「sub-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The sub control part 402 displays patterns based on the game specification in accordance with the pattern information from the main control part 208, and in response to a signal inputted from the pattern switch 7, display of the representation patterns corresponding to the signal is changed by the sub-control part 402.例文帳に追加

副制御部４０２は、前記主制御部２０８からの図柄情報により遊技仕様に基づく図柄を表示すると共に、図柄図柄スイッチ７から入力された信号により該信号に対応した演出図柄の表示変更が副制御部４０２によりなされる。 - 特許庁

Recording dot pitch p in the main scanning direction is equalized to the recording dot pitch q in the sub-scanning direction, a shift dot pattern where the position of dots 35 is shifted by p/2 in the main scanning direction is generated between adjacent lines 31 in the sub-scanning direction, and print out is effected based on that shift dot pattern.例文帳に追加

主走査方向の記録ドットピッチｐと副走査方向の記録ドットピッチｑとを等しく定め、副走査方向で隣接するライン３１間ではドット３５の位置を主走査方向にｐ／２だけずらしたシフトドットパターンを生成し、そのシフトドットパターンに基づいて印字出力する。 - 特許庁

When a communication unit 2 performs communication processing, a light emission unit 4 is made to emit light in a pattern of light emission approaching a sub-display part 32 for termination/transmission processing and in a pattern of light emission leaving the sub-display part 32 for origination/transmission processing.例文帳に追加

通信部２により通信処理を行う際に、着・発信処理の場合には発光部４を副表示部３２に近づく方向に順次発光するパターンで発光させ、発・送信処理の場合には発光部４を副表示部３２から遠ざかる方向に順次発光するパターンで発光させる。 - 特許庁

When producing a mask 7 for correction exposure, first of all, a source pattern region 21 on a wafer 8 and a peripheral rear scattering region 22 thereof are divided into sub-fields 20, sufficiently smaller than the distribution radius of smaller of Gaussian distributions, and the area rate of a non-pattern part in each of sub-fields 20 is calculated.例文帳に追加

補正露光用マスク７の作製時には、まず、ウェハ８上の原パターン領域２１及びその周辺の後方散乱領域２２を、ガウス分布の小さい方の分布半径よりも十分小さいサブフィールド２０に区分し、各サブフィールド２０での非パターン部の面積率を算出する。 - 特許庁

A sub CPU (81) executes AT lottery based on a temporary stop display pattern, and when the temporarily stopped pattern displays symbols 7 along an AT determination line as the stop display pattern, and then, announces an internal winning symbol combination.例文帳に追加

サブＣＰＵ（８１）は、一時停止時の停止出目に基づいてＡＴ抽籤を行い、一時停止時の停止出目がＡＴ判定ラインに沿って７図柄が表示されている場合にはＡＴ抽籤に当籤とし、その後、内部当籤役の報知を行う。 - 特許庁

When pattern variations are performed a prescribed number of times (100 times in this embodiment), a sub integration controller 83 receives a probability variation report command from a main controller 80 by a processing of S430 in the case of the previous jackpot pattern is a probability variation pattern.例文帳に追加

図柄変動が所定回数行われると（本実施例では１００回）前回の大当り図柄が確変の図柄であった場合はＳ４３０の処理によりサブ統合制御装置８３は主制御装置８０から確変報知コマンドを受信する。 - 特許庁

When the feeding amount of a medium, fed with a feeding mechanism after the correction pattern is formed on the medium with an discharge head, reaches a predetermined amount, a reading means reads each sub-pattern provided on the correction pattern.例文帳に追加

吐出ヘッドにより補正用パターンを媒体に形成した後の送り機構により送られた媒体の送り量が所定量に達した際に、読取手段により補正用パターンに備えられた各々のサブパターンを読み取ることを特徴とする。 - 特許庁

In the color image forming apparatus, regarding a pattern for detecting the positional deviation in sub scanning and main scanning directions, the pattern is arranged at a pattern interval corresponding to a velocity difference between the surface velocity of each color drum and a carrying velocity of a transfer body such as a carrying belt.例文帳に追加

副走査、主走査方向の位置ずれ検出パターンにおいて、各色のドラムの表面速度と搬送ベルトなどの転写体の搬送速度との速度差に応じたパターン間隔で配置することを特徴とするカラー画像形成装置。 - 特許庁

When the rotational speed of the polygon mirror is fine-adjusted to correct a magnification in the sub-scanning direction Z, a screen pattern 80 used as image formation means is changed to a screen pattern in which interference is hard to generate against a displacement of a beam in the sub-scanning direction Z, for example, a screen pattern which has a large angle of a straight line D1 to the main scanning direction Y.例文帳に追加

副走査方向Ｚの倍率を補正するために、ポリゴンミラーの回転速度を微調整する際に、画像形成手段として用いられているスクリーンパターン８０をビームの副走査方向Ｚのずれ量に対して干渉が発生しにくいもの、例えば、直線Ｄ１の主走査方向Ｙとのなす角度が大きいスクリーンパターンに変更する。 - 特許庁

The circumferential length L of a secondary transfer roller 119, the repeating interval P of a drum clearance-correcting pattern 412 to be repeatedly drawn, a maximum value p_max of sub-scanning directional width of lines included in the pattern and a minimum value g_min of sub-scanning directional clearance of adjacent lines in the pattern satisfy the relation of p_max≤|P-L|≤g_min.例文帳に追加

２次転写ローラ１１９の周長Ｌと、繰り返し描画されるドラム間隔補正用パターン４１２の繰り返し間隔Ｐと、パターンに含まれる線の副走査方向の幅の最大値ｐ_ｍａｘと、パターンにおいて隣接する線の副走査方向の間隔の最小値ｇ_ｍｉｎとが、ｐ_ｍａｘ≦｜Ｐ−Ｌ｜≦ｇ_ｍｉｎの関係を満たすことを特徴とする。 - 特許庁

The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.例文帳に追加

レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁

A display condition pattern setting means is provided for combining and setting the display condition patterns to be displayed on the display screen of a picture pattern display device 7 with a main controller 28 and a sub-controller 29.例文帳に追加

図柄表示装置７の表示画面で表示される表示態様パターンを、メイン制御装置２８とサブ制御装置２９とにより組合せ設定する表示態様パターン設定手段を備える。 - 特許庁

The movement of the game machine is distributedly controlled by the main control board 100, a sub control board 300 or others, a pattern displaying LED 380 showing the pattern during game is directly controlled.例文帳に追加

遊技機の動作を、主制御基板１００、サブ制御基板３００等によって分散制御するとともに、遊技中の図柄を表示する図柄表示ＬＥＤ３８０を直接制御する。 - 特許庁

The general CPU 37a generates and outputs a second variation pattern specifying command, and the sub CPU 33a generates and outputs normal performance data on the basis of the second variation pattern specifying command.例文帳に追加

統括ＣＰＵ３７ａは、第２の変動パターン指定コマンドを生成して出力し、サブＣＰＵ３３ａは、第２の変動パターン指定コマンドに基づいて通常演出データを生成して出力する。 - 特許庁

In this test pattern dots are regularly lined in a main scanning direction and a sub scanning direction, thereby the test pattern is viewed in a uniform condition without unevenness in density when printing in suitable recording timing.例文帳に追加

このテストパターンは、主走査方向および副走査方向に規則正しくドットが並んでいるため、適正な記録タイミングで印刷された場合には、濃淡のムラのない一様な状態として目視される。 - 特許庁

To provide a game machine with which performance by related operation can be performed based on an operation pattern by surely selecting the related operation pattern by each sub control means.例文帳に追加

各サブ制御手段が関連する動作パターンをより確実に選択することができ、該動作パターンに基づいて関連付けられた動作による演出を行うことができる遊技機を提供することにある。 - 特許庁

A line width detection unit 18 detects a line width of main scanning direction and a line width of sub scanning direction for a line width detection pattern, respectively, based on input image data from a pattern detection portion 16.例文帳に追加

線幅検出部１８は、パターン検出部１６からの入力画像データに基づいて、線幅検出パターンの主走査方向の線幅および副走査方向の線幅をそれぞれ検出する。 - 特許庁

In chance time 2 (a performance mode M2), limitation is applied by a sub-CPU to performing of the previous notice of jackpot based on the previous notice pattern YA in a game of a pattern combination to be lost and to be non-probability variable jackpot.例文帳に追加

また、チャンスタイム２（演出モードＭ２）では、サブＣＰＵは、はずれ及び非確変大当りとなる図柄組み合わせゲームでの予告パターンＹＡに基づく大当り予告の実行を規制する。 - 特許庁

As for a set pattern image Q1 recorded on the recording paper, the center of each sub pattern C1, M1 and Y1 is deviated from a reference straight line H linking between the centers of respective main patterns K1 and K1' in a subscanning direction.例文帳に追加

記録用紙上に記録されたセットパターン画像Ｑ1 においては、各主パターンＫ1 ，Ｋ1'の中心を結ぶ基準直線Ｈから各副パターンＣ1 ，Ｍ1 ，Ｙ1 の中心が副走査方向にズレている。 - 特許庁

To provide a game machine in which the patterns of variable display for making a player expect the imparting of game values can be increased in the variable display using a main pattern and a sub pattern.例文帳に追加

主図柄と副図柄とを用いた変動表示において遊技者に遊技価値の付与を期待させる変動表示のパターンを増加することができる遊技機を提供することを目的としている。 - 特許庁

A sub light scattering pattern 21 consists of two spot-shape patterns 21a and 21b, provided while being separated in a cross direction at a position deviated from the center line of a main light scattering pattern in the longitudinal direction.例文帳に追加

副光散乱パターン２１は、前記主光散乱パターン１１の長手方向の中心線から外れた位置で、幅方向に離間して設けられた２つのスポット状パターン２１ａ，２１ａからなる。 - 特許庁

To allow a second base station to calculate an appropriate value indicating the usage situation of a protection sub-frame group in the second base station in a communication system in which a protection sub-frame group is set in a first base station, and the second base station is notified of pattern information indicating the protection sub-frame group.例文帳に追加

第１の基地局で保護サブフレーム群が設定され、保護サブフレーム群を示すパターン情報が、第２の基地局に通知される通信システムにおいて、第２の基地局が、第２の基地局での保護サブフレーム群の使用状況を示す適切な値を算出する。 - 特許庁

A pattern drawing device 1 changes inspection priorities (parameter i) of a plurality of sub-areas included in the mask on the basis of inspection results while inspecting respective sub-areas in accordance with priorities.例文帳に追加

本実施形態のパターン描画装置１は、マスク中に含まれる複数のサブ領域を優先順位に従って検査しつつ、その検査結果に基づいて各サブ領域の検査の優先順位（パラメータｉ）を変更する。 - 特許庁

Pits or the like are displaced in the direction of an inner periphery and an outer periphery of an optical disk and sub-data such as key data are recorded, and the sub-data are recorded based on a synchronous pattern of main data recorded by the pit or the like.例文帳に追加

本発明は、光ディスクの内外周方向にピット等を変位させてキーデータ等の副のデータを記録するようにして、ピット等により記録する主のデータの同期パターンを基準にして、副のデータを記録する。 - 特許庁

The primary side coil pattern includes a first sub-coil 51a wound around the through-hole 31 in a first direction and a second sub-coil 51b wound around the through-hole 32 in a second direction opposite to the first direction.例文帳に追加

１次側コイルパターンは、貫通穴３１の周りに第１方向に巻回された第１サブコイル５１ａと、貫通穴３２の周りに、第１方向とは反対の第２方向に巻回された第２サブコイル５１ｂとを有する。 - 特許庁

More specifically, the sub vernier 104 is formed on the sub vernier pad 103 formed in the inside region of the main vernier 101 so that the level difference of the main vernier pattern formed on the scribe region of the semiconductor substrate 100 is eliminated.例文帳に追加

すなわち、親バーニア１０１の内側領域に形成した子バーニアパッド１０３上に子バーニア１０４を形成することで、半導体基板１００のスクライブ領域に形成された親バーニアパターンの段差をなくす。 - 特許庁

For example, one pixel by the first pixel arrangement pattern is composed of the combination of two sub-pixels on the n-th horizontal pixel line and one sub-pixel on the (n+1)-th horizontal pixel line.例文帳に追加

例えば第１の画素配列パターンによる１つの画素を、第ｎ番目の水平画素ライン上の２つのサブピクセルと、第ｎ＋１番目の水平画素ライン上の１つのサブピクセルとの組み合わせにより構成する。 - 特許庁

The sub CPU 33a makes the liquid crystal type pattern display device 18 put on a reduced performance on the basis of the reduced performance data changed.例文帳に追加

サブＣＰＵ３３ａは、変更された短縮演出データに基づいて、短縮演出を液晶式図柄表示装置１８に実行させる。 - 特許庁

This pachinko game machine 10 is provided with a pattern display device 18, a main CPU 31a for deciding the propriety of ready-to-win performance execution, and a sub CPU 33a.例文帳に追加

このパチンコ機１０は、図柄表示装置１８、リーチ演出実行可否判定を行うメインＣＰＵ３１ａ、サブＣＰＵ３３ａを備える。 - 特許庁

Furthermore, peaks of switching noise at a frequency of switching frequency in a harmonic wave category can be sufficiently diffused by the sub diffusion pattern.例文帳に追加

さらに、サブ拡散パターンによって、スイッチング周波数の高調波に当たる周波数におけるスイッチングノイズのピークを十分に拡散できる。 - 特許庁

In a lithographic device manufacturing method, sub-resolution assist features are provided to equalize the intensities of the diffraction orders that form the image of the pattern on a substrate.例文帳に追加

リソグラフィデバイス製造方法で、解像度以下のアシストフィーチャを設けて、基板上にパターンの像を形成する回折次数の強度を等化する。 - 特許庁

Thus, the overcoat layer, photospacer and sub photospacer are not pattern-formed separately and successively, but are collectively formed, thereby the number of processes being reduced.例文帳に追加

これにより、オーバーコート層とフォトスペーサとサブフォトスペーサとを、順次別個にパターン形成するのではなく一括形成し、工程数を削減する。 - 特許庁

The pattern is then changed to a shape like (b) according to the optical unsharpness rates B1 and B2 on both sides of the boundary 12 of the sub-fields, where B1<B2.例文帳に追加

そして、サブフィールドの境界１２の両側の光学的なボケ量Ｂ１とＢ２に応じて、（ｂ）のような形状にパターンを変更する。 - 特許庁

The general CPU outputs a preview content pattern specification command specifying the determined continuous preview content patterns A and B to respective sub CPUs.例文帳に追加

そして、統括ＣＰＵは、決定した連続予告内容パターンＡ，Ｂを指定する予告内容パターン指定コマンドを各サブＣＰＵに出力する。 - 特許庁

A drawing pattern of the first touch pen 41 is set by a user who touches a sub-operation panel 42 arranged on the left of the main image plane 31.例文帳に追加

第１のタッチペン４１の描画パターンは、利用者がメイン画面３１の左に配置されたサブ操作パネル４２に触れることで設定される。 - 特許庁

A first interlayer insulating film IL1 is formed to cover an underlying pattern layer formed on the main surface of a semiconductor substrate SUB.例文帳に追加

半導体基板ＳＵＢの主表面に形成された下地パターン層を覆うように第１の層間絶縁膜ＩＬ１が形成されている。 - 特許庁

The sub CPU 33a makes the liquid crystal type pattern display device 18 execute shortened performance on the basis of the changed shortened performance data.例文帳に追加

サブＣＰＵ３３ａは、変更された短縮演出データに基づいて、短縮演出を液晶式図柄表示装置１８に実行させる。 - 特許庁

As a result, a main light-distribution pattern MP with a cut-off line CL and sub light-distribution patterns SP1, SP2 of a beam-convergent type can be obtained.例文帳に追加

この結果、カットオフラインＣＬを有するメイン配光パターンＭＰと集光タイプのサブ配光パターンＳＰ１、ＳＰ２とを得ることができる。 - 特許庁

The sub CPU controls the ornament pattern display device 21 to display a symbol combination by the ornament patterns according to specific patterns.例文帳に追加

そして、サブＣＰＵは、特別図柄に応じた飾り図柄による図柄組み合わせを表示させるように飾り図柄表示器２１を制御する。 - 特許庁

The received sub integration controller 83 instructs a performance pattern controller 82 to report and display that it is the probability variation as shown in (c).例文帳に追加

受信したサブ統合制御装置８３は（ｃ）に示すように確変であることを報知表示するよう演出図柄制御装置８２に指示する。 - 特許庁

A specified circuit pattern is previously formed on a sub-substrate 1, and an electronic component is mounted on a surface to constitute one functional component as a module.例文帳に追加

副基板１は、所定の回路パターンを形成してあって、電子部品を表面実装することでモジュール化した一つの機能部品になる。 - 特許庁

Furthermore, when the pattern stopped and displayed on the sub display 17 is a lucky number ("3", "7", e.g.) decided in advance, the player can continue the game without replacing balls.例文帳に追加

一定期間内に遊技者が入力ボタン１８を押操作すると、その押操作のタイミングに基づいてサブ表示器１７の図柄が停止する。 - 特許庁

The SAP is included in a mask layout for efficient self-alignment of various sub-layouts of a target pattern in a multi-patterning lithography process.例文帳に追加

ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。 - 特許庁

A pachinko game machine 10 is provided with a general CPU 37a, a sub CPU 33a, a liquid crystal type pattern display device 18 and a shortening switch SW1.例文帳に追加

パチンコ機１０は、統括ＣＰＵ３７ａ、サブＣＰＵ３３ａ、液晶式図柄表示装置１８及び短縮スイッチＳＷ１を備えている。 - 特許庁

A plurality of pixel templates of the edge pattern and pixels within the sub-area of the digital image are rolled in to provide a plurality of template location metrics.例文帳に追加

エッジパターンの複数の画素テンプレート及びデジタルイメージのサブエリア内の画素が巻き込まれて、複数のテンプレート配置メトリックが提供される。 - 特許庁