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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > surface processingに関連した英語例文

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surface processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 7705



例文

This arithmetically operated theoretical surface roughness is recorded on a RAM (Step 104), and compensating processing is performed by feeding back (Step 106).例文帳に追加

この演算された理論面粗度をRAMに記録し(ステップ104)、フィードバックして補償処理を行なう(ステップ106)。 - 特許庁

A gray scale image of a surface of wood taken by a monochrome line sensor camera is input to an image processing device 4.例文帳に追加

モノクロのラインセンサカメラにより木材の表面を撮像した濃淡画像が画像処理装置4に入力される。 - 特許庁

To provide an on-vehicle navigation device capable of performing photography of a road surface without causing an increase in an unnecessary processing load.例文帳に追加

不要な処理負荷の増大を生じさせずに路面の撮影を行える車載用ナビゲーション装置を提供する。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 1 has a through hole 10e formed in an upper surface of a heat plate 10 in a transfer direction.例文帳に追加

基板処理装置1は、加熱プレート10の上面に搬送方向に沿って形成された貫通孔10eを有する。 - 特許庁

例文

A part of the fine abrasive grains of blast processing enter the gap and the crystal wafer surface opposite to the gap is also ground.例文帳に追加

この隙間にブラスト加工の微細砥粒の一部が入り込んで、該隙間に面する水晶ウエハ面をも研削する。 - 特許庁


例文

A table 2 on which a processed object 1 is placed and a structure 12 for supporting the processing part 14 are provided on the surface plate 10.例文帳に追加

定盤10上に、被処理物1が載置されるテーブル2と、処理部14を支持する構造物12とを備える。 - 特許庁

A camera sub-system coupled to the processing unit is for acquiring input images reflecting a geometry of the display surface.例文帳に追加

処理装置に接続されたカメラサブシステムが、表示面の幾何学的形状を反映した入力画像を取得する。 - 特許庁

To provide a method for processing a lens barrel with a tubular wall for defining a hole so as to form grooves on the inner surface of the lens barrel.例文帳に追加

レンズ・バレルの内面に溝を形成するよう、レンズ・バレルを加工する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The rough surface processing is formed by a sand blast process and the height size of an unevenness 3a is set to approximately 0.8 mm.例文帳に追加

粗面加工はサンドブラスト法などで形成され、凹凸3aの高さ寸法は約0.8mm程度に設定される。 - 特許庁

例文

To provide a processing apparatus capable of securely cleaning a device surface of a substrate.例文帳に追加

この発明は基板のデバイス面を確実に洗浄処理することができるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁

例文

A plasma 31 is generated by a surface processing device 27 to the POF cable 12 exiting the first cooling tank 25.例文帳に追加

第1冷却槽25を出たPOFケーブル12に対して表面処理装置27によりプラズマ31を発生させる。 - 特許庁

To provide a bending processing apparatus for producing a laminated material relatively thick and having a curved surface with a small radius.例文帳に追加

比較的厚さが厚く、小さな半径の曲面を有する積層材を製作する曲げ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cemented carbide-made cutting tool with a surface clad exerting excellent chipping resistivity in high velocity cutting processing.例文帳に追加

高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。 - 特許庁

A light intensity measuring device is obtained by processing a nano-order irregular structure on the surface of a graphite substrate as a light absorbing material (step 101).例文帳に追加

光吸収体材料としてのグラファイト基板の表面にナノオーダの凹凸構造を加工する(ステップ101)。 - 特許庁

To provide a shaving die by which a smooth processing surface is easily obtained even when a material of a workpiece is hard.例文帳に追加

ワークの材質が硬い場合であっても、平滑な加工面を得やすいシェービング金型を提供することを課題とする。 - 特許庁

The blackbody radiation light source is obtained by processing a nano-order irregular structure on the surface of a graphite substrate as a blackbody radiation material (step 201).例文帳に追加

黒体放射材料としてのグラファイト基板の表面にナノオーダの凹凸構造を加工する(ステップ201)。 - 特許庁

To provide a surface light source device capable of suppressing luminance unevenness without applying a special processing on a light diffusion plate.例文帳に追加

光拡散板に特殊加工を施すことなく、輝度ムラを抑制することが可能な面光源装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which selectively nitrides a region to be processed occupying a part of the surface of an object to be processed.例文帳に追加

被処理物の表面の一部を占める被処理領域を選択的に窒化するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The powder processing device 1 such as a jet mill has a heating means 13 positioned along a wall surface 12 against which the powder collides.例文帳に追加

ジェットミルなどの粉体処理装置(1)において、粉体が衝突する壁面(12)に沿って加熱手段(13)を設ける。 - 特許庁

Each target immobilizing domain 12 has a carbonaceous film 13 and a plasma processing layer 13A formed on its surface.例文帳に追加

ターゲット固定領域12は、炭素質膜13とその表面に形成されたプラズマ処理層13Aとを有している。 - 特許庁

To provide a resin molded product demonstrating the outer appearance of high grade feeling by applying a simple surface processing.例文帳に追加

簡易な表面加工により高級感のある外観を表すことのできる樹脂成形品を提供することである。 - 特許庁

To provide a plasma processor and the method capable of executing a uniform processing to the entire surface of a body to be processed.例文帳に追加

被処理体の全面に均一な処理を施すことが可能なプラズマ処理装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

Further, a rejection candidate region on the inspection surface is selected by a first stage image processing by use of the first image data.例文帳に追加

さらに、該第一画像データを用いた1段階目の画像処理にて、検査面の不良候補領域を選定する。 - 特許庁

Surface points tracked for every ultrasonic beam 40 in an echo tracking processing part 20 are tracking points 42.例文帳に追加

エコートラッキング処理部20において、各超音波ビーム40ごとにトラッキングされる表面ポイントがトラッキングポイント42である。 - 特許庁

By cutting the piezoelectric material into pieces and subjecting the surface of each piece to a polishing processing, a substrate 1 for piezoelectric devices is manufactured.例文帳に追加

この圧電材料を切断してその表面を研磨加工することにより、圧電デバイス用基板1が製作される。 - 特許庁

The effect of this hole on the image surface can be flattened, too, and this characteristic is useful for photographing processing.例文帳に追加

像面上のこの穴の効果はまた平坦化することも可能であり、この特徴は写真処理に特に有用である。 - 特許庁

The tape for semiconductor processing comprises a plastic film as a separator, wherein the film is not coated with a release agent and has a surface which is embossed.例文帳に追加

離型剤が塗布されていない、表面をエンボス加工したプラスチックフィルムをセパレータとした半導体加工用テープ。 - 特許庁

In addition, the processing method for board has the process of etching the board 101 from the rear surface through the guidance hole.例文帳に追加

さらに、基板の加工方法は、裏面から先導穴を通じて基板101に対してエッチングを行うことを有する。 - 特許庁

A large number of first recessed parts 21 are formed on an inner peripheral surface 10B of a cylinder 10 by applying shot peening processing.例文帳に追加

シリンダ10の内周面10Bには、ショットピーニング処理を施すことにより多数の第1凹陥部21を形成する。 - 特許庁

To correct for aberrations of an image surface curve of a photographing lens without post-processing image data resulting from photographing.例文帳に追加

撮影して得られた画像データを後処理することなく、撮影レンズの像面湾曲の収差を補正可能とする。 - 特許庁

A discrimination part 12 performs processing for discriminating the road surface state based on image data acquired from the imaging part 10.例文帳に追加

判別部12は、撮像部10から得られる画像データに基づいて路面状況を判別する処理を行なう。 - 特許庁

To provide an induction heating device which heats uniformly a processing object from the surface to the inside while securing a working ratio.例文帳に追加

稼働率を確保しつつ、加工対象物を表面から内部まで均一に加熱する誘導加熱装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of processing a thermoplastic resin composition giving an extruded object having a good surface quality.例文帳に追加

良好な表面品質を有する押出物をもたらす熱可塑性樹脂組成物の加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a bonding device that efficiently performs surface treatment for both the object under bonding and wire during the bonding processing operation.例文帳に追加

ボンディング装置において、ボンディング処理中にボンディング対象及びワイヤ双方の表面処理を効果的に行う。 - 特許庁

High heat resistance alloy processing is chromizing, aluminizing and the like, and the surface area is enriched to Cr and/or Al.例文帳に追加

高耐熱合金化処理には、クロマイジング,アルミナイジング等があり、これらにより、Crおよび/またはAlに富化される。 - 特許庁

To provide a method of processing a borosilicate glass tube for forming vials reduced in alkali elution from an inner surface.例文帳に追加

バイアル内側面からのアルカリ溶出が少ないバイアルを形成するためのホウケイ酸ガラス管の処理方法を提供する。 - 特許庁

The ion gun 20 emits argon ions and irradiates argon ions to the back surface of the processing sample gripped by the holder 50.例文帳に追加

また、イオン銃20は、アルゴンイオンを放出し、ホルダ50に把持された加工試料の裏面に、アルゴンイオンを照射する。 - 特許庁

The semiconductor substrate 2 is subject to surface reforming treatment through plasma processing by using a gas containing nitrogen, ammonia or the like.例文帳に追加

半導体基板2は、窒素、アンモニア等を含むガスを用いて、プラズマ処理により表面改質処理されている。 - 特許庁

SURFACE PROCESSING METHOD OF AlN CRYSTAL, AlN CRYSTAL SUBSTRATE THE AlN CRYSTAL SUBSTRATE WITH EPITAXIAL LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

AlN結晶の表面処理方法、AlN結晶基板、エピタキシャル層付AlN結晶基板および半導体デバイス - 特許庁

Into a processing chamber, a board is carried in which a conductive region composed of metal is exposed in a part of an insulating surface.例文帳に追加

絶縁性表面の一部に、金属からなる導電領域が露出した基板を、処理チャンバ内に搬入する。 - 特許庁

The image processor is provided with an analog to digital converter A/DC2 33 exclusively for surface level elimination processing, and its reference is fixed to the same setting level as that of the D/AC 4.例文帳に追加

地肌除去処理専用のA/D変換器A/DC233を設け、そのリファレンスをD/AC4と同じ設定値に固定する。 - 特許庁

To provide a small surface processing system for substrate in which installation space is reduced and utilization of work space is enhanced.例文帳に追加

設置スペースが少なく作業用スペースの活用度が向上する小型の基板用表面処理システムを提供すること。 - 特許庁

Furthermore, at least the element mounting surface of the base portion and the connection portions of the pair of lead terminals are subjected to plating processing.例文帳に追加

また、少なくともベース部の素子搭載面と一対のリード端子の結線部には、めっき処理が施されている。 - 特許庁

To provide a rotary substrate processor supplying a processing liquid to a whole area of an under surface even in the case of a large-sized substrate.例文帳に追加

大型基板の場合も処理液を下面全体に供給できる回転式基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, capable of preventing the processed surface of the object to be processed from contaminating with fine particles or the like.例文帳に追加

被処理体の処理面を微粒子などの汚染から保護することが可能なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The upper processing surface plate unit includes an insertion portion for inserting green balls to the internal space at the first height position.例文帳に追加

上加工定盤部は、第1の高さ位置で内部空間にグリーンボールを挿入するための挿入部を含んでいる。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which is capable of removing off metal contaminants more clearly and improving a film more uniform in thickness through the surface of the substrate.例文帳に追加

金属汚染のみならず基板面内の膜厚均一性をも向上させる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The valve material 11 is formed with a boss 15 for sealing processing which protrudes to an opening end surface side of the hollow hole 16.例文帳に追加

バルブ素材11には、中空穴16の開口端面側に突出する封口処理用のボス部15が形成される。 - 特許庁

Particles stored on the primary side of the filter F1 are removed during the execution of the surface processing.例文帳に追加

これによって、表面処理の実行中にフィルターF1の1次側に蓄積されたパーティクルが、除去されることとなる。 - 特許庁

例文

The arcuated lines are formed by rubbing the end surface 2 of the molded article 1 with a rotary sanding plate to apply hairline processing thereto.例文帳に追加

また、円弧状の線は回転するサンディング板により、擦ることによってヘアライン加工することで形成する。 - 特許庁




  
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