「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a burnishing tool capable of efficiently performing roller burnishing processing even in a workpiece having a difference in level on its outer peripheral surface.例文帳に追加

外周面に段差を有するワークにおいても効率よくローラバニシング加工を行うことができるバニシングツールを提供する。 - 特許庁

To provide a crack detection device which automatically detects cracks occurring in a surface of a concrete structure from an image obtained by imaging the concrete structure, by image processing.例文帳に追加

コンクリート構造物を撮像した画像を画像処理によって自動検知するひび割れ検知装置を提供する。 - 特許庁

To provide an HMDS processing apparatus which can hydrophobe a wafer surface stably and easily.例文帳に追加

安定したウエハ表面の疎水化処理を容易に行うことができるＨＭＤＳ処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Also, reprocessing is performed such that the curvature of an arc curved surface of a ridge 22 of a lower stage corrugated roll 20 is made larger than that before the processing.例文帳に追加

また、下段ロール２０の山部２２の円弧状曲面の曲率を加工前と比べて大きくするように再加工する。 - 特許庁

An upper paper 30 is so made by omitting a release processing layer 15 on the upper surface 3 from the middle paper 20.例文帳に追加

中用紙２０で、下面４の浸透防止剤層１１及び弱接着剤層１２を省略して、上用紙３０とする。 - 特許庁

To more suppress impurities from sticking to the surface of a printing plate in the developing processing of the printing plate.例文帳に追加

印刷版の現像処理時に当該印刷版の表面に不純物が付着するのをさらに抑制することを可能とする。 - 特許庁

To provide an image recorder which suppresses abrasion of a processing member as well as improves contamination on a recording surface of a recording medium.例文帳に追加

加工部材の磨耗を抑制すると共に、記録媒体の記録面の汚れを改善する画像記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plant processing method which enables coating the plant substrate surface comparatively thickly within a short time.例文帳に追加

短時間で、植物基材の表面を比較的厚くコーティングすることを可能とする、植物の加工方法を提供すること。 - 特許庁

As a result, a processing layer produced on the surface at the time of cutting and polishing a single-crystal quartz substrate can be removed.例文帳に追加

これによって、単結晶石英基板を切断・研磨する際に表面に生じた加工層を除去することができる。 - 特許庁

In the plasma processing method, the plasma 3 is blown out from the gas passages 36 to be supplied to the surface of a workpiece 4.例文帳に追加

このプラズマ３をガス流路３６から吹き出して被処理物４の表面に供給するプラズマ処理方法に関する。 - 特許庁

To provide an electron beam curable releasing sheet for processing with good heat resistance and a required stable surface gloss.例文帳に追加

耐熱性が良好で、かつ所望の安定した表面光沢を有する電子線硬化型工程用剥離シートを提供する。 - 特許庁

To solve the problem that calculation costs are required for obtaining the positional relation of the depth directions of a plurality of objects, and for performing hidden surface removal processing.例文帳に追加

複数のオブジェクトの奥行き方向の位置関係を把握して、隠面消去処理を行うには計算コストがかかる。 - 特許庁

The substrate processing apparatus comprises a substrate supporting portion which fixes and supports a substrate from the back side of a surface to be processed.例文帳に追加

前記基板処理装置においては、基板を処理対象面の裏面側から固定して支持する基板支持部を備えている。 - 特許庁

A press-processing rough-surface 7 is formed at a sealed part, with which the seal resin is in close contact, in at least one part of the metal component 3.例文帳に追加

金属部品３の少なくとも一部で封止樹脂が密着する被封止部にプレス加工の粗面７が形成される。 - 特許庁

To remove a naturally oxidized film and to suppress initial oxidization of a substrate surface before oxidization processing.例文帳に追加

酸化処理前における基板表面の初期酸化を抑えることができるとともに、自然酸化膜を除去できるようにする。 - 特許庁

The surface Mo electrode can secure the Schottky junction with the semiconductor substrate even when subjected to the sintering processing at 900°C or higher.例文帳に追加

表面Ｍｏ電極は、９００℃以上のシンター処理を行っても、半導体基板とのショットキー接合を確保できる。 - 特許庁

By using this principle, a virtual inclination surface simulating the video contents is also generated by devising deformation processing.例文帳に追加

この原理を用いれば、変形処理を工夫することによって映像内容を模した仮想傾斜面を生成することもできる。 - 特許庁

A signal processing part 11 calculates an altitude down to the ground surface 30 based on delay time with the distance measuring signal 21 and the distance measuring signal 22.例文帳に追加

信号処理部１１は測距信号２１、測距信号２２との遅延時間から地表３０までの高度を算出する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device with a high plasma controllability that stably forms a surface wave plasma in a chamber.例文帳に追加

プラズマの制御性が高く、チャンバー内で安定的に表面波プラズマを形成することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the skin 4 can be well bonded to the surface 2a of the core material 2 after drilling processing by vacuum forming.例文帳に追加

従って、孔加工後の芯材２の表面２ａに対して、表皮４を真空成形により良好に貼着することができる。 - 特許庁

Thereafter, a second polishing processing in which a polishing pressure is set to 1.5 times or more is executed on the surface of the interlayer insulating film 3.例文帳に追加

その後、研磨圧力を１．５倍以上にした第２研磨処理を層間絶縁膜３の表面に対して実行する。 - 特許庁

To enhance the processing accuracy of the surface of the welded part of two or more resin members.例文帳に追加

二つ以上の樹脂部材の溶接部表面の加工精度を向上させる溶接方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

A wafer 2 is placed on a stepped part 1a for placing a wafer formed in a support stand 1a in a processing vessel 1 with the wafer surface turned up.例文帳に追加

処理槽１内の支持台１ａに設けてあるウエハ載置用の段部１ａにウエハ表面を上にしてウエハ２を載置する。 - 特許庁

In a region corresponding to the processing section 40, a horizontal floating member 43 is provided as a surface flatness improving means.例文帳に追加

処理部４０に対応する領域において、表面平坦度向上手段として横置浮上部材４３が設けられている。 - 特許庁

The polishing processing is performed by using a polishing solution having a pH value capable of negatively charging the surface of polishing grains.例文帳に追加

研磨液として、研磨粒子の表面を負に帯電させるｐＨ値を有する研磨液を用いて研磨処理を行うこと。 - 特許庁

The signal processing device includes 2-dimensional image generating means (32) for forming a differential interference image of a silicon carbide substrate surface.例文帳に追加

信号処理装置は、炭化珪素基板表面の微分干渉画像を形成する２次元画像生成手段（３２）を有する。 - 特許庁

The secondary processing is performed by setting so that a tooth surface over the whole coincides with the involute curve 8 of the final shape.例文帳に追加

そして、二次加工は、全体に亘る歯面が、最終形状のインボリュート曲線８に一致するよう設定して加工する。 - 特許庁

The auxiliary agent for processing the rubber is used to be applied on the surface 8 of a roll 4a and contains protein and disaccharide.例文帳に追加

このゴムの加工用補助剤は、ロール４ａの表面８に塗布して使用するものであり、タンパク質及び二糖を含んでいる。 - 特許庁

To provide a fiber processing agent composition improved in adsorptivity of a hydrophobic compound on a surface of a target, such as a fiber product.例文帳に追加

繊維製品などの対象表面への疎水性化合物の吸着性を向上させた繊維処理剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of performing appropriate correction processing, corresponding to the positional relationship between an optical system and an imaging surface.例文帳に追加

光学系と撮像面との間の位置関係に応じて適切に補正処理することができる撮像装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method of a plate-like object capable of highly accurately flattering a plate-like object having irregularities on its surface.例文帳に追加

表面に凹凸を有する板状物を高精度に平坦化可能な板状物の加工方法を提供することである。 - 特許庁

The rubbing cloth 3 is held on a plane in which a distance up to the surface of the substrate 1 varies from a short distance to a long distance along a rubbing processing direction.例文帳に追加

ラビング布３は、ラビング処理方向に基板１の表面との距離が小から大に変化する平面に保持される。 - 特許庁

To provide a processing method of a plate-like object capable of highly accurately flattering a plate-like object having an irregularity on its surface.例文帳に追加

表面に凹凸を有する板状物を高精度に平坦化可能な板状物の加工方法を提供することである。 - 特許庁

To obtain an optical flow through a processing method appropriate to a feature of the outer surface of a mobile object in a mobile object monitoring device.例文帳に追加

移動体監視装置において、移動体の外表面の特徴に適した処理方法によりオプティカルフローを求める。 - 特許庁

The electrode is provided in a region on the surface of the processing layer, where neither the salient nor the bottom portion is provided.例文帳に追加

電極は、前記加工層の前記表面のうち前記凸部および前記底部が設けられていない領域に設けられる。 - 特許庁

To provide a mold for molding light guide body capable of stably processing a light guide body having an emitting surface formed thereto.例文帳に追加

出射面が形成された導光体を安定して加工することができる導光体の成形金型を提供する。 - 特許庁

The outer circumference surface of the region B corresponding to both edges is finished such that the depth of the processing scratch is equal to or less than 10 μm.例文帳に追加

両端部対応領域Ｂの外周面は、加工傷の深さが１０μｍ以下となるように仕上げ加工されている。 - 特許庁

To provide blasting technology capable of processing a surface of a work piece in a plazma treatment chamber with high accuracy of roughness.例文帳に追加

プラズマ処理室等の被加工物表面の粗面度を精度よく加工することができるブラスト処理技術を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for fixing a thin plate workpiece, capable of accurately surface-processing by increasing support rigidity for a thin plate workpiece.例文帳に追加

薄板ワークの支持剛性を向上させて精度良く表面加工することができる薄板ワークの固定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a post CMP processing liquid that is capable of efficiently removing deposited matter on each surface of a wiring layer and an insulating layer.例文帳に追加

配線層や絶縁膜表面の付着物質を効率よく除去することができるポストＣＭＰ処理液を提供する。 - 特許庁

Disclosed is a beam processing apparatus that processes a layer to be processed 3 formed on one surface of a glass substrate 2, while irradiating the same with a beam.例文帳に追加

ガラス基板２の一方の面に形成された被加工層３にビームを照射して加工するビーム加工装置である。 - 特許庁

To use a plane-emission light guide plate without the need of surface processing for emission in combination with a lens for a lamp fitting for a vehicle.例文帳に追加

出射用の表面加工が不要な面発光導光板を車両用灯具のレンズと組み合わせて使用する。 - 特許庁

To execute processing to eliminate a slip between a rotor and the road surface by sensing generation of such a slip.例文帳に追加

回転体と路面との間におけるスリップの発生を検出することでスリップ解消のための処理の実行を可能とする。 - 特許庁

To provide a drying device which is capable of preventing uneven drying of the photosensitive surface of printing paper even if drying processing ability is improved.例文帳に追加

乾燥処理能力を向上させても、印画紙感光面の乾燥ムラを防止できる乾燥装置を提供することである。 - 特許庁

A liquid layer of pure water is formed after the liquid peaking of the pure water is carried out on the whole principal surface of the substrate which completes pure-water washing processing.例文帳に追加

純水洗浄処理が終了した基板の主面全面に純水を液盛りし、純水の液層を形成する。 - 特許庁