「reference patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The apparatus stores a reference pattern and a measured pattern, determines the amount of ink to be applied based on the patterns, and performs a recording.例文帳に追加

基準パターンと測定パターンとを記録し、そのパターンを読み取ってインク塗布量を決めて記録を行う。 - 特許庁

A predetermined number of reference toner patterns are formed in an area of the surface of a transfer belt, where a printed image is not formed.例文帳に追加

転写ベルト上の印刷画像が形成されない領域に所定数の基準トナーパターンを形成する。 - 特許庁

A claim in English is divided, while defining a transitional phrase as a reference and by collating patterns, and the claim in English is shaped.例文帳に追加

英文クレームを移行句を基準に分割し、パターン照合することで英文クレームの整形を行う。 - 特許庁

After each position of the reference patterns 3a, 3b, 3c is reconfirmed, the process region 4 is repeatedly irradiated with a beam.例文帳に追加

参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃの各位置を再確認した後、加工領域４にビームを繰り返し照射する。 - 特許庁

In that case, the irregularity patterns 8g of the reference pixels are, for example, rotated and moved and the configuration is differentiated.例文帳に追加

その際、基準となる画素の凹凸パターン８ｇを例えば、回転移動させてその形態を相違させる。 - 特許庁

A stamper has three-dimensional patterns in a dummy region, and the three-dimensional patterns have a repeatable run out of 1 nm or less between the fifteenth order and 40th order, when the rotational frequency is the first order is set as the reference.例文帳に追加

ダミー領域の凹凸パターンは、そのリピータブルランアウトが回転周波数を基準の１次とした場合に１５次から４０次の間で１ｎｍ以下であるスタンパ。 - 特許庁

When the position of the process region 4 is to be corrected by using the reference patterns 3a, 3b, 3c, the position correction of the process region 4 from a displaced reference pattern 3a' is stopped, and the position of the process region 4 is corrected from the rest of reference patterns 3b, 3c.例文帳に追加

各参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃを用いて加工領域４の位置補正を行う際、位置ズレを起こした参照パターン３ａ’から加工領域４に対する位置補正を中止して、残りの参照パターン３ｂ，３ｃから加工領域４に対する位置補正を行う。 - 特許庁

The part 14 obtains the categories of the reference patterns, fetches the reference pattern of each category from the candidate recognition dictionary 12h of the present stage h and selects a prescribed number of patterns being close to the recognition object pattern.例文帳に追加

候補絞込部１４は、与えられた各参照パターンのカテゴリを求め、それら各カテゴリの参照パターンを現段階ｈの候補認識辞書１２ｈから取り出し、認識対象パターンに近いものを所定数選択する。 - 特許庁

Both the end sections of the footprint patterns 20, 30 orthogonally cross the reference line BL and are symmetrical with respect to a center line CL for dividing the pair of footprint patterns 20, 30 into two portions, and are bent closer to the reference line BL.例文帳に追加

フットプリントパターン２０，３０のの両端部は基準線ＢＬと直交するとともに一対のフットプリントパターン２０，３０を２分割する中心線ＣＬに対して対称であり、基準線ＢＬに近付くように曲がっている。 - 特許庁

After the positions of the reference patterns 3a, 3b, 3c are recorded, a process region 4 including the defect is determined and the extent of the process region 4 and a reference point 5 are recorded.例文帳に追加

参照パターン３ａ，３ｂ，３ｃの位置を記録した後、欠陥を含む加工領域４を設定し、加工領域４範囲及び基準点５を記録する。 - 特許庁

The reference signal patterns stored in the reference signal pattern memory 18 are stored by actually traveling a vehicle one time, and may be used in a second traveling or subsequent.例文帳に追加

尚、参照信号パターンメモリ１８に記憶する参照信号パターンは、車両を実際に１度走行させることにより記憶させ、２度目以降の走行時に使用してもよい。 - 特許庁

An angle detection section 3 compares the binarization pattern BI with each of the plurality of reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information S1.例文帳に追加

角度検出部３は２値化パターンＢＩを複数のリファレンスパターンＲＡの各々と比較し、一致したリファレンスパターンＲＡの角度を角度情報Ｓ１として出力する。 - 特許庁

The pattern selection section 22 selects a reference pattern close to the coding object pattern among reference patterns belonging to the same category to which the coding object pattern is classified.例文帳に追加

パタン選択部２２は、符号化対象パタンが分類されたカテゴリと同一のカテゴリに属する参照パタンの中から、符号化対象パタンに近似する参照パタンを選択する。 - 特許庁

The candidate recognition dictionary 12h is provided with Nh pieces of reference patterns in accordance with each narrowing stage h for every category.例文帳に追加

候補認識辞書１２ｈは、各カテゴリ毎に当該絞込段階ｈに応じたＮ_ｈ個の参照パターンを持つ。 - 特許庁

A bit pattern which matches with a reference bit pattern is found from the converted bit patterns, and its bit pattern index is identified.例文帳に追加

この変換されたビット・パターンから基準ビット・パターンと一致するものを見つけ、そのビット・パターン・インデックスを識別する。 - 特許庁

A derivation part 234 derives all code patterns adopted for the reference marker set by the setup part 232.例文帳に追加

導出部２３４は、設定部２３２により設定された基準マーカーで採用する全ての符号パターンを導出する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board, a through hole is formed in a core board and inner-layer conductor patterns are formed on the core board by using the through hole as a positional reference.例文帳に追加

コア基板に貫通穴を形成し、貫通穴を位置基準として内層の導体パターンを形成する。 - 特許庁

Each conductor layer is provided with reference patterns 66, 68, 70, 72 and 74 becoming the criterion when the capacitance is calculated.例文帳に追加

各導体層には、静電容量を計算するときの基準となる基準パターン６６，６８，７０，７２，７４を設ける。 - 特許庁

A plurality of patterns different in area density are drawn by changing a proximity effect correction coefficient for every reference emission amount of a charged particle beam, and dimensions of the patterns after the drawing are measured.例文帳に追加

面積密度の異なる複数のパターンを荷電粒子ビームの基準照射量毎に近接効果補正係数を変えて描画し、描画後のパターンの寸法を測定する。 - 特許庁

In the reference markers 30, square-shaped dummy patterns are formed in the proximity of the matching patterns 36 in each of four regions partitioned by the straight lines 38 and 40.例文帳に追加

また、基点標識３０は、直線３８、４０によって区画された４つの領域のそれぞれに、合わせパターン３６に近接して正方形状のダミーパターンが設けられている。 - 特許庁

To extract and provide appropriate data by reference not only to medication patterns at initial measures in first medical examination but also to information on medication patterns in measures carried out in the follow-up examination.例文帳に追加

初診時の初期処置時の投薬パターンだけでなく、再診時に行われる処置の投薬パターンの情報をも参照したうえで、適切なデータを抽出して提供すること。 - 特許庁

A density measuring pattern 31 comprises three patterns wherein reference patterns composed of solid images in respective colors are arranged in central, left-offset and right-offset positions of thermal recording paper.例文帳に追加

濃度測定パターン３１は、各色のベタ画像からなる基準パターンを、感熱記録紙の中央位置、左オフセット位置及び右オフセット位置に配置した３パターンから構成される。 - 特許庁

Reference patterns P1-P3 are formed on an intermediate transfer belt while being deviated from side to side just for predetermined width to each other in a main scan direction (S1), and densities of portions (patches) corresponding to gradation values of the reference patterns P1-P3 are detected and sampled (S2).例文帳に追加

中間転写ベルト上に主走査方向に左右相互に所定の幅だけずらして基準パターンＰ１〜Ｐ３を形成し（Ｓ１）、各基準パターンＰ１〜Ｐ３の各階調値に対応する部分（パッチ）の濃度を検出してサンプリングする（Ｓ２）。 - 特許庁

Since at least the two concentric patterns in the holographic digital data are deformed into at least two elliptic patterns in a diffracted beam caused by irradiation of a reference beam, at least the two elliptic patterns are extracted from the diffracted beam and then at least the two elliptic patterns are estimated to generate at least two estimated concentric patterns.例文帳に追加

ホログラフィーページデータの少なくとも２つの同心円パターンは、参照波の照射によって生成された回折波の少なくとも２つの楕円パターンに変形されるので、少なくとも２つの楕円パターンが回折波から抽出され、少なくとも２つの楕円パターンを推定して少なくとも２つの推定同心円パターンを生成する。 - 特許庁

Recording and reproducing on a hologram page is performed by using reference light of light intensity modulation patterns having no correlation with one another.例文帳に追加

相互に相関がないとされる複数の光強度変調パターンによる参照光を利用してホログラムページを記録再生する。 - 特許庁

A reference value storage means 204 previously stores a reference average time being the reference value of an average rendition time which is obtained by adding the products of the appearing rates by rendition pattern with the rendition times, with respect to the whole rendition patterns.例文帳に追加

基準値記憶手段２０４は、演出パターン毎の出現率と演出時間との積をすべての演出パターンについて加算して得られる平均演出時間の基準値である基準平均時間を予め記憶している。 - 特許庁

When SFN transmission for data occurs, a location in time of a sub-frame is determined and a first transmission pattern and a second transmission pattern for the reference signals are determined, wherein the transmission patterns indicate the symbols and tones of the sub-frame used for the reference signals.例文帳に追加

データのＳＦＮ送信が生じる場合に、サブ・フレームの時間における場所を判定し、基準信号のための第１の送信パターンおよび第２の送信パターンを決定する。 - 特許庁

As for patterns in which only one of X and Y can be measured in a reference image, its direction is set as an attribute of a pattern image of the reference region.例文帳に追加

基準画像に関して、ＸもしくはＹの内一方の測定のみが可能なパターンについては、その方向を基準領域のパターン画像の属性として持たせるようにしている。 - 特許庁

In a device 1 for detecting the defect, a reference image showing a pattern of a die as a reference on the substrate 9 in a reference image inspection circuit 42 is compared with a plurality of selected images showing the patterns of selected dies, and a defect included in the reference image is detected.例文帳に追加

欠陥検出装置１では、基準画像検査回路４２において基板９上の基準とされるダイのパターンを示す基準画像と、それぞれが選択されたダイのパターンを示す複数の選択画像とが比較され、基準画像が有する欠陥が検出される。 - 特許庁

The reference marks 11 to 14 are made visible by forming the transparent patterns constituting the reference marks 11 to 14 and subjecting these patterns to a partial plating treatment in a deposition stage for ITO electrode films of a glass plate 15 constituting the liquid crystal display cell 10.例文帳に追加

基準マーク１１〜１４は、液晶表示セル１０を構成するガラス板１５のＩＴＯ電極膜の成膜工程で、基準マーク１１〜１４を構成する透明のパターンを形成し、このパターンに部分的なメッキ処理を施すことで、視認可能としたものである。 - 特許庁

A group of change patterns which differ in shape from the reference pattern are generated according to variations of process parameters, the amounts of changes in shape of the group of change patterns are calculated, and the calculated amounts of changes in shape are added to information on the edge points of the reference pattern.例文帳に追加

プロセスパラメータの変動に応じてその形状が基準パターンから変化した変化パターン群を作成し、該変化パターン群における形状の変化量を算出し、算出された形状の変化量を基準パターンのエッジ点の情報に付加する。 - 特許庁

On the basis of the characteristic point of an arrow pattern included in the object frame and the characteristic points of arrow patterns included in the reference frames, a displacement vector when the arrow patterns are displaced are obtained (S3 and S5).例文帳に追加

対象フレームに含まれる矢印図柄の特徴点と、参照フレームに含まれる矢印図柄の特徴点とに基づいて、矢印図柄を変位させたときの変位ベクトルが取得される（Ｓ３、Ｓ５）。 - 特許庁

A plurality of template patterns are created from the reference image by a template pattern creating unit 400, matching of the processing image and the respective patterns is performed in a camera shake calculating unit 600, and a moving vector is calculated for each pattern.例文帳に追加

テンプレートパターン作成部400で、基準画像から複数のテンプレートパターンを作成し、カメラ揺れ算出部600で処理画像と各パターンのマッチングを行ない、パターン毎に移動ベクトルを算出する。 - 特許庁

Or (111) face detecting patterns are provided at least at two parts on the semiconductor substrate wafer, and after detecting the (111) faces, the (111) face detecting patterns coinciding with the (111) faces are set as an alignment reference.例文帳に追加

あるいは、半導体基板ウエハ上の少なくとも２カ所に（１１１）面検出用パターンを設け、（１１１）面検出後、（１１１）面に一致する（１１１）面検出パターンを位置合わせ基準とする。 - 特許庁

With the focus patterns 14f on a plurality of types of semiconductor substrate 1 identical in height as mentioned above, the focusing height can be made uniform by obtaining focusing with reference to the focus patterns 14f.例文帳に追加

このように、複数種の半導体基板１におけるフォーカスパターン１４ｆを同じ高さとすれば、そのフォーカスパターン１４ｆを基準としてフォーカス合わせをすることで、フォーカス高さを合わせることができる。 - 特許庁

To obtain an excellent composite pattern by forming a plurality of patterns which are in the same shape and different in pattern constitution color from one plate and transferring the plurality of patterns composed of the plate for each of the pattern constitution colors to a substrate so that the patterns are easily aligned to the reference of the substrate.例文帳に追加

パターン形状が同一でかつパターン構成色が異なる複数のパターンを一つの版から形成し、その版からなるパターン構成色ごとの複数のパターンを基板での基準に対する位置合わせ容易に転写して、良好な複合パターンを得る。 - 特許庁

Each of the PN code generating circuits 2a-2n outputs a reference PN code that is a parallel code in addition to the output patterns.例文帳に追加

各ＰＮ符号発生回路２ａ〜２ｎ毎に、出力パターンとは別に、並列符号である基準ＰＮ符号が出力されている。 - 特許庁

Reference patterns close to a recognition object pattern are detected by a candidate detecting part 13 and repeatedly narrowed down by a candidate narrowing part 14.例文帳に追加

認識対象パターンに近い参照パターンを候補検出部１３で検出し、これらを候補絞込部１４で繰り返し絞り込む。 - 特許庁

To satisfactorily achieve the correcting of the phase of a reproducing clock even when a dropout is generated in reference patterns for correcting the phase of the reproducing clock.例文帳に追加

再生クロックの位相補正用の参照パターンにドロップアウトが発生しても再生クロックの位相補正を良好に達成すること。 - 特許庁

Senmen Koshakyo (ancient sutra manuscripts on a fan) can be regarded as a unique handwriting reference, and a few handwritings of craftsman using Japanese patterns have been confirmed. 例文帳に追加

なお、扇面古写経もまた異色の書跡資料といえるが、そこでは和様の使い手数名の筆跡が確認されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In a pattern matching process 106, on a per layout pattern group basis, each of the layout patterns in the layout pattern group is compared with the reference pattern.例文帳に追加

パターンマッチング工程１０６では、各レイアウトパターン群別に、そのレイアウトパターン群内の各レイアウトパターンと前記基準パターンとを比較する。 - 特許庁

The vehicular lamp includes a hologram element wherein calculated hologram patterns are recorded so as to make diffraction light regenerated by irradiating reference light form light-distribution patterns used for vehicular lamp having a designated luminosity distribution, and a light source for irradiating the reference light to the hologram element.例文帳に追加

参照光が照射されることで再生される回折光が所定光度分布の車両用灯具用配光パターンを形成するように計算されたホログラムパターンが記録されたホログラム素子と、前記ホログラム素子に前記参照光を照射する光源と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

After fetching of the images of all inspecting regions, an image processor 45 compares the inspecting images with separately prepared reference images to extract corresponding patterns at the inspecting regions to the reference images, thereby detecting the deviation of field connections, etc., from relative positions of these patterns.例文帳に追加

すべての検査箇所の画像の取り込みが終了した後、別途用意した基準画像と検査画像とが、画像処理ユニット４５で画像比較され、検査領域における基準画像に対応したパターンが抽出され、これらパターンの相対位置からフィールド接続部等のずれが検出される。 - 特許庁

In the device for recording/reproducing to/from a disk in which regular reference patterns having fixed sizes are recorded in a data area, the servo error of a recording/reproducing device is detected at least by the ratio of the size of reproducing signals corresponding to reference patterns recorded in two separated positions.例文帳に追加

データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁

Reference patterns (B) and (C), which are not elliptical (A) but are obtained by reducing intensity in the vicinity of a contact point where an edge image makes contact with a tangental line perpendicular to an edge direction, are generated as a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンとして、単なる楕円（Ａ）ではなく、エッジ画像のエッジ方向に垂直となる接線との接点付近の強度を小さく設定して得られた参照パターン（Ｂ）（Ｃ）を作成する。 - 特許庁