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step structuresの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 73件
The integration is performed in either one of steps, i.e., a step before the formation of the specified structures, a step during the formation, or a step after the formation.例文帳に追加
その複合化は、特定構造の形成前、形成中及び形成後のいずれかの段階で実行される。 - 特許庁
The integration is performed in either one of steps, i.e., a step before the formation of the specified structures, a step during the formation, and a step after the formation.例文帳に追加
その複合化は、特定構造の形成前、形成中及び形成後のいずれかの段階で実行される。 - 特許庁
The two electrode structures are created by a method including an electrode offset printing step and an electrode curing step.例文帳に追加
2つの電極構造体は、電極オフセット印刷工程と、電極硬化工程と、を含む方法で作製される。 - 特許庁
The etching step also forms mirrors or facets on the ends of the laser waveguide structures.例文帳に追加
エッチングステップはまた、レーザ導波路構造の端部にミラーまたはファセットを形成する。 - 特許庁
The dovetail slot part is formed in a plurality of step structures as dovetail slot parts 13a, 13b in the depth direction of a groove, in such a way that the dovetail parts 12a, 12b in the plurality of step structures can be engaged compressively.例文帳に追加
あり溝部は、複数段構造のあり部12a,12bを圧入できるように溝の深さ方向にあり溝部13a,13bとして複数段構造に形成する。 - 特許庁
A manufacturing method 76 of the MEMS pressure sensor apparatus includes a step 78 for forming the substrate structures 22 and 64 having the cavities 32 and 68, a step 84 for manufacturing the substrate structure 24 including the detection element 44, a step 92 for connecting the substrate structures, and a step 96 for forming the reference element 36 on the substrate structure 24.例文帳に追加
製造方法76が、キャビティ32、68を有する基板構造22、64を形成すること78、検知素子44を含む基板構造24を製造すること84、基板構造を結合すること92、次いで、基板構造24に基準素子36を形成すること96を含む。 - 特許庁
The dovetail part is formed in a plurality of step structures as dovetail parts 12a, 12b in the longitudinal direction of the salient pole 6.例文帳に追加
あり部は、凸極6の長手方向にあり部12a,12bとして複数段構造に形成する。 - 特許庁
A tilt sensor as the electrostatic device is manufactured by a method including a structure creating step of creating two electrode structures and a bonding step of bonding the created two electrode structures.例文帳に追加
静電デバイスとしての傾斜センサは、2つの電極構造体を作製する構造体作製工程と、作製された2つの電極構造体を接合する接合工程と、を含む方法により製造される。 - 特許庁
After step structures 2 are formed on a compound semiconductor substrate 1 by using lithography, quantum dots 6 are selectively formed only in specific portions on the substrate 1 having the step structures 2 by using a crystal growing technique.例文帳に追加
化合物半導体基板1にリソグラフィー技術を用いて段差構造2を形成し、結晶成長技術により上記段差構造を有する基板上の特定の部位にのみ選択的に量子ドット6を形成する。 - 特許庁
A construction method of structures lifting the structures to install them in the installation places includes a lifting step for lifting the plurality of structures by lifting tools for simultaneously lifting the plurality of structures at horizontal spaces, and an adjusting step for adjusting the clearance between the plurality of structures by adjusting means provided at the lifting tools according to the clearance between the installation places of the respective structures.例文帳に追加
構造物の構築物を、その設置箇所に吊り上げて設置する構築物の構築方法において、複数の構築物を水平方向に離間して同時に吊る吊り治具により、該複数の構築物を吊り上げる吊り上げ工程と、前記吊り治具が備える調整手段により、前記複数の構築物の離間距離を、各々の前記構築物の設置箇所の離間距離に応じて調整する調整工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The method comprises a step of selecting first and second structures each having a principal plane.例文帳に追加
本発明の方法は、まず、それぞれが主面を有する第1及び第2の構造体を選択するステップを含む。 - 特許庁
This method for growing a crystal comprises a step of providing a 3D framework having an aggregation of solid structures and a step of pouring a starting material of a liquid around and between individual solid structures of the 3D framework.例文帳に追加
結晶を成長する方法が、固体構造の集まりを備える3Dフレームワークを提供する工程と、液体出発材料を3Dフレームワークの個々の固体構造の周囲および間に流し込む工程とを含む。 - 特許庁
The method for forming the structures includes a step of determining locations on a substrate surface where the resist material is set according to predetermined angles α, β of the structures 231 to 234 to be formed, and setting the determined locations.例文帳に追加
形成される構造体231〜234の所定の角度α、βに応じて、レジスト材料が設置されている基板表面の位置を決定し、設定するステップを備える。 - 特許庁
A person who structures the product sale homepage accesses a sale center server 20 first (step B1) through a managing center server 40.例文帳に追加
まず、製品販売ホームページの構築者は、管理センターサーバ40を介して、販売センターサーバ20へアクセスする(ステップB1)。 - 特許庁
Motors (10) serving as drive sources of a plurality of structures performing a bottle making step are respectively controlled by respective controllers 1.例文帳に追加
製びん工程を実行する複数の機構の駆動源となるモータ10をそれぞれ個別のコントローラ1により制御する。 - 特許庁
The top faces of the protector covers 46, 56 have nonslip structures 46a, 56a, 56c, 56d to use the protector covers as a step for maintenance.例文帳に追加
又、プロテクトカバー(46,56)の上面を滑りにくい構造(46a,56a,56b,56c,56d)にすることによって、整備用のステップとして使えるように構成した。 - 特許庁
This floor slab structure with the step is provided with adjacent floor slab structures different in installation heights; a connecting steel plate for connecting vicinities of ends of back faces of the adjacent floor slab structures; and a space holding member for connecting the vicinities of the ends of truss structures inside the adjacent floor slab structures.例文帳に追加
この発明に係る段差付き床スラブ構造体は、設置高さが相違する、隣り合う床スラブ構造体と、隣り合う該床スラブ構造体の裏面部の各端部近傍を連結する連結鋼板と、隣り合う該床スラブ構造体の内部のトラス構造体の各端部近傍を連結する間隔保持材とを備えることにより上記課題を解決した。 - 特許庁
The construction method of a power plant includes: a step of constructing a foundation at a position for installing a slewing crane 1 which can haul and install structures to construct a power plant; a step of arranging and fixing the slewing crane on the foundation; and a step of bringing in the structures by the slewing crane.例文帳に追加
発電所を構成する構造物を吊り上げ、据付け可能な旋回式揚重機1を設置する箇所に基礎を施工する工程と、前記基礎上に前記旋回式揚重機を配置及び固定する工程と、前記旋回式揚重機により前記構造物を搬入する工程とを有することを特徴とする発電所の建設工法。 - 特許庁
Exposure is selected such that underexposure arises, and after the development step, at least one of the auxiliary structures is generated onto the substrate.例文帳に追加
露光量は、露光不足が生じるように選択され、現像工程の後に、補助構造の少なくとも1つが、基板上に生成される。 - 特許庁
The structures are manufactured in the first production process by using a process step and at least a value of the variable of the important profile shape of #1.例文帳に追加
構造体は、プロセス工程及び少なくとも1の重要プロファイル形状変数の値を用いることによって、第1製造プロセスクラスタ内で製造される。 - 特許庁
The crystal structures of the two metallic materials are subjected to structure control to micronize the average grain size of the metallic materials to ≤10 μm in a first step.例文帳に追加
第1ステップにおいて、2つの金属材料の結晶組織に組織制御を行い、金属材の平均結晶粒径を10μm以下に微細化する。 - 特許庁
The method of forming the patterned SOI/SON composite structure includes a shared processing treatment step wherein both SOI and SON structures are formed.例文帳に追加
パターン付けされたSOI/SON複合構造体を形成する方法は、SOI及びSON構造が共に形成される共有加工処理ステップを含む。 - 特許庁
In a junction method between concrete structures, a joint member, which is formed by combining at least two kinds of fiber with different linear expansion coefficients, is provided in a junction concrete (step S1), and the joint member is heated (step S2) so as to apply pre-stress to the junction concrete (step S3).例文帳に追加
コンクリート構造物間を接合する方法であって、線膨張率が異なる少なくとも二種の繊維を複合してなる継手部材を接合部コンクリートに設け(ステップS1)、継手部材を加熱することにより(ステップS2)、接合部コンクリートにプレストレスを付与するようにする(ステップS3)。 - 特許庁
As for a plurality of equivalent circuit models having mutually different structures, a step of evaluating appropriateness for application of the equivalent circuit model and a step of modelling the fuel cell by fitting a circuit constant of the appropriate equivalent circuit model obtained by the step of evaluating its appropriateness are provided in the characteristic evaluation method.例文帳に追加
互いに構成の異なる複数の等価回路モデルについて、その適用の妥当性を評価するステップと、妥当性を評価するステップにより得られた妥当な等価回路モデルの回路定数をフィッティングすることで燃料電池をモデル化するステップとを備える。 - 特許庁
The person who structures the homepage views various setting information displayed on the screen of the managing center server 40 and registers desired services to be provided on the screen (step B4).例文帳に追加
構築者は、管理センターサーバ40の画面に表示された各種設定情報を見て(ステップB3)、提供したいサービスを画面上で登録する(ステップB4)。 - 特許庁
To provide a method for producing a photomask that requires only one exposure step, whereby structures having different structure depths are produced in a layer or in a layer stack.例文帳に追加
層又は層積層体内に異なる構造深さを有する構造が製造されかつ露光工程を1工程しか必要としないフォトマスクを製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an expansion joint advantageous to eliminate a step difference generated between structures, and capable of absorbing relative displacement in the orthogonal two directions in a horizontal plane.例文帳に追加
構造体間に生じる段差を解消する上で有利で、水平面内における直交する2方向の相対変位を吸収できるエキスパンションジョイントを提供すること。 - 特許庁
The method includes: a step of receiving one or more data structures (136) storing parameter definitions; a step of specifying one or more parameters to be referred to in the expression; a step of determining the values of the respective specified parameters on the basis of the stored definition; and a step of storing the determined parameter values inside a binding environment (300).例文帳に追加
本発明の方法は:パラメータ定義を格納する一つ以上のデータ構造(136)を受け取るステップ;前記式で参照される一つ以上のパラメータを特定するステップ;格納された定義に基づいて前記特定したパラメータそれぞれの値を決定するステップ;および、バインド環境(300)内に前記決定したパラメータ値を格納するステップ;を含む。 - 特許庁
The planographic printing plate is made through a step in which a planographic printing original plate obtained by disposing on a hydrophilic support an image forming layer comprising a compound having a plurality of o-quinodimethane structures or precursor structures thereof and a hydrophobic polymer is imagewise heated to polymerize the compound and a step in which the image forming layer in the unheated areas is removed.例文帳に追加
親水性支持体上に、複数のo−キノジメタン構造またはその前駆体構造を有する化合物と疎水性ポリマーとを含む画像形成層が設けられている平版印刷原版を画像状に加熱して、化合物を重合させる工程、そして、加熱していない部分の画像形成層を除去する工程により平版印刷版を製版する。 - 特許庁
An outline image obtained by extracting an outline of the meridian cross section image is acquired (step S103), and a boundary between different structures in the meridian cross section image is clarified for acquiring an internal structure image (step S104).例文帳に追加
そして、子午断面画像の輪郭を抽出することによって得られる輪郭画像を取得し(ステップS103)、また、子午断面画像における異なる構造同士の境界を明瞭にして、内部構造画像を取得する(ステップS104)。 - 特許庁
The method includes a step of forming elongate structures 5 on the first substrate 3 so that first and second sections are formed in the elongate structure by changing respective material compositions of a plurality of elongate structures 7 along the lengthwise direction.例文帳に追加
複数の細長い構造体(7)の各々の物質組成がその長さ方向に沿って変化することにより、細長い構造体内において物理的に異なる第1および第2の部分が形成されるように、第1の基板(3)上に、細長い構造体(5)を形成する工程を含む。 - 特許庁
The method quantitatively determines the nature of the granular structure such as agglomeration degree by the following steps comprising a step to recognize the granular structure in the cell, a step to classify the granular structures by the size and a step to quantitatively calculate the nature such as agglomeration degree of the granular structure having a desired size among the classified granular structures.例文帳に追加
すなわち、以下の工程によって顆粒状構造物の凝集度などの性状を定量的に測定することを特徴とする方法を提供する:前記細胞に存在する顆粒状構造物を認識することと、前記顆粒状構造物をその大きさによって分類することと、前記分類した顆粒状構造物のうちの所望の大きさの顆粒状構造物の凝集度などの性状を定量的に算出すること。 - 特許庁
Since no etch step is required in forming the air gaps within the photo-patternable low k material, the methods disclosed in this invention provide highly reliable interconnect structures.例文帳に追加
光パターン化可能低k材料内部の空隙を形成するのに、エッチ・ステップを必要としないで、本発明において開示する方法は、高信頼性の相互接続構造体を提供する。 - 特許庁
In the first step, according to the structures of a soaking zone and a cooling device 1, a distance L between the finish position E of the soaking zone and a cooling starting position S in the cooling zone, is determined.例文帳に追加
(第1ステップ)均熱帯及び冷却装置1の構造に応じて、均熱帯の終了位置Eと冷却帯の冷却開始位置Sとの間の距離Lを決定。 - 特許庁
These structures are fabricated simultaneously with the step to form the photonic crystal structure, and consequently the lowering of the light quantity and the stray light are suppressed, and further are realized without cost increase.例文帳に追加
これらの構造はフォトニック結晶構造を形成する工程で同時に作製することができるので、光量の低下や迷光が抑えられ、かつ、コストアップも無く実現できる。 - 特許庁
An inspection object 11 (the dye-sensitized solar cell after an electrode formation step) includes a transparent substrate 21 and one or more cell structures 10 formed on the transparent substrate 21.例文帳に追加
検査対象物11(電極工程後の色素増感太陽電池)は、透明基板21と、透明基板21上に形成された(1又は複数の)セル構造体10とを含む。 - 特許庁
One of two substrates whose alignment layer step is already completed is selected and a plurality of closed isolation barrier structures provided with mutual exclusion properties with a liquid crystal are formed on the substrate.例文帳に追加
2枚の既に配光膜工程を完成した基板中の1枚の基板を選択し、その上に液晶との相互排斥特性を具えた複数のクローズ隔離壁構造を形成する。 - 特許庁
In the data structure concerned with the impact accuracy of one or more droplets discharged from a discharge head, the data has one or more hierarchical structures of Dot, Line, Cell and Grid depending on a discharge step from the discharge head.例文帳に追加
吐出ヘッドから吐出した1つ以上の液滴の着弾精度に関するデータの構造であって、そのデータが吐出ヘッドからの吐出工程に合わせた1つ以上の階層構造Dot,Line,Cell,Gridを有する。 - 特許庁
When a GaAs substrate is used as the compound semiconductor substrate 1, a small number of quantum dots 6 having diameters of 30-50 nm and heights of 5-15 nm are formed only on tops 3 of the step structures 2 by forming the tops 3 as GaAs (001) faces and inclined side faces 5 of the structures 2 as facet faces other than (001) faces.例文帳に追加
化合物半導体基板1としてGaAs基板を用いる場合、段差構造の頂上部3をGaAs(001)面、側面傾斜部5を(001)面以外のファセット面とすることにより、頂上部3にのみ、直径30〜50nm、高さ5〜15nmの量子ドット6を少数個形成する。 - 特許庁
A method for producing ma structures capable of removing an effective amount of one or more constituents from a solution includes the following steps: a step of preparing a resin material containing a phenyl group; a step of forming an acetyl group on the phenyl group; and a step of oxidizing the acetyl group via a one-step reaction including reacting a sulfoxide and an acid with the acetyl group to form a ketoaldehyde group.例文帳に追加
溶液から有効な量の1つ以上の成分を除去し得る、高分子構成物を生成する方法であって、該方法は、以下:フェニル基を含む樹脂材料を調製する工程;該フェニル基上でアセチル基を形成する工程;およびケトアルデヒド基を形成するために、スルホキシドおよび酸と、該アセチル基とを反応させる工程を含む、1段階の反応を介して、該アセチル基を酸化する工程;を包含する、方法。 - 特許庁
To provide a method for forming structures regularly arranged on a substrate in a two-dimensional manner without using a high-precision/high-performance/expensive processing device and without requiring a fine and complicated processing step.例文帳に追加
高精度・高性能・高額な処理装置を使用する必要がなく、かつ精細で複雑な処理工程を必要としないで、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法を提供する。 - 特許庁
Also, phase step structures are formed on both sides of a chromatic aberration compensating element, or formed on both sides of a convex lens constituting a beam expander, or formed on confronted surfaces of a concave lens constituting a collimator lens and a beam expander.例文帳に追加
また、位相ステップ構造は色収差補正素子の両面に形成、ビームエキスパンダを構成する凸レンズの両面に形成、又はコリメータレンズとビームエキスパンダを構成する凹レンズの対向する面に形成する。 - 特許庁
To a method for manufacturing a semiconductor device which can increase processing accuracy when a plurality of step structures are formed in an insulating layer and can reduce the number of processing steps.例文帳に追加
絶縁層中に複数の段差構造を形成する際の加工精度の向上を図るとともに、加工工程数を低減することが可能な半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁
A pair of structures for relative position measurement formed from the first conductor and the second conductor in laminated wiring is formed in a first conductor pattern forming step for forming first wiring and a portion of second wiring and in a second conductor pattern forming step for forming the second wiring, respectively, and an overlapping state of the structures formed in each forming process is optically detected.例文帳に追加
積層型配線において、前記第1導体、および前記第2導体から形成される相対位置測定用の一対の構造体を、それぞれ第1配線および第2配線の一部を構成する第1導体パターンの形成工程、および第2配線を構成する第2導体パターンの形成工程で形成し、各形成工程で形成される構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁
A method of isolating structures of a semiconductor material comprises a step of providing a pattern of the semiconductor material including at least one elevated line; a step of defining device regions which at least include at least one elevated line in the pattern; and a step of modifying the conductive properties of the semiconductor material outside the device regions so as to electrically isolate the device regions.例文帳に追加
半導体材料の構造分離方法は、少なくとも一つの高架線(elevated line)を含む半導体材料のパターンを設けるステップと、前記パターン内に前記少なくとも一つの高架線を少なくとも含むデバイス領域を画成するステップと、前記デバイス領域の外側の前記半導体材料の導電性を変化させ、前記デバイス領域を電気的に分離するステップとを含む。 - 特許庁
The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.例文帳に追加
エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ204、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ206及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ208を有する。 - 特許庁
The method includes a step where an initiator that is configured to shadow a portion 58 of a surface 34 of a substrate 36 is provided; and a step where a laser 30 is directed toward the surface 34 of the substrate 36 to effect ablation of a non-shadowed portion of the substrate, thus structures 66 are formed on the surface 34 of the substrate 36.例文帳に追加
基板36の表面34の一部58を保護するように構成されたイニシエータ56を準備するステップと、基板36の表面34にレーザー30を向けて、基板のうちの保護されていない部分の削磨を行い、基板36の表面34上に構造体66を形成するステップが方法には含まれる。 - 特許庁
This machine execution method for preparing a front end integral data structure indicating plural relational data bases having arbitrary structures comprises (a) a step for deciding each structure of plural relation data bases and (b) a step for preparing a front end integral data structure by integrating each structure of the plural relational data bases.例文帳に追加
本発明の方法は、任意の構造を有する複数のリレーショナルデータベースを表すフロントエンド統合データ構造を作成するマシン実行方法であって、(a)複数のリレーショナルデータベースの各構造を決定するステップと、(b)複数のリレーショナルデータベースの該各構造を統合してフロントエンド統合データ構造とするステップとを包含する。 - 特許庁
The first and second transparent substrates 11 and 12 are respectively formed with Fresnel lens structures 21 and 22 having a Fresnel lens surface in the shape of connecting the respective lens surfaces (a divided lens surface) divided in a concentric circle shape via a step height.例文帳に追加
第1および第2の透明基板11、12は、同心円状に分割された各レンズ面(分割レンズ面)が段差を介して接続された形状のフレネルレンズ面を有するフレネルレンズ構造21、22が、それぞれ形成されている。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a capacitance structure and a wiring structure exist in the same layer by simultaneously forming the capacitance and wiring structures in the same step, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加
キャパシタンス構造及び配線構造の形成を同じ工程で同時に行うことにより、キャパシタンス構造と配線構造が同一層に存在する、半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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