「reticles」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

On the basis of the reticle class table, extraction of reticles to be discontinued, discharge of the reticles to be discontinued from a stocker and deletion of production data and information on the reticles to be discontinued are automatically performed by executing a prescribed program.例文帳に追加

そして、レチクル系列表に基づいて、廃版対象レチクルの抽出、廃版対象レチクルのストッカからの出庫および廃版対象レチクルの製作データ及び資料の抹消を所定のプログラムを実行して自動で行う。 - 特許庁

Reticles with high use efficiency are housed in these M/C stockers 7, which are provided with a hit lamp 9 for indicating reticles 8 leaving by a command from a work start instruction terminal 4 and a replacement lamp 10 for indicating reticles 8 replaced regularly according to a manufacturing plan.例文帳に追加

これらのＭ／Ｃレチクルストッカー７には、使用効率の高いレチクルが収納され、着工指示端末４からの命令で出庫するレチクル８を示すヒットランプ９と、製造計画に応じて定期的に入れ替えるレチクル８を示す入れ替えランプ１０とが備えられている。 - 特許庁

1. Masks and reticles used to manufacture integrated circuits that fall under any of item (i) through item (viii) 例文帳に追加

（一）　第一号から第八号までのいずれかに該当する集積回路の製造用のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

A reticle stage RST has an electrostatic chuck 35 for attracting reticles R.例文帳に追加

レチクルステージＲＳＴが、レチクルＲを吸着する静電チャック３５を有している。 - 特許庁

The shift reticles are shifted with respect to the substrate between stages of the addition of the monomer.例文帳に追加

シフト・レチクルは、単量体付加の段階と段階の間に、基板に対してシフトされる。 - 特許庁

The individual reticle cases 67 and the individual reticles are provided with bar codes 70, respectively.例文帳に追加

レチクルケース６７及び各レチクルには、バーコード７０が付されている。 - 特許庁

Reticles 21-23, each comprising a liquid crystal, are stacked to form the liquid crystal spatial optical modulator 2.例文帳に追加

液晶からなるレクチル２_1 〜２_3 を積層して液晶空間光変調器２を構成する。 - 特許庁

To correct the distortion of a pattern-projected image due to the thermal expansion of reticles.例文帳に追加

レチクルの熱膨張に起因するパターンの投影像の歪みを補正する。 - 特許庁

Furthermore, a selected each pattern of a plurality of reticles is imprinted on the wafer simultaneously.例文帳に追加

そして、選択した、複数のレチクル各々のパターンを、同時に、ウエハ上に転写する。 - 特許庁

To conduct patterning using reticles for satisfying forming accuracy of resist mask in the semiconductor device manufacturing process without dependence on the absolute accuracy evaluation of reticles.例文帳に追加

レチクルの絶対精度評価に依存することなく、半導体装置の製造工程におけるレジストマスクの形成精度を満足するレチクルを用いてパターニングを行う。 - 特許庁

Since the plurality of reticles 18 are formed concentrically with the axial line of a prism body 12 at equal interval, a deviation between the reticles 18 and the ball hit surface 112 is visually and quantitatively observed.例文帳に追加

そして、目盛１８がプリズム本体１２の軸線と同心状で且つ等間隔に複数形成されているので、目盛１８と打球面１１２との芯出しのズレを目視により定量的に観察することができる。 - 特許庁

At this time, the reticles 22, 23 are disposed on the reticle 21 closest to a wafer 6, in such a way that a region present between segments (pixels) of the reticle 21 and causing leakage of light and segments (pixels) of the reticles 22, 23 overlap each other.例文帳に追加

このとき、ウェハ６に一番近いレクチル２_1 のセグメント（画素）間に存在する、光もれや光抜けの原因となる領域と、レクチル２_2 ，２_3 のセグメント（画素）とが重なるように、レクチル２_1 上にレクチル２_2 ，２_3 を積層配置する。 - 特許庁

The positions of reticles 6 on a plane to be illuminated by respective electron sources 2 are set for each of the electron sources 2.例文帳に追加

各電子源２が照明するレチクル６が位置する面上の位置は、各電子源２毎に定まっている。 - 特許庁

When double exposure is performed by using reticles 11 and 13, the electron intensities of the double exposure are added to each other and the sum becomes the electron intensity distribution curve C shown in the graph.例文帳に追加

レチクル１１及びレチクル１３を用いて二重露光すると、それぞれの電子強度が足し合わされて、電子強度分布Ｃのようになる。 - 特許庁

Reticles are aligned on the substrate layer (225), a photoresist is subjected to a first exposure (230), and a first pair of photoresist lines are formed.例文帳に追加

レチクルは基板層に整列され（２２５）、フォトレジストは第１回目の露光をされ（２３０）、第１の対のフォトレジストラインを形成する。 - 特許庁

A single or a plurality of shift reticles are used to uniformly add a monomer to a specific location in the substrate.例文帳に追加

１つまたは複数のシフト・レチクルを利用して、基板の指定の場所に単量体を一様に付加する。 - 特許庁

Also, for example, a plurality of groups of image processing devices 18a and 18b such as CCDs are used for the measurement of the second and the later reticles R.例文帳に追加

また、２枚目以降のレチクルＲの計測に、例えば複数組のＣＣＤ等の画像処理装置１８ａ，１８ｂを用いる構成とした。 - 特許庁

A reticle transfer system 2 is connected to the main part 1 of a reticle inspection machine to carry in and carry out the reticles.例文帳に追加

レチクル検査装置本体１には、レチクル搬送系２が結合され、レチクル検査装置本体１へのレチクルの搬入と搬出を行っている。 - 特許庁

A vacuum reticle library 64 is provided with a plurality of steps 68 for mounting conveyed reticles, respectively.例文帳に追加

真空レチクルライブラリ６４には、搬送されたレチクルを載置するための複数段の台６８が設けられている。 - 特許庁

To provide an effective system and a method for scanning and inspecting wafers or reticles including a plurality of important areas by using a scanning beam array.例文帳に追加

複数の重要領域を含むウエハやレチクルを、複数のビームを使用して走査して検査するための効果的なシステム及び方法の提供。 - 特許庁

Patterns to be linked to photographic reticles are arranged right and left, and it is assumed that the upper of the left-hand pattern and the lower part of the right-hand pattern are linked to each other.例文帳に追加

フォトレチクルに繋ぎ合わせをするパターンを左右に配置し、左側のパターンの上部と右側のパターンの下部を繋ぐと仮定する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of reducing matching errors, even when multi-layer reticles are used so that pattern exposure precision is improved.例文帳に追加

マルチレイヤーレチクルを用いた場合であっても露光ショットの合わせ誤差を小さくすることができ、パターン露光精度の向上をはかる。 - 特許庁

When the reticles are conveyed, the bar codes 70 thereon are each scanned for identification.例文帳に追加

レチクルを搬送する際には、レチクルに付けたバーコード７０を読み取って、搬送するレチクルの確認を行うことができる。 - 特許庁

To provide an exposure method using reticles by which the transfer of clear and opaque defects can be prevented and the verticality in cross-section of a pattern can be secured.例文帳に追加

白欠陥及び黒欠陥の転写を防止し、かつパターン断面の垂直性を確保できるレチクルを用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁

A reticle inspection system for inspecting reticles is usable as an incoming inspection tool and a periodic and preexposure inspection tool.例文帳に追加

レクチルを検査するためのレクチル検査システムは入って来る検査ツールとして、そして、周期的及び予備露光検査ツールとして使用可能である。 - 特許庁

To efficiently remove not only reticles adhered to the surface of an aperture but also fine particles adhered to the sidewall of an aperture.例文帳に追加

レチクルの表面に付着した微粒子だけでなく、開口の側壁に付着した微粒子も効果的に除去できる微粒子除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide a dark-field-type autocollimator, capable of easily reducing ghost lights caused by reticles for projecting light.例文帳に追加

投光用レティクルによって発生するゴースト光を簡易に低減できる暗視野型オートコリメータを提供すること。 - 特許庁

Working reticles WR, WR1 for manufacturing the device are manufactured by transferring projected images of a plurality of the circuit pattern units selected from the working reticles WR1, WR2 on a substrate with a prescribed positional relation by using an optical stepper.例文帳に追加

光学式の投影露光装置を用いて、ワーキングレチクルＷＲ１，ＷＲ２から選択された複数の回路パターンユニットの投影像を所定の位置関係で基板上に転写することによって、デバイスを製造するためのワーキングレチクルＷＲ，ＷＲ１を製造する。 - 特許庁

When the double exposure is performed by adjusting the electron intensity of each exposure to 0.5 (total intensity/number of reticles = 1/2) under a condition where the total intensity of the double exposure is '1' and the threshold is '0.7', the obtained resist image becomes the same reticle image 14 as that obtained by using defectless reticles.例文帳に追加

二重露光電子全強度を「１」とし、しきい値は「０．７」とした場合、それぞれの電子強度を全強度／レチクル枚数（１／２）で０．５として二重露光を行うと、得られるレジスト像は、無欠陥レチクルで形成したレチクル像と同様のレチクル像１４となる。 - 特許庁

To provide a method for mask alignment and an exposure system using it, which enables the improvement in the manufacturing efficiency and the reduction of time for measuring a quantity of the discrepancy in position of reticles, when a plurality of reticles are subjected to the successive exposures.例文帳に追加

複数のレチクルを順次露光するに際して、レチクルの位置ズレ量の計測時間を短縮し、生産効率を向上させることのできるマスクの位置合わせ方法およびそれを用いた露光装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The parent patterns P1 to PN are respectively drawn unmagnifiedly on a substrate by using an electron beam drawing device or the like to produce a first group of master reticles R1 and the same parent patterns are drawn on another substrate to produce a second group of master reticles Q1 to QN.例文帳に追加

親パターンＰ１〜ＰＮをそれぞれ電子ビーム描画装置等を用いて等倍で基板上に描画して、第１組のマスターレチクルＲ１〜ＲＮを製造し、同じ親パターンを別の基板上に描画して、第２組のマスターレチクルＱ１〜ＱＮを製造する。 - 特許庁

This exposure system has the constitution, where after a first reticle R is positioned and its position is measured, for a second and the later reticles R, a quantity of the discrepancy in position is measured relative to the first reticle R, and the second and the later reticles are positioned in the position of the first reticle R based on the measured result.例文帳に追加

露光装置では、１枚目のレチクルＲを位置決めして、この１枚目のレチクルＲの位置を計測した後、２枚目以降のレチクルＲにおいては、１枚目のレチクルＲに対する相対的な位置ずれ量を計測し、これに基づいて前記１枚目のレチクルＲの位置に２枚目以降のレチクルＲを位置合わせする構成となっている。 - 特許庁

If the estimated time of arrival to the exposure process is not longer than a time required for transporting the same number of reticles as the number of lots simultaneously transportable to the exposure apparatus 109, to that apparatus 109, a reticle dispatcher 105 records the reticles to be used in the corresponding lot in the exposure process into a reticle releasing list.例文帳に追加

露光工程への到着予定時間が、露光装置１０９へ同時に搬入可能なロット数と同数のレチクルを露光装置１０９に搬送するために要する時間以下になったとき、レチクルディスパッチャー１０５は、そのロットが露光工程で使用するレチクルをレチクル投入リストに記録する。 - 特許庁

Therefore, in the case that the dimensional error at the corners 14 of the top part exceeds an allowable value, the pattern is complementarily partitioned, thus exposure is performed using a plurality of reticles.例文帳に追加

よって、先端部の角１４での寸法誤差が許容値を超える場合に、そのパターンを相補的に分割して複数のレチクルを用いて露光を行う。 - 特許庁

To find out an efficient technique for designing and using a lithography mask in probe array manufacturing, and more specifically, reduce the number of reticles required at designing in small quantities.例文帳に追加

プローブ・アレイ製造におけるリソグラフィック・マスクの設計および使用のより効率的な手法を見つけ出すこと、具体的には、少量設計の際に、必要なレチクルの数を減らすこと - 特許庁

Thus, even when the stage RST is driven at a high acceleration, the reticles R can be stably held by an attracting force of the chuck.例文帳に追加

このため、レチクルステージＲＳＴを高加速度で駆動するときにも、静電チャックの吸着力によりレチクルＲを安定して保持することができる。 - 特許庁

The first and the second reticles are transferred to form first and second masks of electrode patterns including the slit patterns on the first and the second conductive films, respectively and etching is performed to form first and second transparent electrodes.例文帳に追加

第１及び第２レチクルをそれぞれ転写して、スリットパタンを含む電極パタンの第１及び第２マスクを第１及び第２導電膜上にそれぞれ形成し、エッチングを行って、第１及び第２透明電極を形成する。 - 特許庁

Pattern images of master reticles RA-RD are exposed sequentially onto a photosensitive substrate through a density filter 55 while patching the screens to overlap partially.例文帳に追加

感光基板上に順次マスターレチクルＲＡ〜ＲＤのパターンの像を濃度フィルタ５５を介して、一部が重なるように画面継ぎをして露光する。 - 特許庁

The alignment between the substrate layer and the reticles are offset by a predetermined amount (235), the photoresist is subjected to a second exposure (240), and at least one of the photoresist lines printed by the first exposure is branched.例文帳に追加

基板層とレチクル間の整列を所定量だけオフセットして（２３５）、フォトレジストは２回目の露光がされ（２４０）、第１の露光によってプリントされたフォトレジストラインの少なくとも１つを分岐させる。 - 特許庁

Reticles which may be used in the exposure process are judged depending on accuracy of the relevant reticle, accuracy of the reticle used for exposure of the under-layer, and critical accuracy required for the design standard.例文帳に追加

露光時に使用可能なレチクルを、当該レチクルの精度と、下地層の露光に使われたレチクルの精度と、設計基準から要求されるクリティカルな精度とから判定する。 - 特許庁

In this way, the reticles 100A and 100B are used alternately at a time interval which is shorter enough than the time, in which fine particles or the like causing problems to projection exposure adhere to the reticle.例文帳に追加

このようにして、投影露光に問題となる微粒子等が付着するまでの時間に比べて十分短い時間間隔でレチクル１００Ａと１００Ｂを交互に使用する。 - 特許庁

When the second section is exposed, margin regions of the first and second reticles correspond to the scribe line where the first section and second section overlap with each other.例文帳に追加

第２の区画を露光するときに、第１及び第２のレチクルの各々のマージン領域が第１の区画と第２の区画との重なったスクライブラインに対応する。 - 特許庁

A shutter 3 is provided at the gate of the reticle transfer system 2, and the shutter 3 is closed so as to maintain airtight sealing, except when carrying in and carrying out the reticles.例文帳に追加

レチクル搬送系２の出入り口には、シャッタ３が設けられ、レチクルの搬入、搬出を行うとき以外はシャッタ３を閉じることにより気密性が保たれるようになっている。 - 特許庁

The operational information includes the number of transported wafers W, the number of exposed wafers W, the number of exposure performing times, the used time of reticles (20a-20d), etc.例文帳に追加

ここで、稼動情報は、ウェハＷの搬送枚数、露光処理を行ったウェハＷの枚数、露光を行った回数、レチクル（２０ａ〜２０ｄ）の使用時間等である。 - 特許庁

Thus, it becomes possible to curtail a formation-removal process of a mask pattern and the number of reticles in use, and the MOSFETs having the different operating voltage can be formed efficiently at a low cost with a constant performance being ensured.例文帳に追加

これにより、マスクパターンの形成・除去工程並びに使用するレチクル枚数の削減が可能になり、動作電圧が異なるＭＯＳＦＥＴを、一定の性能を確保しつつ、効率的に低コストで形成することが可能になる。 - 特許庁