「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

Resolution is raised so that the resolution of the inputted YUV color system data becomes equivalent to printing resolution, in this case, a curved surface interpolation processing is performed for a Y plane, a linear interpolation processing is performed for a U plane and a closest processing is performed for a V plane by the image processing part 15.例文帳に追加

画像処理部１５は、入力されたYUV表色系データの解像度が印刷解像度と等しくなるように解像度を上げ、その際に、Ｙプレーンについては曲面補間処理を行い、Ｕプレーンについては直線補間処理を行い、Ｖプレーンについては最近傍処理を行う。 - 特許庁

An upper part of the carrier conveyor 43 is provided with a supply port 33 for supplying the processing object, and a carrying supply mechanism 34 for dropping the processing object on an upper surface of the carrier conveyor 43 while carrying the processing object by receiving the processing object supplied from the supply port 33.例文帳に追加

そして，搬送コンベア４３の上方に，被処理物を供給する供給口３３と，供給口３３から供給される被処理物を受け取り，被処理物を搬送しながら搬送コンベア４３の上面に落下させる搬送供給機構３４とを備えた。 - 特許庁

To improve uneven image characteristics of circumferential and central parts of a surface of a mask material for exposure while using small processing tanks in a method in which a mask material for exposure is held in the nearly vertical direction and sequentially immersed in processing solutions in processing tanks to advance processing.例文帳に追加

露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、小さな処理槽を用いながらも露光用マスク材料面の周辺部と中心部との画像特性の不均一を改善することである。 - 特許庁

To provide a wet processing device and a wet processing method for suppressing galvanic corrosion in a conductive member formed on the surface of a workpiece and removing nano-level particles in a sheet type wet processing feeding processing liquid while rotating the workpiece.例文帳に追加

被処理物を回転させながら処理液を供給する枚葉式ウエット処理において、被処理物表面に形成された導電性部材のガルバニックコロージョンを抑制可能であり、更には、ナノレベルのパーティクルをも除去することが可能なウエット処理装置及びウエット処理方法を提案する。 - 特許庁

To well dry a substrate surface while preventing a watermark from occurring on the substrate surface in an apparatus and a method of processing the substrate for drying the substrate surface wetted with a process liquid by means of a solvent with low surface tension such as IPA.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生するのを防止しながら基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To provide a processing method of the inner surface of a cylindrical bearing where the inner surface is formed of a resin layer composed mainly of synthetic resin, capable of improving the roughness of the inner surface to increase the dimensional accuracy of the inside diameter without cutting the inner surface of the bearing.例文帳に追加

内面に合成樹脂を主体とした樹脂層を有し円筒状に構成された軸受の内面を加工する場合において、軸受の内面を切削加工することなく、その内面の粗さを改善できると共に、内径の寸法精度を向上させる。 - 特許庁

The rod lens 30 is once subjected to diagonal surface processing to previously provide one cut surface 30a of the rod lens with a diagonal angle θ_1 of one end face of the rod lens with respect to its optical axis and to provide the other cut surface 30b with a diagonal angle θ_2 based on the cut surface 30a.例文帳に追加

レンズブロック３０の一方の切断面３０ａに光軸に対して、ロッドレンズの一端面の斜め角度θ_1をつけておき、切断面３０ａを基準に、その他方の切断面３０ｂに斜め角度θ_2をつける斜め面加工を１回行なう。 - 特許庁

Based on the inclination angle thus detected, an image processing section 17 corrects inclination of the image data acquired by reading the lower surface of the draft at the lower surface reading section 15, and corrects inclination of the image data acquired by reading the upper surface of the draft at the upper surface reading section 14.例文帳に追加

画像処理部１７は、検出した斜行角度に基づいて、下面読取部１５が原稿の下面を読み取って取得した画像データの傾斜を補正し、上面読取部１４が原稿の上面を読み取って取得した画像データの傾斜を補正する。 - 特許庁

To provide a solid processing agent which improves deliquescence and surface tackiness due to moisture absorption in a solid processing agent using a thiosulfate and suppresses swelling and the lowering of hardness due to moisture absorption particularly in a tablet type processing agent.例文帳に追加

チオ硫酸塩を使った固体処理剤において、吸湿による潮解やべとつきを改善するとともに、特に錠剤型処理剤において吸湿による膨潤や硬度劣化を低減した固体処理剤を提供する。 - 特許庁

To improve process quality and yield by suppressing heat radiation from a furnace port in the processing furnace, and improving uniformity of temperature distribution within the substrate surface simultaneously with increase of uniform temperature length in the processing chamber in the substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板処理装置に於いて、処理炉に於ける炉口部からの放熱を抑制し、処理室の均熱長を増大させると共に基板面内の温度分布の均一性を向上して、処理品質、歩留りの向上を図る。 - 特許庁

To improve the register accuracy in the top and bottom direction of a plate by mounting the whole plate in close contact with the outer peripheral surface of a counter cylinder, and to improve the processing quality by uniformly performing processing of a processing cylinder.例文帳に追加

プレート全体をカウンタ胴の外周面に密着させて装着することにより、プレートの天地方向における見当精度を向上させるとともに処理胴による処理を均一に行わせ処理品質を向上させる。 - 特許庁

To provide a polishing slurry having excellent processing properties particularly effective in improving processing rates and finished surface roughness in processing a hard disk glass substrate; and a lubricating fluid composition for polishing for preparing the polishing slurry.例文帳に追加

ハードディスクガラス基板の加工において、特に加工レート及び仕上げ面粗さの向上に有効な加工特性に優れた研磨スラリー並びに当該研磨スラリーを調製するための研磨用潤滑液組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous type kiln capable of cooling processing in a short time, without causing partial warping and deformation in a processing object, by efficiently cooling the whole surface of the processing object such as a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板等の処理対象物の全面を効率よく冷却できるようにし、処理対象物に部分的な反りや変形を生じることなく冷却処理の短時間化を実現できる連続式焼成炉を提供する。 - 特許庁

A substrate conveying mechanism 3 conveys the substrate subjected to water cleaning processing by being dipped in pure water in a processing chamber equipped on a cleaning processing unit 1 in a state where a water film adheres on the surface of the substrate.例文帳に追加

洗浄処理ユニット１に装備された処理槽内の純水中に浸漬されることで水洗処理された基板は、その表面に水膜を付着させた状態で基板搬送機構３によりスピン処理ユニット２に搬送される。 - 特許庁

To provide a surface processing method and processing device of a specimen operating element, which can selectively perform hydrophilic processing on a required area in an operation structure, to the specimen operating element configured by a substrate and a sheet member.例文帳に追加

基板とシート部材とによって構成される試料操作素子に対し、その操作構造での所望の領域を選択的に親水化処理することが可能な試料操作素子の表面処理方法、及び処理装置を提供する。 - 特許庁

To shorten the entire processing time of a mold by shortening the processing time of the mold cavity to be formed on a mold surface by processing a mold material.例文帳に追加

金型材料を加工して金型面に形成される金型キャビティ４の加工時間を短くし得て金型の全体的な加工時間を短くすることができる電子部品の樹脂封止成形用金型の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing apparatus and a processing method for a substrate wherein even when uneven brightness or the like occurs on the surface of a resist in scan application of the resist, the uneven brightness or the like can be made flat, and hence the thickness of an applied film of a processing solution such as the resist can also be made uniform.例文帳に追加

レジストのスキャン塗布において、筋ムラ等が発生した場合でもそれを平坦化し、レジスト等の処理液の塗布膜厚を均一にすることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The control method for the image reader 100 executes automatic focus processing where a surface of a medium 300 is focused and read processing for reading the image of the medium 300 at a focus focused by the automatic focus processing.例文帳に追加

画像読取装置１００の制御方法は、媒体３００の表面に焦点を合わせるオートフォーカス処理と、オートフォーカス処理において焦点合わせされた焦点で媒体３００上の画像を読み取る読取処理とを実行する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing apparatus for removing oxides formed on the front surface of a metal material at the temperature not giving any damage on a metal material of the base material, or an area near the metal material using the processing gas including vapor.例文帳に追加

水蒸気を含む処理ガスを用いて、下地の金属やその近傍の部位にダメージを与えない温度で金属の表面に形成された酸化物を除去することができる処理方法および処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of uniforming a processing state on the surface of a substrate during vacuum drying processing, and capable of preventing the generation of peeling charge when the substrate is separated from a substrate holding plate.例文帳に追加

減圧乾燥処理時における基板表面の処理状態を均一化することができ、かつ、基板保持プレートから基板を引き離すときに剥離帯電の発生を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Since blast processing is applied to the resonance element 21 to obtain a required Qu value by surface scratching processing while the resonance element 21 is held in the sample holder 32, the processing of the resonance element 21 is progressed while the Qu is measured.例文帳に追加

共振素子２１がサンプルホルダ３２に保持されている状態で、所要のＱｕ値を得るための表面キズ付け加工をブラスト加工によって行うことができるため、Ｑｕ値を測定しながら加工を進めることができる。 - 特許庁

When this allocating processing is completed, the prescribed number of business cards are successively carried into a coating part 8 and a printing part 7 and processing of coating to the surface of the business card and processing for printing the face picture on the allocated blank area are executed.例文帳に追加

この割付け処理が完了すると、所定数の名刺が順次、コーティング部８および印刷部７に搬入され、名刺表面へのコーティング処理と、割り付けられた余白領域に顔写真を印刷する処理とが実施される。 - 特許庁

A fibrillation processing device of a non-coating print sheet comprises a means which gives sliding friction to a surface to be printed of a non-coating print sheet and carries out a fibrillation processing, and a printing apparatus equipped with the processing device is also disclosed.例文帳に追加

非塗工印刷用紙の印刷しようとする面に摺動摩擦を与えてフィブリル化処理する手段を備えてなる、非塗工印刷用紙のフィブリル化処理装置、及び、この処理装置を備えた印刷装置も提供される。 - 特許庁

Consequently, since a picture correcting processing for the blooming caused by the variation of the surface shape of the book copy is applied only to the distortion region wherein the picture distortion is generated in the scanned picture, the processing time of the blurred picture correcting processing can be reduced.例文帳に追加

これにより、ブック原稿の表面形状変化によるボケに対するボケ補正処理をスキャン画像中の画像に歪みを生じている領域である歪み領域についてのみ施すので、処理時間を短くすることができる。 - 特許庁

To provide a system and a process for processing a substrate in which processing efficiency is enhanced while reducing unnecessary damage on the substrate by performing a required processing selectively at a required part on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面の必要箇所に関して選択的に所要の処理を実行することにより、基板処理効率の向上を図り、併せて基板への不必要なダメージを低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

Then processing using a pattern on the resist film as a mask (e.g. etching processing using the pattern on the resist film as the mask and an ion injection processing using the pattern on the resist film as the mask) is applied to the wafer on which the resist film having the rugged surface is formed.例文帳に追加

その後、レジスト膜の表面に凹凸が形成されたウエハは、レジスト膜のパターンをマスクとした処理（たとえば、レジスト膜のパターンをマスクとするエッチング処理、レジスト膜のパターンをマスクとするイオン注入処理）を受ける。 - 特許庁

To create an apparatus for processing the surface of a processed article spreading three-dimensionally by using a laser in which a faster speed can be applied without depending upon the spread and the lapse of a processing line by directing a gas flow toward a processing position.例文帳に追加

ガス流が加工箇所に向けられていて、加工線の広がりと経過に依存せずに、より速い加工速度を可能とする、レーザーを用いて３次元的に広がる加工品表面を加工するための装置を創作する。 - 特許庁

The sample processing and observing method includes: irradiating a sample 5 with a focused ion beam 3 to form an observed surface; irradiating the observed surface with an electron beam 4 to form an observed image; removing the surface opposite to the observed surface of the sample 5 to form a lamella 5t including the observed surface; and obtaining a transmission electron image of the lamella 5t.例文帳に追加

集束イオンビーム３を試料５に照射し観察面を形成し、電子ビーム４を観察面に照射し、観察像を形成し、試料５の観察面と反対側の面を除去し、観察面を含む薄片部５ｔを形成し、薄片部５ｔの透過電子像を取得する試料加工観察方法を提供する。 - 特許庁

Roller stopping parts 13a and 14a for preventing slipping-out of the roller 16 formed by surface stamping processing, and roller guide surfaces 13b and 14b for guiding rotation of the roller 16 on the processing surface, are formed in a corner part on the roller contact side of the roller contact parts 13 and 14.例文帳に追加

ころ接触部１３，１４のころ接触側の角部には、面押し加工によりころ１６の抜けを防止するころ止め部１３ａ，１４ａと、その加工面にころ１６の回転を案内するころ案内面１３ｂ，１４ｂとが形成される。 - 特許庁

In an external surface type drum image processing system, a plate positioning mechanism and a method for operation thereof for automatically locating printing plates of various sizes in staging position are disclosed so as to be mounted on a predetermined position on an external surface type drum image processing system.例文帳に追加

外面型ドラム式画像処理システムで、画像処理システムの外面型ドラムの所定位置に取付けるため、中継位置で種々のサイズの印刷版を自動的に位置決めするためのプレート位置決め機構およびその操作方法が示されている。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that accurately positions a work on a mounting surface of a mounting portion, easily removes the work from the mounting portion after plasma processing, and prevents the work from being broken and the mounting surface from being damaged.例文帳に追加

載置部の載置面上にワークを正確に位置決めすることができるとともに、プラズマ処理後には、載置部からワークを容易に取り除くことができ、ワークの破損および載置面の損傷を防止することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The method of processing the semiconductor wafer includes a step of sticking a surface protection tape to the pattern surface of the semiconductor wafer whose backside is stuck to a tape for wafer processing and which has the origins of dicing or cutting formed by a chip unit.例文帳に追加

裏面がウエハ加工用テープに貼合されており、チップ単位にダイシングあるいは切断の起点が形成された半導体ウエハのパターン面に、表面保護テープを貼合する工程を備えることを特徴とする半導体ウエハの加工方法を用いる。 - 特許庁

The front/back side processing decision unit 18 decides which of the front or back side processing conditions is superior in applicability by comparing the front surface group and the back surface group constituting the intensive image with respect to the types of images (color/monochrome, character mode, character size and the like).例文帳に追加

表裏処理判定装置１８は、集約画像を構成する表面群と裏面群を画像の種類（カラー／モノクロの別、文字モード、文字サイズ等）で比較することにより、表面と裏面の処理条件のどちらの適用性が優るかを判定する。 - 特許庁

In the solar battery module, there are performed continuously a processing for forming a resin film 2 made of fluororesin on the surface of the side of the light-receiving surface of a solar battery element and a processing for so further temporarily laminating a sheet-form EVA thereon as to form an adhesive layer 3.例文帳に追加

太陽電池モジュールにおいては、太陽電池素子の受光面側表面にフッ素樹脂からなる樹脂膜２が形成される処理と、さらにシート状のＥＶＡを仮ラミネートして接着層３を形成する処理とが連続的に行われる。 - 特許庁

To realizes advantages such as disuse of CMP processing itself, minimum load of the CMP processing in flattening a conductive material provided on a substrate surface, and removal of deposits adhering to the substrate surface.例文帳に追加

例えばＣＭＰ処理そのものを省略したり、ＣＭＰ処理の負荷を極力低減しつつ、基板表面に設けられた導電性材料を平坦に加工したり、更には基板表面に付着した付着物を除去（洗浄）できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for processing a metallic plate capable of obtaining an excellent lubricating condition with a metallic plate surface and a processing tool surface without using a lubricant.例文帳に追加

潤滑剤を用いなくても金属板表面と、加工工具表面との良好な潤滑状態が得られ、溶剤を含有する廃液を生ずることがなく環境に悪影響を及ぼすことのない、金属板の加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An outer layer rough surface processing part 11G and an inner layer rough surface processing part 11H each comprising minute through-openings or recessed parts are formed in the outer and inner layer film non-bonded parts 11E and 11F, and those are in a positional relationship not to face each other.例文帳に追加

外層フィルム非接着部１１Ｅ、内層フィルム非接着部１１Ｆには、それぞれ微小な貫通口や凹部よりなる外層粗面加工部１１Ｇ、内層粗面加工部１１Ｈが形成され、これらは互いに対向しない位置関係にある。 - 特許庁

This adsorbing resin panel 1 is sucked and fixed on the surface plate of the NC processing machine so that the soft resin panel 3 is turned upwardly and the processing material W is pressed to the surface 31 of the soft resin layer 3 of the adsorbing resin panel to be sucked and fixed thereon.例文帳に追加

この吸着性樹脂板１をＮＣ加工機の定盤に軟質樹脂層３を上向きに吸引固定して、この吸着性樹脂板１の軟質樹脂層３の表面３１に加工材料Ｗを押しつけて吸着固定させる。 - 特許庁

One or more radio IC tags 11A-11F are embedded in each of the seat bottom surface 12 and the seat back surface 13, and the data is read from the IC tags 11A-11F using a reading means 16, followed by a processing made by a processing means 17 according to the read data.例文帳に追加

座面１２、背もたれ面１３にそれぞれひとつ以上の無線ＩＣタグ１１Ａ〜Ｆが埋め込まれており、読取手段１６で前記無線ＩＣタグ１１Ａ〜Ｆからデータを読み取り、処理手段１７により前記データに応じて処理を行う。 - 特許庁

This metal mold manufacturing method mainly comprises a recessed part forming process of forming a recessed part 5 on a processing object surface of a work W while rotating the work W around a rotary shaft T, and a ring band groove forming process of forming a ring band groove 6 on the processing object surface.例文帳に追加

金型の製造方法は、回転軸Ｔを中心にワークＷを回転させつつ、ワークＷの被加工面に凹部５を形成する凹部形成工程と、被加工面に輪帯溝６を形成する輪帯溝形成工程と、を主に有している。 - 特許庁

The first and second output processing sections 30, 40 performs processing substantially simultaneously in parallel and output print data for surface and rear surface, respectively.例文帳に追加

第１出力処理部３０と第２出力処理部４０とは並列的にほぼ同時に処理を進め、第１出力処理部３０からは表面用の印刷データの出力が行われ、第２出力処理部４０からは裏面用の印刷データの出力が行われる。 - 特許庁

To provide an abrasive for blast processing excellent in durability, capable of forming a satisfactory mirror finished surface in mirror finishing on the inner surface of a metal mold and mirror finishing on automotive parts or the like by blast processing, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

ブラスト加工による金属製の金型の内面の鏡面仕上処理や自動車部品などの鏡面仕上処理において、良好な鏡面を形成でき、研磨材の耐久性にも優れたブラスト加工用研磨材及びその製造法を提供する。 - 特許庁

The work 12 is rotated integrally with the chuck by the rotation of a main shaft, and the processing is carried out at the inner side surface of the work 12 opposing to the outer peripheral pressing roller 26 by a processing tool 20.例文帳に追加

主軸の回転により被加工物１３をチャックと一体に回転させ、外周加圧ローラ２６に対面する被加工物１３の内側面で加工ツール２０により加工する。 - 特許庁

A part 171 on the forward side in the processing object movement direction in the processing object-faced surface 170 by interposing the blowout port 16 is longer than a part 172 on the backward side.例文帳に追加

この被処理物対向面１７０における吹出し口１６を挟んで被処理物移動方向の順方向側の部分１７１が、逆方向側の部分１７２より長い。 - 特許庁