「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can uniformly polish a film to be polished regardless of the density of surface roughness of the film.例文帳に追加

凹凸の疎密に因らず被研磨膜を均等に研磨することが可能になる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, both of the surface roughness of the outer diameter face 18 of the edge tip and the outer peripheral face of the anvil are set to 0.4 μm or less.例文帳に追加

さらに、刃先の外径面１８およびアンビル１２の外周面１２Ａの表面粗さを、ともに０．４μｍ以下に設定する。 - 特許庁

To provide an extrusion coating method for a coated wire capable of preventing occurrence of roughness on a cable surface coated by tube extrusion.例文帳に追加

ケーブルにチューブ押出によって被覆されたケーブル表面の肌荒れ発生を防止できる被覆線の押出被覆方法を提供する。 - 特許庁

To provide a roughened foil capable of suppressing the deterioration of peel strength even when the surface roughness of the roughened foil is set to be lower in a rolled copper foil.例文帳に追加

圧延銅箔において粗化箔の表面粗度を低下させても、ピール強度の低下を抑えた粗化箔を提供する。 - 特許庁

The electrolyte membrane 1 conveyed through a guide roll 6 has a surface roughness set at maximum in accordance with required specifications on conveying.例文帳に追加

ガイドロール６を介して搬送される電解質膜１は、搬送上の要求仕様に応じて表面粗さを最適に設定する。 - 特許庁

The porous ceramic 1 is characterized in that the surface roughness (Ra) is <0.5 μm and the porosity is ≥30%.例文帳に追加

本発明に係る多孔質セラミックスは表面面粗度（Ｒａ）が０．５μｍ未満で、気孔率が３０％以上のセラミックス１からなる。 - 特許庁

To make the specific resistance and surface roughness of ITO(indium tin oxide) film be lowered and also to prepare EL elements showing longer life span and small electricity consumption.例文帳に追加

ＩＴＯ膜の比抵抗及び面粗度を小さくすることと、ＥＬ素子を長寿命でかつ消費電力の小さいものとする。 - 特許庁

The thickness dimension of the non-magnetic layer 4 is in the range of 1-50 nm and surface roughness (P-V) is in the range of ≥2 nm and ≤20 nm.例文帳に追加

非磁性層４の厚さ寸法は、１ｎｍ〜５０ｎｍの範囲、表面粗さ（Ｐ−Ｖ）が２ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の範囲とする。 - 特許庁

The flow rate of the lower strip coolant is made higher than that of the upper side, thereby uniformizing the surface roughness of the upper and lower surfaces of the steel sheet.例文帳に追加

下側のストリップ・クーラントの流量を上側より多くすることにより、鋼板の上下面の表面粗さが均一となる。 - 特許庁

To provide an information recording medium which allows high-quality printing to be carried out, by reliably decreasing surface roughness of an ink accepting layer.例文帳に追加

インク受理層の表面粗さを確実に小さくし、これにより高品質な印刷が可能な情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

To manufacture in bulk at a low cost the third shaping die made of a metal (Ni stamper) which is small in surface roughness Ra and waviness Wa and has uniformity.例文帳に追加

表面粗さＲａやうねりＷａの少ない個性のない金属製第３成形型（Ｎｉスタンパー）を大量に安価に作る。 - 特許庁

To provide an etching method for realizing trench etching without hollow or roughness on a trench side wall surface while maintaining a high etching rate.例文帳に追加

高速エッチングレートを維持しつつ、トレンチ側壁面にえぐれや面荒れの無いトレンチエッチングを実現するためのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A film thickness of the electrode protection film is made 1.0 μm or more, and an average surface roughness of the ground of the electrode protection layer is made 0.6 μm or less.例文帳に追加

電極保護膜の膜厚は１．０μｍ以上、電極保護層の下地の平均表面粗さを０．６μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer wiring substrate by which surface roughness of an outermost layer can be set to a suitable state.例文帳に追加

最外層の表面粗さを適切な状態に設定することができる多層配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of forming a polysilicon film small in surface roughness, and a film formation device.例文帳に追加

表面ラフネスの小さいポリシリコン膜を形成することができる半導体装置の製造方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

The film thickness T of the resin coating film 4 is 0.05 to 1.0 μm, and the surface roughness Ra of the base 2 is 0.1 to 0.8 μm.例文帳に追加

樹脂塗膜４の膜厚Ｔは０．０５μｍ〜１．０μｍであり、基板２の表面粗さＲａは０．１μｍ〜０．８μｍである。 - 特許庁

Thus, columns having a very smooth surface, at most 10 nm in terms of a centerline average roughness Ra can be obtained.例文帳に追加

例えば中心線平均粗さＲａで１０ｎｍ以下といった極めて平滑な表面を有する柱状体を得ることができる。 - 特許庁

To directly and objectively evaluate sharpness of a grinding wheel without measuring surface roughness of a ground object.例文帳に追加

研削砥石の切れ味を、研削済みの被研削物の表面粗さを測定するまでもなく、直接的かつ客観的に評価可能とする。 - 特許庁

Thus, the alteration can also be made substantially impossible because the additional information is given by using the change of the surface roughness.例文帳に追加

このように表面粗度の変化を利用して付加情報を持たせているため、その改竄も実質的に不可能とさせることができる。 - 特許庁

In the release sheet for semiconductor mold, the surface roughness Rz of at least one face is not less than 3.0 μm.例文帳に追加

少なくとも、一方の面の表面粗さＲｚが３．０μｍ以上であることを特徴とする半導体モールド用離型シート。 - 特許庁

Irregularities having ten point mean roughness (Rz) in the range of 0.1 μm-10 μm are formed on the surface of the metal foil of the substrate 1.例文帳に追加

基板１は、金属箔表面に十点平均粗さ（Ｒｚ）０．１μｍ〜１０μｍ程度の凹凸形状が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the master disk of an optical recording medium which suppresses surface roughness while reducing the residue of a photoresist.例文帳に追加

フォトレジストの残渣を低減させつつ表面荒れを抑えることが可能な光記録媒体の原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

The irregularities 21a have an arithmetic average roughness Ra of ≤0.1 μm, and a mean interval Sm between the surface irregularities is 10-60 μm.例文帳に追加

凹凸２１ａは、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以下で、その表面凹凸の平均間隔Ｓｍが１０〜６０μｍである。 - 特許庁

To provide a metal electrode forming method for a semiconductor device, capable of reducing the surface roughness of a cut protective film.例文帳に追加

切削加工された保護膜の表面粗さを小さくすることができる半導体装置の金属電極形成方法を実現する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the panel type optical device, a metal substrate is prepared and its surface is ground to specified roughness.例文帳に追加

本発明のパネル状光学デバイスの製造方法は、まず、金属基板を用意し、その表面を所定の粗さになるまで研磨する。 - 特許庁

Then, different surface roughness is given to each of the groove face in belt groove 6 of the variable speed pulleys 2, 4 according to the ratio sections 7, 8 and 9.例文帳に追加

そして、これらのレシオ部７，８及び９に応じて変速プーリ２，４のベルト溝６で溝面の表面粗さを異ならせる。 - 特許庁

The material of the discharge nozzle is made from stainless steel and the center line average roughness (Ra) of the inside wall surface of the discharge nozzle is ≤0.15 μm.例文帳に追加

吐出ノズルの材料がステンレス鋼で、吐出ノズルの内壁面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ以下であること。 - 特許庁

The surface roughness is set as follows; Ra=0.08 to 0.10 μm, Rz=0.45 to 0.60 μm, and the pitch P of the linear groove is about 17 μm.例文帳に追加

その表面粗さは、Ｒａ＝０．０８〜０．１０μｍ、Ｒｚ＝０．４５〜０．６０μｍであり、線状溝のピッチＰは約１７μｍである。 - 特許庁

FRICTION COEFFICIENT MANAGEMENT METHOD BASED ON SURFACE ROUGHNESS, SUBSTRATE FOR INFORMATION RECORDING MEDIUM, INFORMATION RECORDING MEDIUM AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

表面粗さに基づく摩擦係数の管理手法、並びに情報記録媒体用基板、情報記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

In this case, an adhesive portion of the housing 7 to the bracket 6 is roughened with its surface roughness set to be 0.5-2.0μmRa.例文帳に追加

この際、ハウジング７の外周のブラケット６との接着部を粗面化し、その表面粗さを０．５μｍＲａ〜２．０μｍＲａに設定する。 - 特許庁

Therefore, the signals of the surface roughness cancellation are realized by normalizing the signals of V(a) and V(b) by Ra and Rb and subtracting each other.例文帳に追加

よって、V(a)とV(b)の信号をそれぞれＲａ、Ｒｂで正規化して差し引くことにより、表面粗さの信号をキャンセルことを考える。 - 特許庁

The tip 30 is equipped with the ball 50 and a holder 60 and the ball 50 is formed so that its surface roughness Ra is 0.010-0.080 μm.例文帳に追加

チップ20は、ボール50とホルダー60とを備え、ボール50は、その表面粗さＲａを、０．０１０μｍ以上０．０８０μｍ以下に形成される。 - 特許庁

The roll has the adequate surface roughness and porosity and the superior wettability with the coating liquid, so that it can uniformly coat paper with the coating liquid.例文帳に追加

適切な表面粗さ、気孔率また塗工液との優れた濡れ性により、塗工液を紙へ均一に塗工することができる。 - 特許庁

To provide a polyester film for manufacturing a silicone rubber sheet which can be produced at a low cost and gives a moderate surface roughness and releasability to the sheet.例文帳に追加

低コストで、適度な表面粗度ならびに剥離性を与えることのできるシリコーンゴムシート製造用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

Also, the film whose surface roughness Ra is within the range of 2.10nm is good in handling as the base film and the running when it is used as a magnetic tape. 例文帳に追加

また、表面粗さRaが2～10nmの範囲にあるものは、ベースフィルム取り扱い性、磁気テープとした時の走行性が良好である。 - 特許庁

The surface roughness on the side of the base 15 on which the selective absorbing film is formed is 0.98μm in center-line average.例文帳に追加

基板１５における選択吸収膜が形成された面の表面粗さを中心線平均粗さで０．９８μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device capable of considerably improving the in-plane uniformity of the film thickness and the surface roughness of a deposited film.例文帳に追加

膜厚の面内均一性及び堆積膜の表面粗さを大幅に改善することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a packaging method which is free from an uncomfortable feeling due to roughness of the surface of a base film and provides a package with good openability.例文帳に追加

基材フィルムの表面の荒れに起因する不快感を覚えることなく、かつ開封性が良好な包装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stamper and a substrate for an information recording medium having few surface roughness, and also to provide the information recording medium.例文帳に追加

面荒れの少ない情報記録媒体用スタンパ及び基板の製造方法並びに情報記録媒体を提供することである。 - 特許庁

For the ball in a ball-point pen, a carbide ball whose surface shows an arithmetical mean roughness of 5-25 nm and a maximum difference of elevation of 150-500 nm.例文帳に追加

ボール表面の算術平均粗さが５〜２５ｎｍで、かつ最大高低差が１５０〜５００ｎｍである超硬ボールを用る。 - 特許庁

To provide a method for covering a raw material powder film which forms a uniform film with a reduced surface roughness (maximum height) on an object.例文帳に追加

対象物の上に均一な膜で表面粗さ（最大高さ）の小さい膜を形成する原料粉末膜被覆方法を提供する。 - 特許庁

In the layer 12A_n arranged directly below the layer 12B_n arranged uppermost, arithmetic average roughness in the upper surface of the layer 12A_n is 20nm or less.例文帳に追加

最も上に配置された層１２Ｂ_ｎの真下に配置された層１２Ａ_ｎの上面の算術平均粗さは２０ｎｍ以下である。 - 特許庁

Particularly, the non-flat surface 2b is set to satisfy 0<(P/Ra)<1.02×10^4 when arithmetic average roughness denotes Ra and an average pitch denotes P.例文帳に追加

特に、その非平坦面２ｂは、算術平均粗さRa及び平均ピッチPを用いて、０＜(P／Ra)＜１．０２×１０^4に設定されている。 - 特許庁

The variation ΔRa in the surface roughness of the aluminum material before and after the non-erosion degreasing stage is preferably controlled to ≤0.05 μm.例文帳に追加

無浸食脱脂工程の前後におけるアルミニウム材の表面粗さの変化量ΔＲａが０．０５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

A side surface 10 of another notch 4 has an average roughness valve of not more than 10μm in a measurement section of 4.8 mm.例文帳に追加

別の切欠き４の側面１０が、４．８ｍｍの測定区間において１０μｍ以下の平均粗さ値を有しているようにした。 - 特許庁