「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a heat dissipation instrument with its heat receiving surface including a polished heat receiving surface capable of attaining better flatness and roughness, and a method and equipment for polishing the heat dissipation instrument.例文帳に追加

散熱器の受熱面がより良い平面度及びラフ度を達成可能な研磨された受熱平面を備える散熱器及びその研磨方法と設備。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resin roller having a surface uniformly roughened into a required surface roughness, which can be manufactured with a small number of steps.例文帳に追加

所望の表面粗さに一様に粗化された表面を有する樹脂ローラを少ない工程数で作製できる、樹脂ローラの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The outer peripheral surface of the metal member 22 has a rough section formed so that the surface roughness is equivalent to or greater than the particle size of the lubricant.例文帳に追加

そして、金属部材２２の外周面には、表面粗さが潤滑剤の粒径に対して同等以上になるように形成された粗面部が設けられている。 - 特許庁

The support portion 24 of the lead frame 16 to be coated with the adhesive is provided with a rough surface region 40 which is made higher in surface roughness than other regions.例文帳に追加

接着剤が塗布されるリードフレーム１６の支持部２４には、他の領域に比べて表面粗さが粗くされた粗面領域４０が設けられている。 - 特許庁

By leaving the spiral cutting marks, surface roughness of the placing surface is increased but when only projecting portions of the cutting marks are seen, ruggedness can be reduced.例文帳に追加

スパイラル状の切削痕を残すことにより、載置面の表面粗さは増すが、切削痕の山の部分のみを見ると、凹凸はかえって減らすことが出来る。 - 特許庁

The optical polyester film has a degree of transparency of ≥83.5%, and a surface roughness (Ra) of one surface thereof of ≥9.0 nm.例文帳に追加

透明度が８３．５％以上であり、一方のフィルム表面の粗さ（Ｒａ）が９．０ｎｍ以上であることを特徴とする光学用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The throw away chip 1 is attached to the tool body whose tip end surface is processed to surface roughness of Ry 3.2 μm or less, so as to constitute the cutting tool.例文帳に追加

このスローアウェイチップ１を、先端部分の表面が面粗度Ｒｙ３．２μｍ以下に加工された工具本体に装着して切削工具を構成した。 - 特許庁

An intermediate roller 405 can have a longer life by increasing its surface roughness to some extent and thereby greatly reducing flaws generated on its surface.例文帳に追加

上記中間ローラ４０５は、その表面粗さをある程度大きくすることで、その表面に生じる傷が急激に減少し、寿命を延ばすことができる。 - 特許庁

Further, the surface roughness of the surface of the tool tip is adjusted to efficiently propagate the ultrasonic energy and also prevent the element from shifting in position.例文帳に追加

また、ツール先端部の表面の面粗さを適度に調整することにより、超音波エネルギーの効率的な伝播と素子の位置ずれの防止を図る。 - 特許庁

To provide a forming method of a micro-structural body capable of decreasing surface roughness of a side surface of the micro-structural body, the micro-structural body and an optical switch.例文帳に追加

微細構造体の側面の表面粗さを小さくすることができる微細構造体の形成方法、微細構造体及び光スイッチを提供する。 - 特許庁

To provide a cerium-based abrasive which offers a good-quality polishing surface having high polishing speed, less occurrence of a flaw and small surface roughness, and a manufacturing method of a cerium-based abrasive which materializes a manufacturing with a simple process and at low cost.例文帳に追加

研磨速度が速く、キズの発生が少なく、表面粗さの小さい、品質良好な研磨面が得られるセリウム系研磨材を提供する。 - 特許庁

To provide a surface inspection device capable of searching for a flat inspection range allowing high precision nondestructive measurement of surface roughness of a wafer with pattern without relying on visual observation.例文帳に追加

パターン付きウェハの表面粗さを高精度で非破壊に測定できる平坦な検査範囲を、目視によらず探索できる表面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer, in which a wafer reduced in roughness due to a surface reforming heat treatment and having less sticking of foreign matter and less surface layer defects is obtained.例文帳に追加

表面改質熱処理によるラフネスを低減でき、異物の付着や表層欠陥が少ないウェーハが得られる製造方法を提供する。 - 特許庁

Each board joining part 32 and 42 is subjected to a grinding process or surface roughening, having the maximum surface roughness of 0.1 μm or more to 500 μm or less.例文帳に追加

基板接合部３２，４２には研磨加工あるいは粗面加工がされており、最大表面粗さは０．１μｍ以上５００μｍ以下となっている。 - 特許庁

The surface roughness Ry of other part of the surface of the sucking portion than pores is 5 μm or less, which reduces an unevenness of a contact plane of the sucking portion with the wafer and thereby reduces the damages to the wafer.例文帳に追加

これにより，吸着部のウェハとの接触面における凹凸の高低差が小さくなるため，ウェハに与えるダメージを低減することができる。 - 特許庁

The polycrystalline semiconductor film includes a texture structure self-organizedly formed on a surface of the polycrystalline semiconductor film, and the root-mean square roughness of the surface is ≥4 nm.例文帳に追加

多結晶半導体膜の表面に自己組織化的に形成されたテクスチャ構造を有し、その表面の二乗平均粗さが４ｎｍ以上である。 - 特許庁

A plurality of band-like regions 3 having different surface roughness are arranged adjacently on the surface of the aluminum planar body 1 such as an aluminum foil and an aluminum sheet.例文帳に追加

アルミニウム箔、アルミニウムシート等のアルミニウム板状体１の表面に、表面粗さが異なる複数の帯状領域３を隣接させて配置する。 - 特許庁

The void ratio of the photocatalyst 3 is preferably 1-50% and the surface roughness Ra of the light receiving surface thereof is preferably 5 nm-10 μm.例文帳に追加

光触媒３は、空孔率が１〜５０％であるのが好ましく、受光面の表面粗さＲａが５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましい。 - 特許庁

To provide a method by which a cold-rolled steel sheet excellent in press formability and also excellent in the uniformity of surface appearance or surface roughness.例文帳に追加

プレス成形性に優れ、表面外観あるいは表面粗さの均一性に優れた冷延鋼板を製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

A granular manganese phosphate film composed of crystal grains with a fine and round shape is formed on the surface of a piston, thus the surface roughness of the piston can be reduced, and leak can be reduced.例文帳に追加

その結果、摺動部品に用いた際、接触面圧が増大するとともに、またピストンもしくはシリンダーブロックに用いた際には、リーク量が大きくなる。 - 特許庁

The surface roughness of the main surface of the substrate 51 on the side formed with the antireflection film 52 is specified to over 0 to ≤1.5 nm in center line average height (Ra).例文帳に追加

反射防止膜５２が形成される側の基板５１の主表面の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下とする。 - 特許庁

Arithmetic surface roughness (Ra) on the surface 131A of the electrode 120 side of the dielectric board 131 is set to be 1 to 10 μm.例文帳に追加

誘電体板１３１の電極１２０側の表面１３１Ａの算術表面粗さ（Ｒａ）は、１μｍ以上１０μｍ未満とされている。 - 特許庁

The inner surface of the split, on which a molded thermoplastic elastomer product is to be left-over, is formed so as to have a surface roughness Ra of 0.5-3.0 by blasting treatment.例文帳に追加

成形された熱可塑性エラストマー製品を残すべき分割型の内表面が、ブラスト処理により、表面粗さＲａで０．５〜３．０に形成されている。 - 特許庁

The surface roughness of the copper circuit is lowered to be ≤2.5μm by performing inner layer treatment to the surface of the copper circuit provided on this inner layer circuit substrate.例文帳に追加

この内層回路基板に設けた銅回路の表面に内層処理を施すことによって銅回路の表面粗さを２．５μｍ以下にする。 - 特許庁

To reduce inner wall surface roughness of a forming work hole even in a drill for improving abrasion resistance by covering a surface of an edge part with a hard coating film.例文帳に追加

刃先部の表面に硬質皮膜を被覆して耐摩耗性の向上を図ったドリルであっても、形成される加工穴の内壁面粗さを小さくする。 - 特許庁

To provide a glass substrate having the touch-down-height of ≤6 nm by regulating the surface roughness and microwaviness of a substrate surface within a predetermined range and relationship.例文帳に追加

基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、タッチダウンハイトが６ｎｍ以下のガラス基板を得る。 - 特許庁

In this case, the roughened surface of the surface member 52 has a roughness of 3 to 100S, so that the deflection in the LCD substrate (G) can be prevented and uniform heat treatment can be realized.例文帳に追加

表面部材５２の粗面を３Ｓ〜１００Ｓの粗度で形成するために，ＬＣＤ基板Ｇがたわまず，均一な加熱処理が可能となる。 - 特許庁

To provide a surface tracking type measuring instrument which can have its measurement range expanded while maintaining a measuring force, response, and resolution permitting surface roughness measurement.例文帳に追加

表面粗さ測定が可能な測定力、応答性、分解能を維持しつつ、測定範囲を拡大することができる表面追従型測定機を提供する。 - 特許庁

In the self-aligning roller bearing, the surface roughness Ra of the outer ring raceway surface 1a in the axial direction and a circumference direction are made to satisfy 0.10μm≤Ra≤0.50 μm.例文帳に追加

外輪軌道面１ａの軸方向及び円周方向における表面粗さ（Ｒａ）が、０．１０μｍ≦Ｒａ≦０．５０μｍを満たすようにする。 - 特許庁

Consequently, the occurrence of the surface roughness on the top face of the gate electrode 21 and the surface of an impurity region caused when the side wall 22 is removed can be prevented efficiently unlike the conventional case.例文帳に追加

従来のようなゲート電極の上面と不純物領域のダミーサイドウォール除去に伴う表面荒れを効率よく防止することができる。 - 特許庁

The surface hardness of the track surfaces 2a and 3a of the inner and outer rings 2 and 3 is Hv 720 or higher and the surface roughness thereof is Ra 0.015μm or higher.例文帳に追加

内外両輪２、３の軌道面２ａ、３ａの表面硬さをＨｖ７２０以上とし、表面粗さをＲａ０．０１５μｍ以下とする。 - 特許庁

To reduce a processing step, average surface roughness and thermal protrusion on a floating surface side in the polishing work of a magnetic head made of materials different in hardness.例文帳に追加

硬度の異なる材料で構成された磁気ヘッドの研磨加工において、その浮上面側の加工段差、平均表面粗さ、Thermal Protrusionを低減させること。 - 特許庁

In the laminate, the polymethylpentene resin layer can be formed on the surface of the substrate in which the center line average roughness Ra of the surface is 0.01-10 μm, and a porous resin layer can exist between the substrate and the polymethylpentene resin layer.例文帳に追加

また、前記積層体は、基材とポリメチルペンテン系樹脂層との間に、樹脂で構成された多孔質層が介在していてもよい。 - 特許庁

The surface roughness of at least a surface contacting with the ceramic insert 3 is set at Rmax≤0.1 μm.例文帳に追加

ホルダー２とセラミックインサート３の間に介在させるシムシート４であって、少なくともセラミックインサート３と接する面の表面粗さをＲmax≦０.１μｍに設定した。 - 特許庁

A level difference near the inflexion point formed on the surface of the optical lens is set to ≥0.0005 mm and ≤0.005 mm except a surface roughness component.例文帳に追加

また、光学レンズの表面に形成される変曲点近傍の段差量を、面粗度成分を除いて、０．０００５ｍｍ以上、０．００５ｍｍ以下とする。 - 特許庁

A surface on the first layer has such characteristics that a mean deviation of surface roughness is not more than 2.5 μm and a mean deviation of coefficients of friction is less than 0.008.例文帳に追加

第１層側の表面は、その表面粗さの平均偏差が偏差２．５μｍ以下で且つ摩擦係数の平均偏差が０．００８未満である。 - 特許庁

The method includes forming on a wafer at least one surface-roughened alignment mark having a root-mean-square (RMS) surface roughness σ_s.例文帳に追加

この方法では、二乗平均平方根（ＲＭＳ）表面粗さσ_ｓを有する少なくとも一つの粗面化アライメントマークがウエハ上に形成される。 - 特許庁

The image forming method comprises combining the toner for MICR and the developer holder of 2.0 to 6.0 μm in ten-point mean surface roughness Rz on the surface.例文帳に追加

画像形成方法は、上記ＭＩＣＲ用トナーと、表面の十点平均粗さＲｚが２．０〜６．０μｍである現像剤保持体とを組み合わせる。 - 特許庁

A diamond sintered layer 7 with a surface roughness Ra of 0.05 μm or below is formed to the contact surface of the friction ring 2 with the backflow preventing ring 4.例文帳に追加

摩擦リング２の逆流防止リング４が当接する面には、表面粗さＲａが０．０５μｍ以下のダイヤモンド焼結体層７が形成されている。 - 特許庁

In the filling process, rough surfaces 13 of the respective slide cores 111, 112, 121 and 122 having prescribed surface roughness are brought into pressure contact with outer surface sides 7 of the butt parts 3a and 3b.例文帳に追加

前記充填工程において、各スライドコアの所定の表面粗さを有する粗面１３と、衝合部３ａ、３ｂの外面側７とを圧接させている。 - 特許庁

As a result, even if a void defect is present on the wafer surface, the void defect is eliminated at a temperature lower than the wafer, thereby suppressing surface roughness thereof.例文帳に追加

その結果、仮にウェーハ表面にボイド欠陥が存在しても、ウェーハより低温でボイド欠陥を消滅させ、その表面粗さを小さくできる。 - 特許庁

Prior to dicing a wafer having ground rear surface, rear surface of the wafer is roughened to have an arithmetic average roughness of 0.01 μm or less.例文帳に追加

ウェーハの裏面を研削した後、ダイシングを行う前に、ウェーハの裏面の算術平均粗さが０．０１μｍ以下となるように裏面に加工を施す。 - 特許庁

The surface decorating acrylic film contains acrylic rubber particles, and has a center line average roughness Ra of 0.01-0.05 μm on at least one surface.例文帳に追加

アクリル系ゴム粒子を含有し、少なくとも片方の面の中心線平均粗さＲa が０.０１〜０.０５μm である表面加飾用アクリルフィルムが提供される。 - 特許庁

Therefore, the presence of the needle-shaped silicon nitride particles deepens the surface unevenness of the substrate (3), and the surface roughness Rz is made to be 2 μm or more.例文帳に追加

そのため、この針状の窒化珪素粒子の存在により、基体（３）の表面の凹凸が深くなり、表面の面粗さＲｚは２μｍ以上となっている。 - 特許庁

To provide a surface nitriding method for an aluminum base material reducing adhesion of a sedimentary layer, and forming a nitride layer low in surface roughness.例文帳に追加

堆積層の付着を軽減でき、表面粗さの低い窒化層を形成することが可能なアルミニウム基材の表面窒化方法を提供することを目的とする。 - 特許庁