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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > reference patternsに関連した英語例文

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reference patternsの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 344



例文

A reference pattern generation section 6 generates a plurality of reference patterns RA.例文帳に追加

リファレンスパターン発生部6は複数のリファレンスパターンRAを発生する。 - 特許庁

A reference pattern generating part 6a generates a plurality of reference patterns RA.例文帳に追加

リファレンスパターン発生部6aは複数のリファレンスパターンRAを発生する。 - 特許庁

The reference patterns 41, 42,..., 4n are registered on a reference pattern registration part 14 in regular order.例文帳に追加

基準パターン41,42,…,4nは基準パターン登録部14に順番に登録される。 - 特許庁

The light modulator 130 can superpose the reference beam according to reference beam patterns.例文帳に追加

光変調器130は参照光パターンに応じた参照光を載せることができる。 - 特許庁

例文

The relative positional relation between the reference patterns 3a, 3b, 3c and the reference point 5 is recorded.例文帳に追加

参照パターン3a,3b,3cと基準点5との相対的位置関係を記録する。 - 特許庁


例文

Dummy patterns (patterns which are not used for measurement) 3 and 4 are formed inside and outside the reference pattern 11 as the reference mark 10.例文帳に追加

基準マーク10として、基準パターン11の内側と外側にダミーパターン(測定に使用しないパターン)3,4を形成する。 - 特許庁

The plate patterns 24 and the reference data patterns 26 are compared in the subsequent pattern inspection step S28 and the dissidence of both patterns is defected as the defect patterns.例文帳に追加

その後のパターン検査工程S28にて、プレートパターン24と基準データパターン26とを比較して、両パターンの不一致を欠陥パターンとして検出する。 - 特許庁

The plurality of reference patterns 12 has the same shape, and the specific pattern 13 is formed in a different shape from the reference patterns 12 or the layout relationship of the specific pattern 13 to the reference patterns 12 is different from the array of the reference patterns 12.例文帳に追加

複数の基準パターン12が同一形状で形成され、特異パターン13が基準パターン12と異なる形状で形成されているか、又は、特異パターン13の基準パターン12に対する配置関係が基準パターン12間の配列と異なっているものである。 - 特許庁

A recognition dictionary 106 comprises a set of m-dimensional reference patterns.例文帳に追加

認識辞書106はm次元参照パターンの集合からなる。 - 特許庁

例文

When the critical dimensions are a second reference value smaller than the first reference value or below the value, auxiliary patterns 302 are added to the main patterns 300.例文帳に追加

臨界寸法が第1基準値より小さい第2基準値あるいはそれ以下である時、補助パターンをメインパターン上に付加する。 - 特許庁

例文

The arranging intervals of the patterns 21 of the reference mark 20 are made shorter than those of the patterns 11 of the alignment mark 10.例文帳に追加

基準マーク20のパターン21の配置間隔をアライメントマーク10のパターン11よりも小さくした。 - 特許庁

When the critical dimensions are a first reference value or below the value, serifs 304 (projecting patterns for correction)/hammer heads (hammer-like patterns for correction) are added to the main patterns 300.例文帳に追加

臨界寸法が第1基準値あるいはそれ以下である時、セリフ(修正用凸状パターン)/ハンマーヘッド(修正用槌状パターン)をメインパターン上に付加する。 - 特許庁

Reference patterns P1-P3 having different dot patterns are formed on an intermediate transfer belt (S1), and the density of a portion (patch) corresponding to each gradation value of respective reference patterns P1-P3 is detected for sampling (S2).例文帳に追加

中間転写ベルト上に、ドットパターンの異なる基準パターンP1〜P3を形成し(S1)、各基準パターンP1〜P3の各階調値に対応する部分(パッチ)の濃度を検出してサンプリングする(S2)。 - 特許庁

A plurality of the patterns are formed on a working roller and the reference origin of the patterns is provided on the working roller.例文帳に追加

加工ローラには複数の模様が形成されており、その模様の基準となる原点が加工ローラには設けられている。 - 特許庁

Toner images of reference patterns having different resolutions are formed on an image carrier, and image densities of the toner images of reference patterns are detected by the density sensor, and an output of the density sensor, when the detected densities equate among the reference patterns having the different resolutions formed with the same exposure, is memorized as a reference value.例文帳に追加

異なる解像度の基準パターンのトナー像を像担持体上に形成し、基準パターンのトナー像の画像濃度を濃度センサで検知し、同一露光量で、且つ、異なる解像度の基準パターン間で、検知濃度が一致した時の濃度センサの出力を基準値記憶する。 - 特許庁

For comparing patterns, a reference pattern corresponding to the selected angle range is used.例文帳に追加

パターン比較のために、選ばれた角度範囲に対応する基準パターンを利用する。 - 特許庁

Reference infrared absorption spectrum patterns are prepared in advance as a data base.例文帳に追加

予め、データベースとして参照用赤外線吸収スペクトルパターンを作成しておく。 - 特許庁

Further, a storage section 64 stores a plurality of spectral patterns of motor sound picked up in advance through a reference input section 61 (reference microphone) as second noise spectral patterns.例文帳に追加

また、参照入力部61(参照マイク)を通じて事前に採取したモータ音のスペクトルを第2の雑音スペクトルとして記憶部64に複数パターン記憶しておく。 - 特許庁

The position of the reference patterns 3a, 3b, 3c is confirmed while the region is being irradiated with the beam.例文帳に追加

ビーム照射の間に、各参照パターン3a,3b,3c間の位置の確認を行う。 - 特許庁

To improve the precision of the alignment of even patterns having large differences in shapes with respect to reference data.例文帳に追加

基準データに対する形状の差異が大きいパターンでも位置合せの精度を高める。 - 特許庁

Then, the edge image extracted from the object image is scanned by using the reference patterns.例文帳に追加

そして、この参照パターンを用いて、対象画像から抽出したエッジ画像を走査する。 - 特許庁

The light modulator 130 includes various reference patterns which are not correlated with each other.例文帳に追加

光変調器130には互いに相関性のない多様な参照光パターンを有する。 - 特許庁

Three points of reference patterns 3a, 3b, 3c are formed to surround a defect of a pattern 2.例文帳に追加

パターン2の欠陥を囲むように、3点の参照パターン3a,3b,3cを形成する。 - 特許庁

Moreover, voice parameters stored in a voice dictionary are successively applied as patterns for reference and then both patterns collated in this device.例文帳に追加

また、参照用パターンとして音声辞書213(318)に格納された音声パラメータを準じ与え両パターンの照合を行う。 - 特許庁

To provide a display instrument for a vehicle in which the all angle distance of both reference scale patterns is made equal every both reference scale patterns in an arc analog display part of a dial.例文帳に追加

目盛り盤の円弧状アナログ表示部の両基準目盛りパターンごとにおける両基準目盛りパターンの角度間隔を全て均等にするようにした車両用指示計器を提供する。 - 特許庁

Conductive patterns 12 may not be formed previously to sections corresponding to the reference-place marks 17 and 17 by resist patterns when the conductive patterns 12 containing the lands 16 and 16 are formed in the formations of such reference-place marks 17 and 17.例文帳に追加

こうした基準位置マーク17,17の形成は、ランド部16,16を含む導電パターン12の形成時に、レジストパターンでこの基準位置マーク17,17に相当する部分に導電パターン12が形成されないようにしておけばよい。 - 特許庁

An image A of combined patterns formed by overlapping element patterns, and reference images B1, B2 of each element pattern are acquired; matching is executed between the image A and respective reference images B1, B2; and the alignment deviation among respective element patterns in combined patterns is outputted based on the matching result.例文帳に追加

要素パターンを重ね合わせて形成される複合パターンの画像Aと、各要素パターンの基準画像B1,B2とを取得し、画像Aと各基準画像B1,B2との間でマッチングを実行し、このマッチング結果に基づいて複合パターンにおける各要素パターン間の合わせずれを出力する。 - 特許庁

Program patterns are utilized for the generation of a program and these program patterns are prepared in each program language to be used, in each of reference and updating processing patterns and in each of depending and non-depending related sorts.例文帳に追加

プログラムの生成にはプログラムパターンを利用し、使用するプログラム言語毎に、参照・更新という処理パターン別に、依存、非依存という関連の種類別に用意しておく。 - 特許庁

A plurality of reference patterns having different line width from each other are set for the measurement apparatus and the plurality of reference patterns and the actual pattern are checked for matching (ST13) and a reference pattern having a line width corresponding to the actual pattern is selected (ST14).例文帳に追加

互いに異なる線幅を有する複数の基準パターンを測定装置に設定し、複数の基準パターンと実際パターンをマッチングして(ST13)、実際パターンに対応する線幅の基準パターン一つを選択する(ST14)。 - 特許庁

A reference pattern database 15 stores a plurality of reference patterns (for sky, road, other than road, or the like) depending on the background of the image.例文帳に追加

基準パターンデータベース15は、画像の背景ごとに異なる(空用、道路用、道路外用などの)複数の基準パターンを記憶する。 - 特許庁

Thereafter, outer-layer conductor patterns are formed on the core board by using the new through hole 24 as a positional reference.例文帳に追加

その後、新たな貫通穴24を位置基準として外層の導体パターン25を形成する。 - 特許庁

The reference position 24 is shifted, based on a plurality of moving shift patterns of different widths.例文帳に追加

基準位置24のシフトは移動する幅寸法が異なる複数のシフトパターンに基づいて行う。 - 特許庁

When the detected value and the reference value are compared, a comparison output signal responding to the presence of patterns is obtained.例文帳に追加

検出値を基準値と比較するとパターンの有無に応じた比較出力信号が得られる。 - 特許庁

To improve overlapping accuracy of exposure patterns to a reference pattern formed in an object to be exposed.例文帳に追加

被露光体に形成された基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁

The wiring patterns 7a and 7b are connected to a reference potential Vref through a load resistance RL.例文帳に追加

配線パターン7a,7bは負荷抵抗RL を経て基準電位Vref に接続される。 - 特許庁

Haiku includes muki haiku (haiku without seasonal reference) and haiku without any fixed patterns; however, there are arguments against having these included in haiku poetry. 例文帳に追加

無季俳句、自由律俳句も含まれるがそれを俳句と認めない立場も存在する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The visual recognition mode of the respective patterns are gradually changed with a specified pattern as a reference so that the specified pattern is most conspicuous among a plurality of patterns.例文帳に追加

複数の図柄のうち、特定の図柄が最も目立つよう当該特定の図柄を基準にして、各図柄の視認態様を徐変させた。 - 特許庁

When the roughnesses of measurement target patterns are quantified from a contour line of measurement target patterns and reference patterns, the present invention calculates the difference between positional coordinates of a plurality of points located on the contour line of the measurement target patterns and positional coordinates of a plurality of balls located on the contour line of the reference patterns and calculates the roughness values of the measurement target patterns, based on the difference distance calculated.例文帳に追加

計測対象パターンとリファレンスパターンの輪郭線から計測対象パターンのラフネスを定量化する際に、計測対象パターンの輪郭線上に位置する複数点の位置座標とリファレンスパターンの輪郭線上に位置する複数点の位置座標との差分距離を算出し、算出された差分距離に基づいて計測対象パターンのラフネス値を算出する。 - 特許庁

By using a reference pattern surface wherein only one of the reference patterns is a special pattern different from other reference patterns to modulate power of an electron lens L1, the reference pattern surface is positioned so that main beam from the center of the special pattern pass the center of the electron lens L1.例文帳に追加

標準パターンのうち1個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズL1のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズL1の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。 - 特許庁

The CPU 91 allocates the generated additional patterns B to an image forming region of a sheet, and in that case, the CPU 91 randomly moves a reference point P used as a reference of allocation of the additional patterns B on the basis of random numbers to randomize the arrangement of the additional patterns B.例文帳に追加

CPU91は、生成された付加パターンBを用紙の画像形成領域に割りけるが、そのときに、付加パターンBの割り付け基準となる基準点Pを乱数によりランダムに移動させて、付加パターンBの並びをランダムにさせる。 - 特許庁

A table holding means 115 holds a pattern table for specifying a plurality of reference values indicating the corresponding relationship between lottery values for selecting variation patterns and the variation patterns, together with the reference sequence.例文帳に追加

テーブル保持手段115は、変動パターンを選択するための抽選値と変動パターンとの対応関係を示す複数の参照値がその参照順序とともに規定されたパターンテーブルを保持する。 - 特許庁

A table holder 115 holds a pattern table wherein a plurality of reference values showing correspondence of lottery values for selecting variation patterns with the variation patterns are stipulated together with their reference order.例文帳に追加

テーブル保持手段115は、変動パターンを選択するための抽選値と変動パターンとの対応関係を示す複数の参照値がその参照順序とともに規定されたパターンテーブルを保持する。 - 特許庁

A specific reference signal pattern is read from a reference signal pattern memory 18 having a plurality of reference signal patterns stored therein beforehand based on a navigation map information 19 and outputted to a reference signal generating part 12.例文帳に追加

予め複数の参照信号パターンが記憶された参照信号パターンメモリ18から、ナビゲーション地図情報19に基づいて特定の参照信号パターンを読み出して参照信号発生部12に出力する。 - 特許庁

A reference mark 20 on a projection aligner side is constituted by arranging square patterns 21 smaller in size than the patterns 22 at regular intervals in a line.例文帳に追加

投影露光装置側の基準マーク20は、パターン11よりも小さい正方形のパターン21が、同じ行列で等間隔を開けて配置されたものである。 - 特許庁

Then, the new patterns are written in the outer peripheral side while each reference pattern of the inner peripheral side track is read.例文帳に追加

次に、内周側トラックの各基準パターンを読み出しながら、外周側に新しいパターンを書き込む。 - 特許庁

The other crossings generate the self-control patterns in cooperation with the control pattern of the reference crossing (1_1).例文帳に追加

他の交差点は基軸交差点(1_1)の制御パターンに協調しながら自己の制御パターンを作成する。 - 特許庁

The direct table stores patterns and reference information for new and existing connections.例文帳に追加

ダイレクト・テーブルは、新しい接続および既存の接続に関するパターンおよび参照情報を保管する。 - 特許庁

Thus a chip, on which part of the semiconductor device patterns is not exposed, is formed as the reference chip 104.例文帳に追加

それにより、半導体装置パターンの一部が露光されないチップを基準チップ104として形成する。 - 特許庁

The building panels 1 have reference marks 4 having a predetermined positional relations to the uneven patterns 3.例文帳に追加

凹凸パターン3と所定の位置関係を有する基準マーク4を施して建築パネル1を形成する。 - 特許庁

例文

The inspection device 1 specifies a reference region image (a) including the patterns, and extracts similar region images (b) having high correlation to the reference region image (a).例文帳に追加

検査装置1は絵柄を含む基準領域画像aを指定し、基準領域画像aと相関の高い類似領域画像bを抽出する。 - 特許庁




  
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