「roughness elements」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The wafer is formed so as to be flat state having no warpage by making the surface roughness Ra (mathematical average roughness) of the rear surface of the substrate so as to be not less than 0.001 μm and not more than 2 μm through polishing and, thereafter, the wafer is separated into the elements.例文帳に追加

研磨で基板背面の表面粗さＲａ（算術平均粗さ）を０．００１μｍ以上２μｍ以下とすることでウェハーは反りのない平坦状態になり、その後、ウェハーを素子に分離する。 - 特許庁

To efficiently generate a mesh for easily controlling the roughness/ denseness of finite elements generated in a three-dimensional shape model and precisely analyzing this shape model.例文帳に追加

容易に３次元形状モデルに生成した有限要素の粗密を制御して、精度良く解析するためのメッシュを効率的に生成することを目的とする。 - 特許庁

Diamondlike carbon films 5 are formed at least either of the raceways of bearing rings 1 and 2 and the surface of rolling elements 3, wherein the surface roughness of the carbon films 5 is set under 0.005 μm by Ra (center line mean roughness).例文帳に追加

軌道輪１，２の軌道面あるいは転動体３表面の少なくともいずれかに、ダイヤモンドライクカーボン膜５が形成されており、このダイヤモンドライクカーボン膜５の表面粗さが、Ｒａ（中心線平均粗さ）で０．００５μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

To provide elements for use in laser systems operating at wavelength of smaller 200 nm wherein high reflectance is achieved in 193 nm, without increasing roughness and nonuniformity of a surface/an interface.例文帳に追加

２００ｎｍ未満のレーザシステムに用いられる素子において、表面／界面の粗さおよび不均一性を増加させずに、１９３ｎｍで高反射率を達成する。 - 特許庁

Optical surface 11 being a plurality of optical elements are adjacently formed on the optical element array 10, and recessed parts 12 concave to the surface 11 and having low surface roughness are formed between the optical elements, then the light transmittance of the recessed part 12 is made lower than that of the surface 11.例文帳に追加

光学素子アレイ１０は複数の光学素子となる光学面１１が隣接して形成され、各光学素子間に光学面１１に対して凹状でかつ面粗度が低い凹部１２が形成され、この凹部１２の光透過率は光学面１１に対して低くなっている。 - 特許庁

It is preferable to control the surface roughness Ra of the work damaged layer to ≤0.15 μm and to regulate the total amount of one or more elements among Zr, Nb, Ti, V and Ta as granular-oxide-forming elements contained in the heat-resistant metal to ≤0.5 mass%.例文帳に追加

前記加工変質層の表面粗度Ｒａは０．１５μm 以下とすることが好ましく、また前記耐熱金属に含まれる粒状酸化物形成元素のＺｒ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｔａの１種または２種以上の合計量は０．５mass％以下とすることが好ましい。 - 特許庁

The aluminum nitride sintered compact contains 0.5-5 mass% of the oxide of at least one kind of an element selected from among group IIIa elements, and is provided with a surface regulated to 0.2 μm or smaller in surface roughness Ra.例文帳に追加

窒化アルミニウム焼結体は、IIIａ族元素から選択される少なくとも１種の元素の酸化物を０．５〜５質量％含有し、表面粗さがＲａ０．２μｍ以下に調整された面を備えている。 - 特許庁

The ceramic valve 10 comprises a fixed ceramic valve element 11 and a movable ceramic valve element 12, one sliding surface 12a of the valve elements 11 and 12 is covered with a hard carbon film mainly consisting of an amorphous carbon, and the arithmetic average roughness Ra of both sliding surfaces of the fixed and movable valve elements is set to be ≤0.08 μm.例文帳に追加

セラミックバルブ１０、各々セラミック製の固定弁体１１と可動弁体１２とを備え、それら弁体１１，１２の一方の摺動面１２ａを主に非晶質炭素からなる硬質炭素被膜にて覆うとともに、固定弁体と可動弁体との両摺動面の算術平均粗さＲａを０．０８μｍ以下とする。 - 特許庁

In the dielectric element 1a, the surface roughness Ra of the side face 2E is 5,000 nm or less, so that when burying the dielectric elements 1a and 1b between the glass epoxy resin substrate 10 and insulating material 30, the occurrence of air bubbles between surfaces of the dielectric elements 1a and 1b and the resin can be prevented.例文帳に追加

誘電体素子１ａにおいて、側面２Ｅの表面粗さＲａが５０００ｎｍ以下であるため、誘電体素子１ａ，１ｂをガラスエポキシ樹脂基板１０と絶縁性機材３０との間に埋め込む際に、誘電体素子１ａ，１ｂの表面と樹脂との間に気泡が生じることを防止することができる。 - 特許庁

The copper alloy foil for the laminate has superior handling properties and conductivity, and has 180 degree peel strength of 8.0 N/cm or higher when being directly bonded to the polyimide film without being roughened by plating, by means of including particular elements and making the surface roughness to be 2 μm or less according to ten points average surface roughness (Rz).例文帳に追加

特定の元素を含有した銅合金において、表面粗さが十点平均表面粗さ（Ｒｚ）で２μｍ以下とすることにより、ハンドリング性と導電性に優れ，かつ粗化めっき処理を施さずにポリイミドフィルムと直接に接合したときの１８０゜ピール強度が８．０Ｎ／ｃｍ以上である、積層板用の銅合金箔を提供する。 - 特許庁

The copper alloy foil for the laminate has superior handling properties and conductivity, and has 180 degree peel strength of 8.0 N/cm or higher when being directly bonded to the polyimide film without being roughened by plating, by means of including particular elements and making the surface roughness to be 2 μm or less according to the ten points average surface roughness (Rz).例文帳に追加

特定の元素を含有した銅合金において、表面粗さが十点平均表面粗さ（Ｒｚ）で２μｍ以下とすることにより、ハンドリング性と導電性に優れ，かつ粗化めっき処理を施さずにポリイミドフィルムと直接に接合したときの１８０゜ピール強度が８．０Ｎ／ｃｍ以上である、積層板用の銅合金箔を提供する。 - 特許庁

The forming surface of the optical element-forming mold to produce optical elements by press forming of glass softened by heat comprises at least glassy carbons having bulk density of 1.5 g/cm3 or higher and the surface roughness Ra of 0.01 μm or less.例文帳に追加

加熱軟化したガラスを押圧成形して光学素子を得る光学素子成形用型において、少なくとも成形面を嵩密度１．５ｇ／ｃｍ^３以上、表面粗さＲａ＝０．０１μｍ以下のガラス状炭素で構成する。 - 特許庁

To provide a process for electrochemically machining the back side recessed cooling surface (12) of a shroud (10) in part defining the hot gas path of a turbine to form surface roughness elements (28) and spaces (26) therebetween to increase the heat transfer coefficient.例文帳に追加

タービンの高温ガス通路の一部を構成するシュラウド（１０）の裏側凹部冷却面（１２）が電気化学的研磨されて、表面凹凸要素（２８）及びその間の空隙（２６）が設けられ、その熱伝達係数を増大させる。 - 特許庁

At least the third optical element 6 is made of a resin; at least one of the first, second and third optical elements is the diffractive optical element, and average roughness Ra of a center line of the surface of the diffractive optical element is 20 nm≤Ra≤200 nm.例文帳に追加

少なくとも第３の光学素子６は樹脂製であり、第１、第２、第３の光学素子のいずれかは回折光学素子であり、回折光学素子の表面の中心線平均粗さＲａが、２０ｎｍ≦Ｒａ≦２００ｎｍを満足する。 - 特許庁

To provide a steel strip for a grid-liked metallic partition of a plasma display panel, which has satisfactory adhesiveness to an insulator and is superior in mass productivity, due to controlled elements contained in the metallic material and controlled surface roughness of the metal foil.例文帳に追加

本発明の目的は、金属材料が含有する元素と金属箔の表面粗さを制御することにより、絶縁体との密着性が良く、量産性に優れたプラズマディスプレイパネルの格子状金属隔壁用帯鋼を提供するものである。 - 特許庁

The inner ring 21, the outer ring 22, and the rolling elements 13 are composed of high carbon chrome steel, the inner ring 21 and the outer ring 22 are treated by carbonitriding, and the surface roughness of the inner raceway 21a and the outer ring raceway 22b is set to HRC 58 or more.例文帳に追加

内輪２１、外輪２２及び転動体１３は高炭素クロム鋼からなり、内輪２１及び外輪２２は浸炭窒化処理が施され、内輪軌道２１ａ及び外輪軌道２２ｂの表面硬さをＨＲＣ５８以上とされている。 - 特許庁

To provide a glass blank designed to prevent the fogging defect of formed articles by accompanying the fusion of glass and dies at a high temperature and the degradation in the surface roughness of the dies and to improve a parting property in manufacturing of optical elements and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高温におけるガラスと型の融着、および、型の表面粗さの低下に伴う成形品の曇不良、更には、光学素子の製造に際しての離型性の向上を意図したガラスブランクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Optical deflection elements 18 are formed on an optical deflection surface 7a of the light guide 7 with roughness and fineness in a direction orthogonal to an incident surface 7L, and optical confinement lenses 19 arranged in a direction parallel to the incident surface 7L are formed on an light-emitting surface 7b of the light guide 7.例文帳に追加

導光体７の光偏向面７ａに、入射面７Ｌと直交する方向に光偏向要素１８を疎密をつけて形成し、射出面７ｂには、入射面７Ｌに平行な方向に配列する光閉じ込めレンズ１９を形成した。 - 特許庁

(1) The material is a glass cloth having the arrangement pitch of fiber bundles in the arranging direction of the lens elements being within the diameter of the lens element ±5%, (2) a twill or satin woven glass cloth having reduced periodic property of surface roughness and having high smoothness, or (3) a glass paper having no directional property in the arrangement of the glass fiber.例文帳に追加

(1) レンズ素子配列方向のファイバ束配列ピッチがレンズ素子径±５％以内にあるガラスクロス、(2) 表面凹凸の周期性が緩和されて平滑度の高い綾織り又は朱子織りのガラスクロス、(3) ガラスファイバ配列に方向性のないガラスペーパ。 - 特許庁

Thereby, it is improved in optical density uniformity, reflectivity uniformity, surface roughness, chemical resistance, light-exposure resistance and the like, and it is also reduced problems of grown-in defects and residual stress, compared to an existing thin film having an uniform composition ratio of the elements in a depth direction of the film.例文帳に追加

これにより、既存の深さ方向に元素の組成比が均一な薄膜と比較する時、光学密度の均一性、反射率の均一性、表面粗度、耐化学性、耐露光性などを向上させ、成長性欠陥と残留応力の問題を低減させることができる。 - 特許庁

In the cold shot-peening step S7 to be executed after the water-cooling step S5, shots of the same size as that of shots in the warm shot-peening step S4 are projected onto the spring element wire, the surface roughness of the spring elements wire is reduced, and, in particular, the compressive residual stress in the vicinity of the surface of the wire increases.例文帳に追加

水冷工程Ｓ５後に行なわれる冷間ショットピーニング工程Ｓ７では、温間ショットピーニング工程Ｓ４と同じサイズのショットが前記ばね素線に投射され、ばね素線の表面粗さが小さくなるとともに、特に表面付近の圧縮残留応力が増加する。 - 特許庁

Thereby, roughness elements and spaces therebetween are formed in the cooling surface in opposition to the insulating and non- insulating portions of the electrode, thus increasing the surface area and heat transfer coefficient of the shroud.例文帳に追加

冷却面と電極との間に電解液を流し、電極とシュラウドとの間に電流を印加することにより、電極の絶縁及び非絶縁部分に対向した冷却面に、凹凸要素及びその間の空隙が形成され、従ってシュラウドの表面積及び熱伝達係数が増大する。 - 特許庁

In the magnetic recording medium 10, a non-magnetic material 16 is filled in a concave part 14 between recording elements 12A, allowing the surface to have an irregular shape being different from the irregular pattern of a recording layer 12, also, arithmetic average roughness of the irregular shape of the surface is restricted to 1 nm or less.例文帳に追加

磁気記録媒体１０は、記録要素１２Ａの間の凹部１４に非磁性材１６が充填されて表面が記録層１２の凹凸パターンと異なる凹凸形状とされ、且つ、該表面の凹凸形状の算術平均粗さが１ｎｍ以下に制限されている。 - 特許庁

To provide a polyimide-metal laminated sheet manufactured by an easy method equivalent to a conventional technology, excelling in peeling strength of a metal layer and a polyimide layer even if using metallic foil of low degree of roughness, forming a fine wiring pattern, and hardly deformed or peeled off even if mounting components and elements at a high temperature.例文帳に追加

従来技術と同等の容易な方法により製造でき、低粗度の金属箔を用いても金属層とポリイミド層とのピール強度に優れ、微細配線パターンを形成でき、かつ、高温での部品、素子実装に際しても変形や剥離が発生しないポリイミド金属積層板を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which solves problems relating to the techniques to improve the performance in microfabrication of semiconductor elements using high energy beams, in particular, which has high sensitivity and high resolution and satisfies both of a preferable pattern profile and line edge roughness for KrF excimer laser, X-rays, electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In addition, the apparatus is provided with a mesh quality evaluating part 112 for evaluating mesh quality as to whether mesh element reduction is performed while maintaining quality requirement, and a mesh subdividing part 109 for performing mesh subdivision for providing roughness and fineness to the hexahedron mesh model obtained by reducing the number of mesh elements of data.例文帳に追加

また、この装置は、要求品質を保ちながらメッシュ要素低減化を行ったか否かに関するメッシュ品質を評価するメッシュ品質評価部１１２と、データのメッシュ要素数を低減化した六面体メッシュモデルに対して、粗密をつけるためのメッシュ細分割を行うメッシュ細分割部１０９を備える。 - 特許庁

To provide the machining method which can actualize various elements such as a slider which is free of a defect in operation, etc., due to contamination when used and usable with high reliability by solving the problem of low deterioration in profile precision and the problem of contamination generation resulting from the roughness or chipping of a cut surface.例文帳に追加

プロファイル精度の低劣化の問題や、切断面の粗さあるいはチッピングに起因したコンタミネーション発生の問題を解決して、その実使用時にコンタミネーションに起因した動作不良等が発生することの無い、高い信頼性を以て利用可能なスライダなど各種の素子を実現できる加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which problems associated with the performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements are solved and characteristics including high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are satisfied in the semiconductor microfabrication using especially electron beams and X-rays.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The quartz glass contains metal elements and is improved in plasma corrosion resistance and has a content of foams and foreign matters <100 mm2 projected area per 100 cm3, OH concentration 100-2,000 ppm, surface roughness Ra 0.01-10 μm, and discharge gas amount 2 mol/m3 or less from room temperature to 1,000°C.例文帳に追加

金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、該石英ガラス中の泡と異物の含有量が１００ｃｍ^3当りの投影面積で１００ｍｍ^2未満、ＯＨ濃度が１００〜２０００ｐｐｍ、表面粗さＲａが０．０１〜１０μｍ、及び室温から１０００℃までの放出ガス量が２ｍｏｌ/ｍ^3以下であるようにした。 - 特許庁