「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a ZnO-based substrate having a surface suitable for crystal growth, and to provide a method for processing the ZnO-based substrate.例文帳に追加

結晶成長に適した表面を有するＺｎＯ系基板及びＺｎＯ系基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

A particularly excellent processing-part corrosion resistance can be obtained by a compound action of the surface treatment film of the lower layer and the upper layer film.例文帳に追加

下層の表面処理皮膜と上層皮膜との複合作用により、特に優れた加工部耐食性が得られる。 - 特許庁

To perform unsharp mask processing which suppresses feeling of a surface roughness of an image by presence of pixel of a high degree of an isolated point.例文帳に追加

孤立点度合いの高い画素の存在による画像のざらつき感を抑制したアンシャープマスク処理を行なう。 - 特許庁

To provide a new semiconductor packaging technique which can realize thinning without depending on a rear surface processing for a silicon wafer.例文帳に追加

シリコンウェーハの裏面加工に頼らずに薄型化が実現できる、新たな半導体実装技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a post-processing technology that prevents degradation in the gloss of the back of a recording medium, while gloss-imparting the surface of it.例文帳に追加

記録媒体の表面に光沢を付与しながらその裏面の光沢を損なわない後処理技術を提供する。 - 特許庁

To prevent the surface color of a woody base material 11 from appearing to the circumference in a decorative sheet subjected to chamfering processing.例文帳に追加

面取り加工した化粧板において、周囲に木質系基材１１の表面色が現れるのを防止する。 - 特許庁

The reversed substrate W is carried into substrate chemical processing sections 31-34 while directing the surface downward.例文帳に追加

この上下反転されて表面が下方に向けられた基板Ｗが基板薬液処理部３１〜３４に搬入される。 - 特許庁

The sheet processing device has a fine-particle supply device 4 which attaches the fine particles P to the uneven surface S of the sheet 1.例文帳に追加

シート１の凹凸表面Ｓに微粒子Ｐを付着させる微粒子供給装置４を備えたシート処理装置。 - 特許庁

To provide a substrate processing system for preventing formation of a natural oxide film on the surface of the substrate and for realizing higher throughput.例文帳に追加

基板表面における自然酸化膜形成を防止し、且つ高スループット化が可能な基板処理システムを提供する。 - 特許庁

Further, the precision quality of the molded article is also enhanced by adjusting the temperature at the time of processing of the molding transfer surface of the core.例文帳に追加

また、コアの成形転写面の加工時の温度を調整することで、成形品の精度品質も向上する。 - 特許庁

As a result of this process, the unwanted base film adhered to the side and back surface portions of the body for processing, is removed effectively.例文帳に追加

これにより、被処理体の側面部分や裏面部分に付着する不要な下地膜を効率的に除去する。 - 特許庁

To provide a stereoscopic image display device and a stereoscopic image display system that can display a stereoscopic image subjected to hidden surface erasure processing with respect to an optional direction of a screen.例文帳に追加

スクリーンの任意の方向に対して隠面消去処理の施された立体画像の表示を行うこと。 - 特許庁

The shock resistance is obtained by forming a compressive stress layer on the surface of the wafer supporting glass by chemical strengthening processing.例文帳に追加

耐衝撃性は化学強化処理によりウエハ支持ガラスの表面に圧縮応力層を形成することが好ましい。 - 特許庁

Carburization processing is applied to the nut 5, and a carburization layer is formed in a surface layer part of the screw groove 5a.例文帳に追加

そして、ナット５には浸炭処理が施されており、ねじ溝５ａの表層部には浸炭層が形成されている。 - 特許庁

Then, it forms the dotlike processing mark on the image and also conducts a cutout of the surface of the workpiece WK.例文帳に追加

そして、その画像上に点状の加工痕を形成するとともに、ワークＷＫの表面の切り抜き加工を行う。 - 特許庁

A crushed stone layer B is formed by performing the rolling processing on an upper surface 40 by laying crushed stones 4 on the improved ground A.例文帳に追加

前記改良地盤Ａの上に、砕石４を敷き込み、上面４０を転圧処理して砕石層Ｂを形成する。 - 特許庁

Then, it is desirable that the surface of the heat radiation plate (5) includes a silicon oxide film (6) formed by the Itro processing.例文帳に追加

そして，放熱板（５）の表面は，イトロ処理により形成された酸化ケイ素被膜（６）を有するものが好ましい。 - 特許庁

To provide a vehicular headlight capable of effectively utilizing a whole surface of a reflector and facilitating processing of a molding die used for the reflector.例文帳に追加

リフレクタの反射面を全面に亘り有効に利用するとともに、リフレクタ用の成形型の加工を容易にする。 - 特許庁

To stably detect a wheel stop CH by image processing even if a luminance difference between the wheel stop CH and a road surface RS is small.例文帳に追加

輪止ＣＨと路面ＲＳとの輝度差が小さくても、画像処理により輪止を安定して検出すること。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING TOOL OF LONG MATERIAL, AUXILIARY TOOL THEREOF, AND METHOD FOR FORMING THIN FILM ON BOTH SURFACES OF LONG MATERIAL例文帳に追加

長尺材料の表面処理用治具、該冶具の補助具及び長尺材料の両面に薄膜を形成する方法 - 特許庁

The maximum height (Rmax) of the surface roughness of the processing material made of the fluoropolymer is preferably 500 nm or below.例文帳に追加

フッ素系ポリマー製加工材の表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が、５００ｎｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

After that, HSG grains 58a are formed in the front surface by processing a silicon atom in migration by an HSG treatment (Fig.(E)).例文帳に追加

その後、ＨＳＧ化処理によりシリコン原子をマイグレーションさせて表面にＨＳＧ粒５８aを形成する（図１（Ｅ））。 - 特許庁

SURFACE EMITTING SEMICONDUCTOR LASER, OPTICAL TRANSCEIVING MODULE USING THE LASER, AND PARALLEL INFORMATION PROCESSING UNIT USING THE LASER例文帳に追加

面発光半導体レーザ、当該レーザを用いた光送受信モジュール及び当該レーザを用いた並列情報処理装置 - 特許庁

The surface of the fastener is subjected to different unevenness processing, and the unevenness has different coefficients of friction vertically, horizontally, or the like.例文帳に追加

留め具の表面は異なる凹凸の加工がされていてその凹凸は上下や左右でなどで摩擦係数が異なる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER PROTECTION FILM, METHOD FOR PROTECTING SEMICONDUCTOR WAFER SURFACE, AND METHOD FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFER USING THE SAME例文帳に追加

半導体ウエハの保護膜、ならびにそれを用いる半導体ウエハ表面の保護方法および半導体ウエハの加工方法 - 特許庁

The substrate 1 is subjected to thermal processing in a nitrogen atmosphere to form an SiN layer 18 on the surface of the electrode 4.例文帳に追加

窒素雰囲気中で半導体基板１を熱処理し、ゲート電極４の表面にＳｉＮ層１８を形成する。 - 特許庁

On the surface of the golf club head 1, the face line 10 as a recess part, the number indication 11, and logo marks 12, 13, are formed with a laser processing machine.例文帳に追加

レーザー加工機を用いてゴルフクラブヘッド１の表面に凹部としてフェースライン10、番手表示11、ロゴマーク12，13を形成した。 - 特許庁

To smoothen the surface roughness of the seal slidable contact surfaces by an inexpensive means without increasing the number of processing steps.例文帳に追加

加工工程を増加させることなく、安価な手段でシール摺接面の表面粗さを滑らかにすることである。 - 特許庁

Then, the impurity in the dopant liquid is made to diffuse in the p-type substrate 21, through the substrate surface by thermal processing.例文帳に追加

その後、熱処理を行ってドーパント液内の不純物を基板表面を通じてＰ型基板２１内に拡散させる。 - 特許庁

At last, this antenna can be soldered on a printed circuit board with the other components by conventional surface mounting processing.例文帳に追加

最後に、このアンテナは、従来の表面実装処理によって、他の部品と共に、プリント基板上にはんだ付けされ得る。 - 特許庁

To suppress variations in heat processing temperatures in substrate surfaces and uniformize line widths of wiring patterns in the substrate surface.例文帳に追加

基板面内での熱処理温度のばらつきを抑制し、基板面内における配線パターンの線幅を均一化する。 - 特許庁

Electrolytic plating surface-layers NM are formed to every metal terminal pads PD1, PD2 by the electrolytic plating processing.例文帳に追加

そして電解メッキ処理を行い、各金属端子パッドＰＤ１，ＰＤ２に電解メッキ表面層ＮＭを形成する。 - 特許庁

A magnetostrictive steering torque sensor is equipped with magnetostrictive film 12 on the surface of a steering shaft 11 formed by plating processing.例文帳に追加

磁歪式の操舵トルクセンサは、ステアリングシャフト１１の表面にメッキ処理により形成した磁歪膜１２を備える。 - 特許庁

LUBRICATED STEEL PANEL EXCELLENT IN MOLD GALLING RESISTANCE AND CONTINUOUS MOLDABILITY IN HIGH SURFACE PRESSURE/STRONG IRONING PROCESSING, AND MOLDING METHOD THEREFOR例文帳に追加

高面圧強しごき加工での耐型カジリ性、連続成形性に優れた潤滑処理鋼板およびその成形方法 - 特許庁

The signal processing IC 10 is formed with an integrated circuit and electrodes on a first surface 11A of a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

信号処理ＩＣ１０は、半導体基板１１の第１の面１１Ａに集積回路と電極とが形成されている。 - 特許庁

To achieve a manufacturing method for restraining sagging of a torque receiving surface 19a of a groove part 17a formed by coining processing.例文帳に追加

コイニング加工により形成する、溝部１７ａのトルク受面１９ａのダレを抑えられる製造方法を実現する。 - 特許庁

Fine particles of photocatalyst apatite are uniformly stuck to the surface and inside of the knitted fabric by a photocatalyst processing.例文帳に追加

光触媒加工を施し、ニット編布地の表面及び内部に光触媒アパタイトの微粒子を均一に付着させた。 - 特許庁

Fusuma-size torinoko paper with suminagashi processing (staining method by which Sumi or a pigment is dropped onto water surface, and the appearing pattern is transferred to paper or cloth) was favorably received and even exported around 1897. 例文帳に追加

明治30年（1897年）ころには襖判鳥の子紙に、墨流し加工して好評を得て、輸出までしている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Coating (non-stick processing) is applied by baking tetrafluorethylene to the inner surface of a cover C1 for a main shaft M by a well-known method.例文帳に追加

主軸ＭのカバーＣ_1 の内面に、公知の方法により、四フッ化エチレンを焼き付けてコーティング（テフロン加工）する。 - 特許庁

Disclosed is a beam processing apparatus that processes a layer to be processed 3 formed on one surface of a substrate 2, while irradiating the same with a beam.例文帳に追加

基板２の一方の面に形成された被加工層３にビームを照射して加工するビーム加工装置である。 - 特許庁

The second step includes a step of performing shot blast processing on the surface of the carbon film formed by the first step.例文帳に追加

第２工程は、第１工程によって形成された炭素膜の表面にショットブラスト処理を行う工程である。 - 特許庁

The upper surface of the stage body 21 of the stage 20 of the normal-pressure plasma processing apparatus M is assumed to be a substrate installation face made of metal.例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置Ｍのステージ２０のステージ本体２１の上面を金属からなる基板設置面とする。 - 特許庁

To provide the technology of information processing for generating a tool orbit by using an aiming surface while preventing tool interference.例文帳に追加

工具干渉を避けながらエーミング面を使用して工具軌跡を生成するという情報処理の技術を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material having good processing stability and a stable low surface resistivity.例文帳に追加

処理安定性が良好で、かつ表面抵抗率が低く安定であるハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

The effective region 23 has a sectorial moving trajectory to give processing effects on the whole surface of the substrate 10.例文帳に追加

実効領域２３は、扇状の移動軌跡を有することにより、基板１０表面全域に処理の影響を及ぼす。 - 特許庁