracy variations by a photolithography is reduced in a method of manufacturing a semiconductor device, in which, after HMDS processing is performed in a semiconductor substrate in the middle of manufacturing, a photoresist is formed on the semiconductor substrate and patterning processing is performed.例文帳に追加
製造途中にある半導体基板をHMDS処理した後、半導体基板上にフォトレジストを形成してパターニング加工を施す半導体装置の製造方法であって、フォトリソグラフィによるパターニング加工精度ばらつきを低減した、製品歩留まりの高い製造方法を提供する。 - 特許庁
In a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, a plurality of test element areas are arranged with different pitches near chip areas on a wafer, and in a probe test, they are electrically measured, so that local process variations are monitored.例文帳に追加
本願の一つの発明は、半導体集積回路装置の製造方法において、ウエハ上のチップ領域の近傍に複数のテスト素子領域を異なるピッチで配列し、プローブテストにおいて、それらを電気的に計測することにより、プロセスの局所的ばらつきをモニタするものである。 - 特許庁
To provide a game machine which is able to get for certain an automatic stay of the specific combinations which triggers to shift a game condition and to give more variations to the process and the result of whether the game condition shifts or not, thereby raising the entertainment quality of a chance game which shifts the game condition.例文帳に追加
遊技状態を移行させる契機となる特定出目を確実に自動停止させることができるとともに、遊技状態が移行するか否かの過程及び結果にバリエーションをもたせ、遊技状態を移行させるチャンス遊技の遊技性を向上させることができる遊技機を提供する。 - 特許庁
The ISSG process has first oxidation treatment to be performed under prescribed pressure at 1% H_2 concentration, and second one to be performed under the same prescribed pressure at 5% H_2 concentration, where the second oxidation treatment is performed for a prescribed time to compensate variations in the film thickness distribution of the first oxidation treatment.例文帳に追加
ISSGプロセスは、1%H_2濃度で所定圧力下で行う第1の酸化処理と、5%H_2濃度で同じ所定圧力下で行われる第2の酸化処理とを有し、第2の酸化処理を所定時間行うことで第1の酸化処理の膜厚分布のばらつきを補償する。 - 特許庁
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