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reference patternsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 344件
At the point in time that all the toner patterns P1 to P10 have been read, the calculation of an amount of color misalignment between a reference color and a non-reference color is started based upon data about each color toner pattern detected.例文帳に追加
そして、全てのトナーパターンP1〜P10を読み終えた時点で、検出された各色のトナーパターンのデータに基づいて、基準色と非基準色との色ずれ量の算出を開始する。 - 特許庁
A first pattern matching angle detecting part 3 compares the binary pattern BI with each of those reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information PA.例文帳に追加
第1のパターンマッチング角度検出部3は2値化パターンBIを複数のリファレンスパターンRAの各々と比較し、一致したリファレンスパターンRAの角度を角度情報PAとして出力する。 - 特許庁
When the matching rate is rejected, the pattern matching hereinbefore is conducted in order with respect to other reference patterns, and a position of the recognition mark is detected based on a collated result with respect to the reference pattern having a prescribed value or more of matching rate.例文帳に追加
マッチング率が不合格ならば順次他のリファレンスパターンとのパターンマッチングを行い、マッチング率が所定値以上のリファレンスパターンとの照合結果に基づいて認識マークの位置を検出する。 - 特許庁
Further, as for patterns in which both X and Y directions can be measured, both directions are set as the attribute of the pattern image of the reference region.例文帳に追加
また、X、Yの両方向の測定が可能なパターンについては、両方向を基準領域のパターン画像の属性として持たせる。 - 特許庁
Among the division cells, those which include coordinates representing patterns characteristics to be tested as a reference point are set as correction application cells.例文帳に追加
前記分割セルのうち、検査対象となる模様の特徴を表す座標を基準点として含むものを補正適用セルとして設定する。 - 特許庁
A correlation evaluation section 7 evaluates, regarding each of a plurality of evaluation patterns, a correlation between processed reference areas selected by the evaluation pattern.例文帳に追加
相関評価部7は、複数の評価パターンのそれぞれに関して、これによって選択された処理済参照領域間の相関を評価する。 - 特許庁
The respective color reference toner patterns are formed side by side linearly in a direction orthogonal to the moving direction of the outer peripheral surface of the sheet carrying rotating body.例文帳に追加
各色基準トナーパターンは、シート搬送回転体外周面移動方向に直交する方向に直線的に並べて形成する。 - 特許庁
The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加
複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁
It is determined whether the display games should be carried out in the normal mode starting from the initial patterns or in the reach for state continuation mode starting from the ready for win patterns depending on whether or not the random number lottery of big wins is performed at a high probability reference and the display games are started from the initial patterns in the normal mode.例文帳に追加
表示遊技を、初期態様から開始する通常モードで行うかリーチ態様から開始するリーチ継続モードで行うかを大当たりの乱数抽選を高確率基準で行うか否かに基づいて決定し、通常モード中は表示遊技を初期態様から開始する。 - 特許庁
The monochromatic L-letter patterns are arranged on one straight line by the printing process coloring materials adjacently in the matrix direction and generated by generating monochromatic L-letter patterns of reference coloring materials and then rotating them about the remaining coloring materials.例文帳に追加
単色L字パターンは、印刷プロセス色材毎、行列方向に隣接させ一直線上に配置し、また、基準となる色材の単色L字パターンを生成後、残りの色材に関し回転操作によって生成する。 - 特許庁
In this two-dimensional information code 5, a plurality of cells are arranged in a matrix state, and data display colors are allocated to a positioning pattern 5a and a four-color reference pattern 5b as specific patterns such that the patterns 5a, 5b include all the data display colors, and are set.例文帳に追加
二次元情報コード5は、マトリクス状に複数のセルを配置し、特定パターンとしての位置決めパターン5a、4色基準パターン5bにデータ表示色を全て含むように割り当てて設定する。 - 特許庁
A plurality of types of semiconductor substrate 1 for forming different products are respectively provided with focus patterns 14f identical in height on scribe lines on the semiconductor substrates 1, and focusing is obtained with reference to these focus patterns.例文帳に追加
異なる製品を形成する複数種の半導体基板1それぞれに対し、半導体基板1上のスクライブライン上に同じ高さのフォーカスパターン14fを設け、このフォーカスパターンを基準としてフォーカスを合わせる。 - 特許庁
The recording medium has a reference data region in which the reference diffraction gratings corresponding to the three-dimensional light interference patterns of the coherent light beam modulated according to the reference data are previously stored, a sector region where the sector data are recorded and a user data region where the user data are recorded.例文帳に追加
ホログラムシステムは、基準データ領域に格納された基準回折格子から再生された基準データと、セクタ領域から再生されたセクタデータと、データ処理部の基準メモリ内に備えた基準データとに応じて、再生データを補正し、所定データに復調する。 - 特許庁
Using brightness of a reference pattern including the object figure in the reference image and, on the other hand, brightness of a shape pattern same as that of the reference pattern in the relative image, correlative parameters are computed and then corresponding patterns are extracted, based on the computed correlative parameters (S17).例文帳に追加
基準画像中の対象物像を含む基準パターンの輝度値と、比較画像中の、基準パターンと同一形状のパターンの輝度値とを用いて、相関性パラメータ値を算出し、算出した相関性パラメータ値に基づいて対応パターンを抽出する(S17)。 - 特許庁
In a control part 19, an instruction of the effect for renewing the reference pattern candidate for an instruction renewal part 15 in response to the processed result of the comparison part 18, and the instructed reference patterns 41, 42,..., 4n are taken out from the reference pattern registration part 14 by the designation candidate taking-out part 17.例文帳に追加
制御部19では、比較部18での処理結果に応じて、指定候補更新部16に対して基準パターンの候補を更新する旨の指令が出され、指定候補取出し部17により、基準パターン登録部14からその指定された基準パターン41,42,…,4nが取り出される。 - 特許庁
A pattern matrix generating method comprises the processes of preparing a reference pattern matrix composed of one type of reference block patterns; preparing a distributed type sequence matrix; and generating a pattern matrix by using the reference pattern matrix and the sequence matrix.例文帳に追加
パターンマトリクス生成方法は、1種類の基準ブロックパターンで構成される基準パターンマトリクスを準備する工程と、分散型の順序マトリクスを準備する工程と、基準パターンマトリクスと順序マトリクスとを用いてパターンマトリクスを生成する工程と、を備える。 - 特許庁
The method is at least provided with the first step which extracts patterns of which process likelihood to the fluctuation of an exposure quantity and a focal distance does not reach a prescribed reference value from patterns of mask used in an optical exposure process of a semiconductive device designed according to prescribed design rules, and the second step which corrects the patterns to satisfy the process likelihood with the reference value.例文帳に追加
所定のデザインルールに従って設計された、半導体装置の光露光工程において使用するマスクの設計パターンから、露光量と焦点距離の変動に対するプロセス裕度が所定の基準値に達していないパターンを抽出する第1ステップと、プロセス裕度が基準値を満たすようにパターンを補正する第2ステップとを少なくとも具備する。 - 特許庁
Also, the reference numbers assigned to the selling number of lottery tickets and the identification information of the assigned design patterns are stored so as to be made correspond to each other.例文帳に追加
また発売枚数のそれぞれの宝くじ券に割り振られた整理番号と、前記割り当てられた絵柄パターンの識別情報と、を対応付けて記憶する。 - 特許庁
The value of the parameter showing the smallest error sum is selected in the parameter values with errors satisfying specified conditions in specified reference design patterns.例文帳に追加
次いで、特定の標準設計パターンにおける誤差が特定の条件を満たすパラメータの値のうち、誤差の和が最も小さいパラメータの値を選択する。 - 特許庁
To provide a switch device capable of setting plural rotational movement patterns from a reference position of an operating knob, with a board for the switch commonly used.例文帳に追加
スイッチ用の基板を共通化した上で、操作ノブの基準位置からの回動パターンを複数設定することができるスイッチ装置を提供する。 - 特許庁
A correction pattern selection part 35 selects an optimal correction pattern which minimizes errors from among a plurality of correction patterns with reference to an acquired change pattern P.例文帳に追加
修正パターン選択部35は、取得した変化パターンPを参考に、複数の修正パターンのうち誤差が最小となる最適修正パターンを選択する。 - 特許庁
The conductor patterns 21a and 21b are what functions as reference interconnections, and the conductor pattern 21c is a conductor pattern functioning as a signal interconnection.例文帳に追加
導体パターン21a、21bは、基準配線として機能する導体パターンであり、導体パターン21cは、信号配線として機能する導体パターンである。 - 特許庁
A correlation evaluation section 7 evaluates, regarding each of a plurality of evaluation patterns, the correlation between processed reference areas selected by the relevant evaluation pattern.例文帳に追加
相関評価部7は、複数の評価パターンのそれぞれに関して、これによって選択された処理済参照領域間の相関を評価する。 - 特許庁
An operation panel 21 is operated while an operator observes a monitor screen, and a plurality of reference patterns 41, 42,..., 4n corresponding to a mark on a cell and TAB are successively instructed.例文帳に追加
オペレータは、モニタ画面を見ながら操作パネル21を操作し、セルおよびTAB上のマークに対応する複数の基準パターン41,42,…,4nを順次教示する。 - 特許庁
The control of various lamps 111 is implemented based on the control signals from the CPU in reference to the patterns and data stored in the lamp control memory 203.例文帳に追加
CPUからの制御信号に基づき、ランプ制御メモリ203に格納した各パターン及びデータを参照しながら各種ランプ111の制御を実行する。 - 特許庁
A plurality of interference patterns are generated from one piece of phase distribution data generated by causing the reference light group and object light interfere with each other.例文帳に追加
参照光群と物体光とを干渉させることによって生成される1つの位相分布データから、複数の干渉パターンを生成する。 - 特許庁
He worked on both earthenware and porcelain such as koshi-yaki (koshi pottery), annan-yaki, and kinrande (ceramics with gold patterns); both his original works and reproductions (copy, haiku (a Japanese poem in seventeen syllables having a 5-7-5 syllabic form and traditionally containing a reference to the seasons) include many grate pieces. 例文帳に追加
交趾焼、安南焼、金襴手など陶器・磁器の双方を手掛けており、オリジナル、写し(コピー、俳句)ともに優品が多い。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Many holograms can be recorded in the same volume by recording different patterns using the reference optical beams of different wavelengths and different angles.例文帳に追加
異なった波長又は異なった角度の参照光ビームを使って異なったパターン記録をすることで同じ体積に多数のホログラムを記録することができる。 - 特許庁
A dot pattern of 1 bit/dot print data is compared with a plurality of reference dot patterns for each m×n dot matrix in order to detect a dot to be interpolated.例文帳に追加
1ドットあたり1ビットの印刷データによるドットパターンをm×nドットマトリックス毎に複数の参照ドットパターンと比較して補間対象ドットを検出する。 - 特許庁
Consequently, a user can be released from the troubles of carrying, separately from a digital camera 10, recording paper or the like in which the reference patterns are recorded.例文帳に追加
これにより、ユーザーは、デジタルカメラ10とは別に基準パターンが記録された記録紙等を持参するといった煩わしさを解消することができる。 - 特許庁
The plane shape of a pair of footprint patterns 20, 30, where electrodes 5A, 5B of chip parts 5 are soldered, is nearly symmetrical to a reference line BL.例文帳に追加
チップ部品5の電極部5A,5Bがはんだ付けされる一対のフットプリントパターン20,30の平面形状は基準線BLに対してほぼ対称である。 - 特許庁
This method is to measure the relative position of the patterns produced on the substrate by a step mode, using a reference mark overlaid on the device pattern.例文帳に追加
デバイス・パターン上に重畳している基準マークを使用して、基板上にステップ・モードにより現像したパターンの相対的位置を測定するための方法。 - 特許庁
The game machine uses a reel tape 106 obtained by forming a reference mark 107 showing a reference position for winding on the reels 101a, b and c with patterns by a pattern forming means being a screen printer not shown in the figure.例文帳に追加
回胴101a、b、cに対する巻き付け用の基準位置を示す基準マーク107を、図柄形成手段たる図示しないスクリーン印刷装置によって図柄とともに形成したリールテープ106を用いた。 - 特許庁
Timing P2, P3,... for starting the detecting subsequent sets of image misregistration correcting patterns 22-2, 22-3,... and so on is determined, based on the positional information of the reference pattern 22-1Y in the first set of image misregistration correcting patterns 22-1.例文帳に追加
第1セットの位置ずれ補正用パターン22−1の基準作像色パターン22−1Yの位置情報に基づいて、第2セット以降の位置ずれ補正用パターン22−2,22−3,・・・の検出開始タイミングP2,P3,・・・を決定する。 - 特許庁
The test patterns are read, detection rates and average concentration of embedded additional information in relation to the respective large dot patterns are obtained, and a large dot pattern wherein the values thereof are set in reference ranges and closest to ideal values is determined (S107).例文帳に追加
それらのテストパターンを読み、それぞれの大ドットパターンに関して埋め込まれた付加情報の検出率と平均濃度を求め、それらの値が基準範囲にありかつ理想値に最も近い大ドットパターンを決定する(S107)。 - 特許庁
The user observes the sample print 21, selects a part approximate to a printing density of each of the calibration patterns 18-20 among each of the reference patterns 13-15, and specifies a density number printed below the selected part.例文帳に追加
ユーザーは、サンプルプリント21を観察して、各参照パターン13〜15の中から各キャリブレーションパターン18〜20の印画濃度に近似した部分を選択し、その選択部分の下方に印字されている濃度番号を特定する。 - 特許庁
In this semiconductor device, portions of each layer to be originally nondense are provided with dummy patterns 4c, 4d, 14c, 14d, 24, and these dummy patterns are electrically connected to the reference wiring that is either of a power supply wiring 25 and a ground wiring 26.例文帳に追加
半導体装置は、各層の本来疎になる部分にはダミーパターン4c,4d,14c,14d,24を備えており、これらのダミーパターンは、電源配線25およびグランド配線26のいずれか一方である基準配線と電気的に接続されている。 - 特許庁
Relating to a device recording and reproducing a disk on whose data area reference patterns which are of regular and which have a fixed magnitude are recorded, the servo error of the disk recording and reproducing device is detected based on the ratio of magnitudes of reproduced signals corresponding to the reference patterns recorded at least at two positions where are separated with each other.例文帳に追加
データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁
Reference patterns at a plurality of levels are formed on an image carrier, basic image forming conditions to be applied to attain levels of density of output images at all points on a gradation curve are corrected on the basis of detected density of the reference patterns formed by the image forming conditions at the plurality of levels.例文帳に追加
像担持体上に複数水準の基準パターンを形成し、階調曲線上の全ての点における出力画像の濃度の水準を実現するのに適用される基礎作像条件を複数水準の作像条件により形成された基準パターンの検知濃度に基づいて補正する。 - 特許庁
These three patterns are composed of one reference pattern (a pattern by contact areas 13b to 17b), and, with this being a reference (axis of symmetry), pattern pairs having a mutually symmetrical (line symmetry) relation, that is, patterns by contact areas 13a to 17a and 13c to 17c.例文帳に追加
これら3つの同一パターンは、1つの基準パターン(コンタクト領域13b〜17bによるパターン)と、これを基準(対称軸)にして互いに対称(線対称)な関係をもつパターン対、すなわちコンタクト領域13a〜17aによるパターンとコンタクト領域13c〜17cによるパターンとによって構成されている。 - 特許庁
The display purpose light source of the display device 12 is blinked according to a blink pattern corresponding to the selected device or blinked according to the blink pattern corresponding to the operation in the case of accepting the prescribed operation on the basis of the cross-reference between the devices and the blink patterns or on the basis of the cross-reference between the prescribed operations and the blink patterns.例文帳に追加
また、機器と点滅パターンとの対応、又は、所定の操作と点滅パターンとの対応に基づいて、表示器12の表示用光源を、選択された機器に対応する点滅パターンで点滅、又は、所定の操作を受付けた場合は前記操作に対応する点滅パターンで点滅させる。 - 特許庁
The reference image generation part 3 calculates gradation values of respective pixels according to the number of subpixels belonging to patterns expanded in the respective pixels and regards the frequency values, obtained by dividing the gradation values by the number of gradation steps, as the width of the patterns expanded in the pixels to calculate the pattern width of the measured pattern and reference data.例文帳に追加
参照画像生成部3は、各画素内に展開されたパターンに属するサブ画素数に基づいて各画素の階調値を算出し、階調値を階調ステップ数で割った回数値をその画素内に展開されたパターンの幅として、被測定パターンと参照データのパターン幅を算出する。 - 特許庁
Reference data is collated with inputted data, bit position information from a reference data generating part is fetched by every detection of the error bit every time, when an error bit is detected, the bit patterns of the reference data are displayed continuously on a pattern display part 33, bits with errors are marked and displayed by attaching diagonal lines in a figure.例文帳に追加
基準データと入力データとを照合し、誤りビットが検出されるごとに、その時の基準データ発生部からのビット位置情報を取込み、パターン表示部33に基準データのビットパターンを連続的に表示し、その誤りのあったビットには、印し、図は斜線を付けて表示する。 - 特許庁
This confidential information card includes: a plurality of watermark patterns obtained by printing a watermark pattern that is a reference generated by a binarized pattern generation means and one or more other watermark patterns on a base material by infrared absorption ink; and a pattern layer formed on the plurality of watermark patterns by infrared transmissive ink.例文帳に追加
秘匿情報カードは、二値化パターン生成手段により生成した基準となる透かしパターンと少なくとも1以上の他の透かしパターンとを赤外線吸収インキにて基材上に複数印刷した透かしパターンと、複数の透かしパターン上に赤外線透過インキによって形成された図柄層と、を有する。 - 特許庁
An operation amount decision part 120 selects sensitivity characteristic patterns matching the ranges of such rotation values from among a plurality of sensitivity characteristic patterns different in the reaction sensitivity of operation amounts to rotation values, and decides operation amounts corresponding to the acquired rotation values by reference to the selected sensitivity characteristic patterns.例文帳に追加
操作量決定部120は、回転値に対する操作量の反応感度が異なる複数種類の感度特性パターンの中から、回転値の範囲の広狭に応じて感度特性パターンを選択し、選択された感度特性パターンを参照して、取得された回転値に対応する操作量を決定する。 - 特許庁
The shape evaluation method of circuit patterns of electronic devices includes: a means for generating contour distribution data of the circuit patterns from contour data of at least two circuit patterns; a means for generating a reference pattern used for pattern shape evaluation, from the contour distribution data; and a means for evaluating the pattern shape by comparing an evaluation target pattern with the reference pattern.例文帳に追加
電子デバイスの回路パターンの形状を評価する方法であって、少なくとも2つ以上の回路パターンの輪郭データから回路パターンの輪郭分布データを生成する手段と、前記輪郭分布データから、パターンの形状評価に用いる参照パターンを生成する手段と、前記参照パターンと評価対象パターンの比較によってパターンの形状を評価する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁
A shift selectivity of the first complex reference beam is larger than that of the second complex reference beam so that the second interference pattern is used as a servo pattern to sequentially determine where the first interference patterns have been stored.例文帳に追加
第1複素参照光の移動選択度が第2複素参照参照光の移動選択度より大きいので、第2干渉縞をサーボパターンとして用いて、第1干渉縞が格納されている位置を順次決定する。 - 特許庁
A conversion table 106a in which header data patterns are made to correspond to reference codes is prepared, an MPEG data format of an MPEG signal is analyzed, a GOP header is extracted, and the GOP header is converted into pattern data of a reference code.例文帳に追加
ヘッダデータのパターンと参照コードとを対応付けした変換表106aを用意し、MPEG信号のMPEGデータフォーマットを解析して、GOPヘッダを抽出し、GOPヘッダを参照コードのパターンデータへ変換する。 - 特許庁
This drawing aparatus 10 is provided with: an optical unit 12 which can draw circuit patterns and reference marks on the front surface and the back surface of a substrate S; and CCD cameras 20, 22 for measuring the relative positions of the reference marks P1, P2.例文帳に追加
描画装置10は、基板Sの表面および裏面に回路パターンおよび基準マークを描画可能な光学ユニット12と、基準マークP1、P2の相対位置を測定するためのCCDカメラ20、22とを備える。 - 特許庁
For example, two layout patterns are prepared for every one layout type, and one layout pattern is selected from the two layout patterns in accordance with which of portrait-oriented and landscape-oriented the image data is on the basis of an up-down direction at the observation time as a reference.例文帳に追加
例えば、1つのレイアウトタイプごとに2通りのレイアウトパターンを用意し、画像データが観測時上下方向を基準にして縦長/横長のいずれであるかに応じて、前記2通りのレイアウトパターンの中から1つのレイアウトパターンを選択する。 - 特許庁
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