「repeating structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive photoresist composition contains (A) a specified compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution and (C) a specified solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂 （Ｃ）特定の溶剤 を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for determining a composition of a compound semiconductor layer on a substrate whereby a thin film structure, a wavelength dependence of a permittivity and a composition ratio are accurately and correctly determined by setting a combination model of a film thickness, a complex index of refraction and the like and finitely repeating fitting the model to a measured spectrum while changing an angle of incidence.例文帳に追加

膜厚や複素屈折率などの組み合わせモデルを設定し、測定スペクトルとのフィッティングを、入射角度を変えて有限繰り返し行うことにより、薄膜構造および、誘電率の波長依存性、組成比を精度よく正確に決定する基板上の化合物半導体層の組成決定方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin which contains a repeating unit with a specified structure having a fluorine atom and a benzene ring having a -CONH- or -SONH- group and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developer and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）−ＣＯＮＨ−基又は−ＳＯＮＨ−基を有するベンゼン環及びフッ素原子を有する特定の構造の繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method for producing the toner has a step of subjecting reaction components containing at least the block copolymer having the polymerizable functional group in the side chain and having a polyalkenyl ether repeating unit structure, the polymerizable monomer, and the coloring material to suspension polymerization or emulsion polymerization, to produce the graft copolymer in which the polymer of the polymerizable monomer is grafted to the side chain of the block copolymer.例文帳に追加

側鎖に重合性官能基を有し、かつポリアルケニルエーテル繰り返し単位構造を有するブロック共重合体、重合性単量体及び色材を少なくとも含有する反応成分を懸濁重合またはエマルジョン重合し、前記ブロック共重合体の側鎖に重合性単量体の重合体がグラフトしたグラフト共重合体を生成する工程を有するトナーの製造方法。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by stacking an organic photosensitive layer and an inorganic surface protecting layer in this order on an electrically conductive substrate and at least the top part of the organic photosensitive layer brought into contact with the surface protecting layer contains a polymer having repeating units with an arylamine structure polymerized through carbonate bonds.例文帳に追加

導電性基体上に有機感光層と、無機の表面保護層をこの順に積層した電子写真感光体であって、上記有機感光層の、少なくとも表面保護層に接する最表面部にカーボネート結合により重合されたアリールアミン構造の繰り返し単位を有する重合体を含有する。 - 特許庁

The knitted fabric contains ≥30 mass% acrylic conjugate fiber having a side-by-side conjugation structure of (A) an acrylonitrile polymer having high swelling ratio and (B) an acrylonitrile fiber having low swelling ratio at a mass ratio of 20:80 to 80:20 and the dimensional change in the fabric is <5% after repeating washing treatment 10 times in conformity to JIS L0217 103.例文帳に追加

高膨潤度アクリロニトリル系重合体（Ａ）と低膨潤度アクリロニトリル系重合体（Ｂ）が質量比２０：８０〜８０：２０の範囲でサイドバイサイド構造に接合されたアクリル系複合繊維を３０質量％以上含む編物であって、ＪＩＳ Ｌ０２１７ １０３法における１０回洗濯後の寸法変化率が５％未満である編物である。 - 特許庁

To provide a data communication method and an auxiliary terminal station capable extending a communicating function economically by establishing a radio collection route irrespective of a communication disabled area using a data repeating function of the auxiliary terminal station, simply by embedding the auxiliary terminal station with simple structure in the vicinity of an isolated terminal station where no radio wave can be received from the surroundings, when communication is connected with the isolated terminal station.例文帳に追加

この発明は、周囲から電波を受信できない孤立した端局に通信接続する場合、その近くに簡易構成の補助端局を配設するだけで、この補助端局のデータ中継機能により通信不能エリアに拘らず無線収集経路を確立して経済的に通信機能を拡張することができるデータ通信方法及び補助端局を提供することを目的とする。 - 特許庁

The negative resist composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a compound having a cationic-polymerizable group, and (C) a photocationic polymerization initiator, wherein the alkali-soluble resin (A) is a resin including a repeating unit having a sulfonamide structure represented by general formula (SF), wherein * represents a direct link, and R^SF represents an organic group having at least one fluorine atom.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）カチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 - 特許庁

In the element, at least one of the organic compound layers contains one kind of light-emitting polyether, and the light-emitting polyether is configured of a repeating unit containing at least one kind selected from among structures represented by a general formula (AI) as a partial structure.例文帳に追加

〔一般式（ＡＩ）中、Ａｒ_１aとＡｒ_２aは各々２価の芳香族基を表わし、Ｘ_aは少なくとも１個以上の芳香族縮合環炭化水素基を有する２価の芳香族基を表し、ｌ、ｍは０または１を表し、ｓは１以上の整数を表し、Ｔは炭素数１〜６の２価の直鎖状炭化水素又は炭素数２〜１０の分枝状炭化水素を表す。 - 特許庁

The surface lighting system using the light guide plate is equipped with the light source, a power source route part for supplying the light source with an electric source, a reflector for reflecting light from the light source and the light guide plate for introducing the light from the light source to an exit surface and has a repeating structure including the light source.例文帳に追加

筐体内に、光源と、この光源に電源を供給する電源経路部と、前記光源から発する光を反射する反射体と、前記光源から発する光を出射面に導くための導光板とを有する導光板を用いる面状照明装置であって、前記光源を含む繰り返し構造を有することを特徴とする導光板を用いる面状照明装置。 - 特許庁

The polymer includes a repeating structure represented by general formula (I), wherein R^1 represents H or hydroxyalkyl, alkoxyalkyl, aryloxyalkyl or alkyl each of which may be substituted by a halogen atom; R^2 represents a single bond or a divalent linking group; R^3 represents H or a hydrocarbon group; R^4 represents an amino acid residue; and R^5 represents a protective group or H.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）：（式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、又はアルキル基を、Ｒ^２は単結合又は二価の連結基を、Ｒ^３は水素原子又は炭化水素基を、Ｒ^４はアミノ酸残基を、Ｒ^５は保護基又は水素原子を表わす。）で表わされる繰り返し構造からなる重合体。 - 特許庁

With the thin film EL element which has at least a laminated structure with a light-emitting layer and transparent electrode layer after an electrode layer having a pattern is formed on a substrate having electric insulation and then, a dielectric layer is formed into a multi-layer state by repeating a solution-coating burning method, a buffer layer is placed between the multi- layer dielectric layer and the electrode layer.例文帳に追加

電気絶縁性を有する基板上にパターンを有する電極層が形成され、さらに誘電体層が溶液塗布焼成法を複数回繰り返すことにより多層状に形成された後、発光層及び透明電極層が積層された構造を少なくとも有する薄膜ＥＬ素子であって、前記多層状誘電体層と前記電極層との間にバッファ層を備えた構造とする。 - 特許庁

The coating varnish for insulation film contains (1) a copolymer produced by reacting a polyamide containing a repeating unit expressed by general formula (A) with a reactive oligomer having a substituent reactive with the carboxy group, amino group or hydroxy group in the polyamide structure, (2) an acetylene compound having a functional group containing at least one acetylene group and (3) an organic solvent as essential components.例文帳に追加

（１）一般式（Ａ）で表わされる繰り返し単位を有するポリアミドと該ポリアミド構造中のカルボキシ基、アミノ基又はヒドロキシ基と反応し得る置換基を有する反応性オリゴマ−とを反応させて得られた共重合体、（２）少なくとも１個のアセチレン基を含む官能基を有するアセチレン化合物、および（３）有機溶媒、を必須成分とすることを特徴とする絶縁膜用コーティングワニス。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin which has a repeating unit having a partial structure containing a specified alicyclic hydrocarbon and which is changed into alkali soluble by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one of hydroxyl group or substituted hydroxyl group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂及び（Ｃ）水酸基又は置換された水酸基を少なくともひとつ有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The drain/drift section 22 of a vertical MOSFET has the first parallel p-n structure constituted by repeatedly and alternately joining layered vertical first n-type regions oriented in the thickness direction of a substrate and layered vertical first p-type regions 22b also oriented in the thickness direction of the substrate to each other at a repeating pitch of P1.例文帳に追加

縦形ＭＯＳＦＥＴのドレイン・ドリフト部２２は、基板の厚み方向に配向する層状縦形の第１のｎ型領域２２ａと基板の厚み方向に配向する層状縦形の第１のｐ型領域２２ｂとを繰り返しピッチＰ１で基板の沿面方向へ交互に繰り返して接合して成る第１の並列ｐｎ構造である。 - 特許庁

The stretched molding of a styrenic copolymer is prepared by stretching a styrenic copolymer which is constituted of 5-99 mol% styrene derivative unit and 95-1 mol% olefin unit, has a syndiotactic structure having a stereoregularity [rrrr] of a repeating unit chain constituted of the styrene derivative of not less than 80% and a molecular weight distribution of not more than 1.3.例文帳に追加

スチレン誘導体単位５〜９９モル％とオレフィン単位９５〜１モル％とからなり、かつスチレン誘導体から構成される繰り返し単位連鎖の立体規則性［ｒｒｒｒ］が８０％以上であるシンジオタクチック構造を有し、分子量分布が１．３以下であるスチレン系共重合体を延伸してなるスチレン系共重合体延伸成形品である。 - 特許庁

In the production method for an exhaust gas purification catalyst by carrying catalytic components in a honeycomb structure 8 having a large number of gas flow paths along the gas flow direction, a plurality of slurries containing catalytic components with different solid matter concentrations are produced and the honeycomb carrier 8 is coated successively with the slurries in the order of lower solid matter concentrations and repeating the drying steps to carry the catalytic components.例文帳に追加

ガス流通方向に沿った多数のガス流路を有するハニカム構造体８に触媒成分を担持させる排ガス浄化触媒の製造方法において、触媒成分を含有するスラリを固形分濃度を変えて複数調製し、ハニカム担体８に固形分濃度が低いスラリから順にコーティングし、その後乾燥する工程を繰り返して触媒成分を担持させること。 - 特許庁

To provide a manufacturing process by which in manufacturing a polymer compound by cation living polymerization, a block polymer having a narrow molecular weight distribution and a precisely controlled primary structure is obtained, even when the rates of polymerization are different among monomers forming repeating units of the individual block segments or the rates of polymerization are slow.例文帳に追加

リビングカチオン重合法による高分子化合物の製造法において、各ブロックセグメントの繰り返し単位を形成するモノマーの重合速度が異なる場合やモノマーの重合速度が遅い場合にも、分子量分布が狭く一次構造が精密に制御されたブロックポリマーを得ることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin having a specified repeating unit having a norbornane lactone structure and having the solubility with an alkaline developing solution increased by the effect of an acid; (B) a compound which generates specified sulfonic acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) solvent.例文帳に追加

（Ａ）ノルボルナンラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により特定のスルホン酸を発生する化合物、及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) at least one specified compound which generates sulfonic acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which contains at least one selected from repeating units each having a specified alicyclic structure in the principal chain and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility to an aqueous alkali solution.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造を有する活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物のうち少なくとも１種 （Ｂ）主鎖に特定の構造の脂環式構造を有する繰り返し単位より選択される少なくとも一種を含む、酸の作用により分解しアルカリ水溶液に対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The composition consisting of 40 to 80 wt.% binder resin, 5 to 50 wt.% antistatic agent essentially consisting of the repeating unit of structure expressed by formula, 5 to 20 wt.% water-soluble high polymer and 5 to 15 wt.% surfactant is prepared.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に塗膜を積層せしめたフィルムで、該塗膜が（Ａ）バインダー樹脂４０〜８５重量％、（Ｂ）式（１）で示される構造の繰り返し単位を主成分とする帯電防止剤５〜５０重量％、（Ｃ）水溶性高分子５〜２０重量％及び（Ｄ）界面活性剤５〜１５重量％からなる組成物を含む水性塗液を塗布し、乾燥、延伸して得られる制電性塗膜積層フィルム。 - 特許庁

The antistatic coating composition comprises 100 pts.wt. hard coat base containing at least one of a monomer containing a plurality of ethylene groups and a prepolymer containing a plurality of ethylene groups and 0.5-50 pts.wt. polymer compound having a repeating unit of a polar structure of one of an ion pair and betaine and a fluorocarbon group.例文帳に追加

帯電防止性コーティング組成物は、エチレン基複数含有モノマーとエチレン基複数含有プレポリマーとの少なくとも何れかを含有するハードコートベースを１００重量部、イオン対及びベタインの何れかの極性構造の繰返し単位とフルオロカーボン基とを含有する高分子化合物の０．５〜５０重量部が含まれている。 - 特許庁

The upper-layer film forming composition is used to form the upper-layer film on a surface of a photoresist film, and contains (A) a polymer having a repeating structure unit expressed by formula (1), (B) a polymer other than (A) and having a sulfonic acid group, and (C) a solvent.例文帳に追加

フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、（Ａ）下記式（１）で示される繰り返し構造単位を有する重合体、（Ｂ）上記（Ａ）以外の重合体であって、スルホン酸基を有する重合体および（Ｃ）溶剤を含有する上層膜形成組成物。 - 特許庁

The hydrocarbon mixture is brought into contact with one surface of a membrane based on the fluorine-containing polyimide resin having a cohesive energy density of 510-690 J/cm3 at 25°C and containing at least one bond selected from a -Cl group, an -SO2- bond and a -CONH bond in its repeating molecular unit structure and the specific hydrocarbon is selectively transmitted through the membrane to be separated.例文帳に追加

炭化水素を含む混合物を、２５℃における凝集エネルギー密度が510J/cm^3以上690J/cm^3以下の範囲にあり、且つポリマーの繰り返し分子単位構造内に-C1基、-SO_2-結合及び-CONH-結合から選ばれる少なくとも一つの結合を含むフッ素含有ポリイミド樹脂を主成分とする膜の一方の面に接触させ、この膜を通して、特定炭化水素を選択的に透過させ分離する。 - 特許庁

The asymmetrical hollow fiber gas separation membrane formed from a soluble aromatic polyimide comprising a specified repeating unit in which a tetracarboxylic acid component comprises a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure, and a diamine component comprises a diaminodibenzothiophene, a diaminodibenzothiophene=5,5-dioxide, a diaminothioxanthene-10,10-dione or a diaminothioxanthene-9,10,10-trione, and a 3,3'-diaminodiphenylsulfone.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン類とからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber membrane for separating a gas is made from a soluble aromatic polyimide comprising a specific repeating unit constituted of a tetracarboxylic acid component comprising a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure and of a diamine component comprising a diaminodibenzothiophene, a diaminodibenzothiophene=5,5-dioxide and a diaminothioxanthene-10,10-dione, or a diaminothioxanthene-9,10,10-trione, a 3,3'-diaminodiphenylsulfone and a diaminobenzoic acid.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン類と、ジアミノ安息香酸類とからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber membrane for separating a gas is made from a soluble aromatic polyimide comprising a specific repeating unit constituted of a tetracarboxylic acid component comprising a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure and of a diamine component comprising a diaminodibenzothiophene, a diaminodibenzothiophene=5,5-dioxide and a diaminothioxanthene-10,10-dione, or a diaminothioxanthene-9,10,10-trione, a 3,3'-diaminodiphenylsulfone and an m-phenylenediamine.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン類と、ｍ−フェニレンジアミン類とからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber gas separation membrane is formed of a soluble aromatic polyimide including a specific repeating unit wherein a tetracarboxylic acid component includes a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure; and a diamine component includes a diaminodibenzothiophene, a diaminodibenzothiophene=5,5-dioxide, a diaminothioxanthene-10,10-dione or a diaminothioxanthene-9,10,10-trione, and meta-phenylenediamine.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、メタフェニレンジアミンとからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber membrane for gas separation is formed from the soluble aromatic polyimide having the specific repeating unit the tetracarboxylic acid component of which consists of a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure and the diamine component of which consists of diamino-dibenzothiophenes, diamino-dibenzothiophene=5,5-dioxides, diaminothioxanthene-10,10-diones or diaminothioxanthene-9,10,10-triones, 3,3'-diamino-diphenylsulfones and diaminobenzoic acids.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン類と、ジアミノ安息香酸類とからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber membrane for gas separation is formed from the soluble aromatic polyimide having the specific repeating unit the tetracarboxylic acid component of which consists of a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure and the diamine component of which consists of diamino-dibenzothiophenes, diamino-dibenzothiophene=5,5-dioxides, diaminothioxanthene-10,10-diones or diaminothioxanthene-9,10,10-triones and 3,3'-diamino-diphenylsulfones.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン類とからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The unsymmetrical hollow fiber membrane for gas separation comprises a soluble aromatic polyimide having a specific repeating unit wherein a tetracarboxylic acid component is derived from a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure, and a diamine component is derived from diaminodibenzothiophene, a diaminodibenzothiophene-5, 5-dioxide, a diaminothioxanthene-10, 10-dione or a diaminothioxanthene-9, 10, 10-trione and a diaminobenzoic acid.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、ジアミノ安息香酸類とからなるものである、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

The asymmetric hollow fiber gas separation membrane is formed of a soluble aromatic polyimide comprising a specific repeating unit composed of a tetracarboxylic acid component, which comprises a diphenylhexafluoropropane structure and a biphenyl structure, and a diamine component composed of diaminodibenzothiophene, diaminodibenzothiophene=5,5-dioxide, diaminothioxanthene-10,10-dione or diaminothioxanthene-9,10,10-trione and methaphenylenediamine.例文帳に追加

テトラカルボン酸成分がジフェニルヘキサフルオロプロパン構造及びビフェニル構造からなるものであり、ジアミン成分がジアミノジベンゾチオフェン類、ジアミノジベンゾチオフェン＝５，５−ジオキシド類、ジアミノチオキサンテン−１０，１０−ジオン類又はジアミノチオキサンテン−９，１０，１０−トリオン類と、メタフェニレンジアミンとからなる、特定の反復単位からなる可溶性の芳香族ポリイミドで形成された非対称中空糸ガス分離膜に関する。 - 特許庁

In a composite structure of metal and polyarylene sulfide resin or resin composition, the surface of metal is roughened physically and/or chemically, and the polyarylene sulfide resin or the polyarylene sulfide component composing the resin composition contains a copolymer comprising at least a para-arylene sulfide repeating unit, and contains 2-20 mol% of meta-arylene sulfide repeating units in the polyarylene sulfide component.例文帳に追加

金属とポリアリーレンスルフィド樹脂または樹脂組成物の複合構造体であって、前記金属の表面が物理的および／または化学的に粗面化されており、前記ポリアリーレンスルフィド樹脂または樹脂組成物を構成するポリアリーレンスルフィド成分が、少なくともパラアリーレンスルフィド繰り返し単位とメタアリーレンスルフィド繰り返し単位からなる共重合体を含み、かつポリアリーレンスルフィド成分中のメタアリーレンスルフィドの繰り返し単位を２〜２０ｍｏｌ％含有するポリアリーレンスルフィド成分であることを特徴とする、金属とポリアリーレンスルフィド樹脂または樹脂組成物との複合構造体。 - 特許庁

The production method of a cellulose acylate film comprises a step of dissolving a cellulose acylate in a solvent, and adding a compound having an ester structure of a repeating unit to the solvent to prepare a cellulose acylate solution; a step of casting the cellulose acylate solution on a support to form a casted film, and peeling the casted film as a film off the support while drying the casted film; and a step of transporting the film while drying the film.例文帳に追加

セルロースアシレートフィルムの製造方法は、セルロースアシレートを溶媒に溶解し、繰り返し単位のエステル構造を持った化合物を前記溶媒に添加し、セルロースアシレート溶液を準備する工程と、前記セルロースアシレート溶液を支持体上に流延し、流延膜を形成し、乾燥しながら前記流延膜をフィルムとして前記支持体から剥離する工程と、前記フィルムを乾燥しながら搬送する工程を有する。 - 特許庁

In the resist composition containing (A) a compound generating the acid due to irradiation with an active light or radiation, and (B) a resin increasing solubility to an alkali developer due to the action of the acid having a repeating unit having at least one alicyclic structure, the resin of (B) components is one having a perfuluoroalkyl group or an Si atom on the main chain terminal.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）少なくとも１つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、その主鎖末端にパーフルオロアルキル基又はＳｉ原子を有する基を有する樹脂であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

In the image forming method by an electrophotographic process in which a photoreceptor is used under conditions at a revolving speed of ≥60 rpm, the cylindrical electrophotographic photoreceptor containing a binder resin, having a repeating structure represented by general Formula (1) and an organic photoconductor, having a residual deformation volume R of ≤50% in indentation test represented by Formula (2), is used as the above photoreceptor.例文帳に追加

感光体の回転速度が６０ｒｐｍ以上の条件で使用される電子写真方式の画像形成方法において、感光体として、下記一般式（１）で表される繰り返し構造からなるバインダー樹脂を含有し、且つ下記一般式（２）で表される押込み試験における残留変形量Ｒが５０％以下である有機光導電体を有する円筒状電子写真感光体を用いることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

In the direct backlight, a lenticular lens array having a plurality of parallel ridgelines arranged nearly parallelly with the axes of linear light sources, and the reflecting polarizer are disposed to one side of the linear light sources, and a reflecting plate having ridgelines and repeating slant structure is disposed to the other side of the linear light sources such that the ridgelines of the reflecting plate and the axes of the linear light sources nearly cross.例文帳に追加

直線状光源に対し、その片側には、複数の平行な稜線を有するレンチキュラーレンズアレイおよび反射偏光子が配置されており、かつレンチキュラーレンズアレイの稜線は直線状光源の長軸に概略平行に配置されており、もう一方の片側には、稜線を有し、かつ繰り返し傾斜構造を有する反射板が、反射板の稜線と直線状光源の長軸とが概略直交するように配置されていることを特徴とする直下型バックライト。 - 特許庁

The electroconductive polymer has a structure of formula (1) (wherein R is an alkyl group having ≥4 carbon atoms which is bound to the β-carbon in a thiophene ring; X and X' are each independently an element chosen from the group consisting of H, Cl and Br; and n is the repeating number of thiophene rings).例文帳に追加

下記一般式（１）で表される構造を有する導電性高分子であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．４以下であり、重量平均分子量（Ｍｗ）から求められるチオフェン環の平均繰り返し数（ｎ）が３０以上８６以下であり、且つ、隣り合うアルキルチオフェン環同士の結合様式の９２％以上が立体規則性を示すようにする。 - 特許庁

In the image forming method by an electrophotographic process in which a photoreceptor is used at a revolving speed of ≥60 rpm, a cylindrical electrophotographic photoreceptor containing a binder resin having a repeating structure represented by formula (1) and an organic photoconductor having a residual deformation volume R of ≤50% in an indentation test represented by expression (2) is used as the above photoreceptor.例文帳に追加

感光体の回転速度が６０ｒｐｍ以上の条件で使用される電子写真方式の画像形成方法において、感光体として、下記一般式（１）で表される繰り返し構造を有するバインダー樹脂を含有し、且つ下記一般式（２）で表される押込み試験における残留変形量Ｒが５０％以下である有機光導電体を有する円筒状電子写真感光体を用いることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a compound which contains at least (A1) a sulfonate compound of a sulfonium and (A2) a sulfonate compound or a disulfonyl diazomethane compound of N- hydroxyimide and generates an acid when irradiated with active light or radiation; and a resin which contains repeating units each having a specified lactone structure and is decomposed by the action of the acid to have its alkali solubility increased.例文帳に追加

少なくとも（Ａ１）スルホニウムのスルホン酸塩化合物と（Ａ２）Ｎ−ヒドロキシイミドのスルホネート化合物又はジスルホニルジアゾメタン化合物を含む、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定のラクトン構造を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units including a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generated the acid when irradiated with active light or radiation, an organic solvent which dissolves the above components, an organic basic compound and at least one selected from a fluorine- and/or silicon-containing surfactant and a nonionic surfactant.例文帳に追加

特定の構造を含有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、上記成分を溶解する有機溶剤、有機塩基性化合物、並びにフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤のうち少なくとも１種を含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This method for manufacturing the touch panel includes: a first step of providing a base material; a second step of forming a carbon nanotube composite structure on the base material to manufacture a first electrode plate; a third step of repeating the first step and the second step to manufacture a second electrode plate; and a fourth step of packaging the first electrode plate and the second electrode plate, to form the touch panel.例文帳に追加

本発明のタッチパネルの製造方法は、基材を提供する第一ステップと、前記基材の表面にカーボンナノチューブ複合構造体を形成して第一電極板を製造する第二ステップと、上述した第一、第二ステップを繰り返して、第二電極板を製造する第三ステップと、前記第一電極板と前記第二電極板をパッケージして、タッチパネルを形成する第四ステップと、を備える。 - 特許庁