「shape error」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and device, which concurrently compensate the influence of a feed control error, and the synchronous deflection and asynchronous deflection of a turn table and then form a high accurate constant linear speed and constant track pitch spiral-shape of high density information track on an optical original disk with reference to the strictly accurate CLV driving command pulse row.例文帳に追加

本発明は、厳密に正確なＣＬＶ駆動指令パルス列を基準に、送り制御誤差及び、ターンテーブルの同期振れ・非同期振れの影響を同時に補償し、光ディスク原盤上に、高精度な等線速・等トラックピッチスパイラル状の高密度情報トラックを形成するための方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical scanner whose lens shape is comparatively simple and to which metallic mold working and an injection molding are easily performed while excellently correcting the curvature of field on a surface to be scanned and minimizing focus movement and eccentricity caused by temperature change and the deterioration of optical performance caused by a tilt error after injection-molding 1st and 2nd scanning lenses of plastic.例文帳に追加

第１，２走査レンズをプラスチックにより射出成形した上、被走査面での像面湾曲が良好に補正され、温度変化による焦点移動及び偏心、チルト誤差による光学性能の低下を最小化しつつ、レンズ形状が比較的単純で金型加工及び射出成形が容易な光走査装置を提供する。 - 特許庁

When the electric characteristics of a given wiring structure is evaluated using a response surface function whose input variables are the shape parameters and physical parameters of the structure, if the response surface function formed by low degree terms of the input variables does not fall within the tolerance of the precision in estimation of the electric characteristics, high degree terms of the error input variables are selectively added.例文帳に追加

与えられた配線構造の電気特性を、構造の形状パラメータ及び物理パラメータを入力変数とする応答曲面関数を用いて評価する際、入力変数の低次項で構成した応答曲面関数が、電気特性の予測精度の許容範囲内でない場合、誤差入力変数の高次項を選択的に付加する。 - 特許庁

To provide a silicon impression material for occlusion measurement that can minimize the measurement error by the laser displacement gauge, can exactly measure the occlusion situation, for example, the shape of the occlusal face, the relative position to the antagonistic tooth with high precision, has high hardness and good machinability and can be suitably used for duplicating the occlusal relationship in the oral cavity of a patient on the computer display.例文帳に追加

レーザ変位計による測定誤差が極めて小さく、咬合面形状や対合歯との位置関係などの咬合関係を精度良く正確に測定でき、硬度も高く切削性も良好で、患者の口腔内の咬合関係をコンピュータ画面上に再現するのに好適に使用できる咬合関係計測用シリコーン印象材を提供する。 - 特許庁

The present method includes: providing a designed structure of circuit sections to be formed on one or a plurality of adjacent layers of a semiconductor wafer through lithography; and predicting the shape and positioning of every circuit section on the each of the adjacent layers through the use of one or a plurality of predetermined values with regard to a process variation or a positioning deviation error.例文帳に追加

本方法は、半導体ウェハの１つまたは複数の近接するレイヤーにリソグラフィで生成すべき回路部分の設計構成を提供すること、プロセス変動または位置合せずれ誤差に関する１つまたは複数の所定の値を使用して、それぞれの近接するレイヤーの回路部分ごとに形状および位置合せを予測することを含んでいる。 - 特許庁

The metallic optical element 1 has a maximum shape error PV of the optical surface 2 of ≤5μm, has a surface roughness Ra of ≤20 nm, contains either one of Al, Cu, Ni, Ag, Zn, Sn, Fe and Ti by 97 mol% or more and has impurities and inevitable impurities besides the same in which the maximum particle size of the impurities is adjusted to 500μm or less.例文帳に追加

本発明による金属製光学素子１は、光学面２の最大形状誤差ＰＶが５μm以下、表面あらさＲaが２０nm以下であって、アルミニウム，銅，ニッケル，銀，亜鉛，錫，鉄，チタンの何れか１つを９７モル％以上含み、それ以外の不純物および不可避不純物の最大粒径が５００μm以下に調整されている。 - 特許庁

The scanning route T_1-T_8 determined to be orthogonal to a ring belt (vertex) of each grating by using a phase function which is design shape information of the diffraction grating is stored in a control device 30, and a measurement error or deterioration of measurement accuracy is prevented by controlling the XY-stage so that the probe 11 scans the vertexes of the diffraction grating in the shortest way.例文帳に追加

制御装置３０には、回折格子の設計形状情報である位相関数を用いて各格子の輪帯（頂点）に直交するように求めた走査経路Ｔ_1 〜Ｔ_8 が記憶され、プローブ１１が回折格子の頂点を最短で走査するようにＸＹステージを制御することで、測定エラーや測定精度の劣化を防ぐ。 - 特許庁

The laser machining in which a machining shape error during the circular arc machining is not generated by making the constant circularity during the circular arc machining irrelevant to a machining position can be executed by calculating the speed proportional gain and the speed integral gain in response to the position of the laser nozzle machine and by executing responsive variable control when the axis movement during the laser machining is executed.例文帳に追加

レーザ加工時の軸移動を行う場合に、レーザノズル機械位置に応じて、速度比例ゲイン、速度積分ゲインを算出し、応答性可変制御を行うことによって、加工位置に関わらず、円弧加工時の真円度を一定にすることにより円弧加工時の加工形状誤差が発生しないレーザ加工を行うことができる。 - 特許庁

To provide a liquid seasoning container with a measuring function, a container that can measure liquid and pour while requiring no tilting with a large angle of the entire container for the purpose of measuring, that causes no fear of the liquid vigorously jumping out nor possibility of measuring error due to secular change, and that has a simplest possible shape and facilitates everyday washing.例文帳に追加

本発明の課題は、液体を計量し注ぐことが出来るとともに、計量のために容器全体を大角度で傾斜させる必要がなく、液体が勢いよく飛び出す心配がなく、経年変化による計量誤差の恐れがなく、出来得る限り単純な形状で、日常の洗浄が簡単に行える、計量機能付液体調味料容器を提供することである。 - 特許庁

The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

The curvilinear surface tension measurement method measures a surface tension by applying a curve of a liquid-drop shape generated by theoretical calculations to an image formed by imaging a suspended liquid drop or a still liquid drop, in such a manner as to include the minimum error.例文帳に追加

液体の懸滴や静滴を撮影した画像に対して，理論的な計算から生成された液滴形状の曲線を最小誤差となるように当てはめることによって表面張力を測定する，いわゆる曲線当てはめ法において，統計学で知られている最尤推定法を応用した輪郭位置の決定法を利用する，曲線当てはめによる表面張力測定法を実現する。 - 特許庁

This electron beam lithography apparatus has: a radiation section 10 that radiates electron beam 54; a detector 32 that detects reflective signals obtained by scanning the electron beam 54 on marks 101 and 102; and a resolution acquisition section 35 that obtains the resolution of the electron beam 54 by fitting waveforms based on the reflective signals, by using an approximate expression defined by two shape functions that correspond to the marks 101 and 102 and an error function.例文帳に追加

電子ビーム描画装置は、電子ビーム５４を照射する照射部１０と、電子ビーム５４をマーク１０１、１０２の上で走査して得られる反射信号を検出する検出器３２と、マーク１０１、１０２に対応する２つの形状関数と１つの誤差関数によって定義された近似式を用い、反射信号に基づく波形をフィッティングして電子ビーム５４の分解能を取得する分解能取得部３５とを有する。 - 特許庁