「surface- roughness」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

Since a large surface roughness around the ridge part 13 may cause faults such as cracks, the surface roughness is graduated in a way that the two optically ineffective surfaces 14 across the ridge part 13 gets smaller toward the ridge part 13.例文帳に追加

稜線部１３においては、表面粗さが大きいと割れ等の不良が発生するため、稜線部１３を挟む２つの非光学有効部形成面１４の表面粗さが稜線部１３に向かって小さくなるように表面粗さの分布を設ける。 - 特許庁

The laser irradiation refines the roughness of or causes chemical changes in the surface for improving the bonding of metallized sections, and reduces or removes the roughness of the surface regions (5, 6) to be metallized on the electroceramic body.例文帳に追加

レーザ照射によって、メタライズ部の良好な付着作用を可能にする表面の微小粗さ及び／又は化学的な変更を発生させることができ、電気セラミック体のメタライズすべき表面部分（５；６）の凹凸又は起伏を軽減又は排除することができる。 - 特許庁

The negative current collector 11 is comprised of a conductive substrate 11A having a surface roughness (Rz) of 3-12 μm and a polymer layer 11B having a thickness of 2/3 or less to the surface roughness (Rz) formed on the conductive substrate 11A.例文帳に追加

負極集電体１１は、表面粗さ（Ｒｚ）が３μｍ以上１２μｍ以下の導電性基材１１Ａに、導電性基材１１Ａの表面粗さ（Ｒｚ）に対する厚みが３分の２以下である高分子層１１Ｂを設けた構成を有している。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a development roller that realizes stable surface roughness and resistance values by controlling manufacturing conditions and the like without actually measuring the surface roughness and resistance values of the development roller which are important properties concerned with image performance.例文帳に追加

画像性能に関わる重要な特性である現像ローラの表面粗さや抵抗値について実際に測定することなく、製造条件等をコントロールするにより、表面粗さ、抵抗値について安定した現像ローラの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In case of performing the temper rolling of the steel strip, after performing the temper rolling using bright rolls having the center line average roughness Ra of ≤0.3 μm for work rolls, by jetting high-pressure liquid onto the surface of the steel strip from groups of nozzles, the surface roughness is imparted to the steel strip.例文帳に追加

鋼帯を調質圧延するに際し、ワークロールの中心線平均粗さRaが0.3μm以下のブライトロールを用いて調質圧延を行った後に、ノズル群から高圧液体を鋼帯表面に噴射することによって、鋼帯に表面粗さを付与する。 - 特許庁

The antireflection film 10 is constituted in such a manner that the surface roughness of the boundary F_2 between the high-refractive index hard coating layer 3 and the low-refractive index hard coating layer 4 is smaller than the surface roughness of the boundary F_1 between the transparent conductive layer 2 and the layer 3.例文帳に追加

透明導電層２と高屈折率ハードコート層３との界面Ｆ_１の表面粗さよりも、高屈折率ハードコート層３と低屈折率ハードコート層４との界面Ｆ_２の表面粗さを小さくすることにより「白味」を解消した反射防止フィルム１０。 - 特許庁

In at least the single surface of the biaxially oriented polyester film for mold release, the number of projections with a height of 1 μm or more per 10 m2 is <10 and surface roughness Ra (center line average roughness) is 20-40 nm and a slip factor is 0.6 or less.例文帳に追加

少なくとも片面において、高さが１μｍ以上の突起が１０ｍ^2あたり１０個未満でありかつ、表面粗度Ｒａ（中心線平均粗さ）が２０〜４０ｎｍであり、かつ滑り係数が０．６以下である離型用二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a surface roughness detecting method for a substrate, with which even fine unevenness smaller than the detection limit of an existent measuring instrument is accurately detected, the surface roughness detecting method for the substrate being suitable for mass-production of the substrate and also high in versatility.例文帳に追加

既存の計測装置における検出限界以下の微小な凹凸であっても正確に検出することができる基板の表面粗さ検出方法であって、基板の量産に適した汎用性の高い基板の表面粗さ検出方法を提供する。 - 特許庁

The rubber joint rough surface 10 having predetermined roughness of the rubber member 1 and the resin joint rough surface 20 having predetermined roughness of the resin member 2 comprising a thermoplastic resin are mated to form the joint interface 30 and ultrasonic vibration is applied to the joint interface 30 from the side of the rubber member 1.例文帳に追加

ゴム部材１の所定粗さのゴム接合粗面１０と、熱可塑性樹脂よりなる樹脂部材２の所定粗さの樹脂接合粗面２０とを合わせて接合界面３０とし、接合界面３０に対してゴム部材１側から超音波振動を加える。 - 特許庁

In the base material film for the surface protection film, one surface of the base material film is a flat surface, and the other surface coated with an adhesive has a surface roughness (Ra) according to JIS-B0601 of 0.2-2.0 μm.例文帳に追加

表面保護フィルム用基材フィルムであって、該基材フィルムの一方の表面は平滑面であり、他方の粘着剤が塗布される表面はＪＩＳ−Ｂ０６０１による表面粗さ（Ｒａ）が０．２〜２．０μｍであることを特徴とする表面保護フィルム用基材フィルム。 - 特許庁

The upper surface of the sealing resin 26 is positioned below the upper surface of the protection member 18, and the upper surface of the sealing resin 26 at a connection portion with the protection member 18 has smaller surface roughness than the upper surface of the sealing resin 26 at a portion other than the connection portion.例文帳に追加

封止樹脂２６の上面の位置は、保護部材１８の上面の位置以下であり、封止樹脂２６における保護部材１８との接続部の上面は、封止樹脂２６における接続部以外の上面と比べて表面粗さが小さい。 - 特許庁

While a heater 13 inserted into the core uniformly heats the surface of the core, a smoothing roller 20 which has less surface roughness than the surface of the coating layer is made to abut against the surface of the coating layer, thereby making the surface of the resin coating layer smooth.例文帳に追加

芯金の内部に挿入した加熱ヒータ１３によって芯金の表面を均一に熱しつつ、前記被覆層の表面に、該表面より表面粗さが小さい平滑ローラ２０を当接させることによって樹脂被覆層の表面が平滑化されている。 - 特許庁

The metal mask comprises a protruding part between open holes, in which the surface roughness of the side wall surface of the protruding part and that of the open hole present on the flat surface continuous from the side wall surface of the protruding part is different from that of other side wall surface of the open hole.例文帳に追加

開口穴間に凸部を備えるメタルマスクであって、 前記凸部の側壁面と、前記凸部の側壁面と連続平面上にある前記開口穴の側壁面と、の表面あらさは、前記開口穴の他の側壁面の表面あらさと異なるメタルマスクである。 - 特許庁

Abrasion of the roller guide surface 14 is reduced by improving a surface property of an outer peripheral surface of a roller 34 for circularly contacting or angularly contacting with the roller guide surface 14 within a range of surface roughness Rk of 0.20 to 0.45 μm by barrel processing.例文帳に追加

ローラ案内面１４に対してサーキュラーコンタクト又はアンギュラコンタクトするローラ３４の外周面の表面性状をバレル加工により、面粗度Ｒｋを０．２０〜０．４５μｍの範囲内に改善することにより、ローラ案内面１４の磨耗を低減する。 - 特許庁

The molding for the reflection mirror, having a light-reflecting surface of a concave curved surface shape or a convex curved surface shape is, produced by thermally setting the thermosetting resin composition in a metallic mold and the surface roughness Rz of the light-reflecting surface at the time of mold-releasing is 0.5μm or smaller.例文帳に追加

熱硬化性樹脂組成物を金型中で加熱硬化させてなる凹曲面状又は凸曲面状の光反射面を有する成形品であって、離型時の光反射面の表面粗さＲｚが０．５μｍ以下である反射鏡用成形品。 - 特許庁

The die comprises a lower die having a first molding surface for pressurizing molten glass which is supplied to the first molding surface and an upper die having a second molding surface for pressurizing the molten glass between the second molding surface and the first molding surface, wherein the surface roughness Ra of the second molding surface is larger than that of the first molding surface.例文帳に追加

溶融ガラスが供給され、供給された該溶融ガラスを加圧するための第１の成形面を備える下型と、第１の成形面との間で溶融ガラスを加圧するための第２の成形面を備える上型と、を有する金型であって、第２の成形面の表面粗さＲａが、第１の成形面の表面粗さＲａよりも大きい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transfer belt capable of easily obtaining an intended surface roughness including a smooth surface roughness, upon forming a surface layer while curing by irradiating resinous paint of an ultraviolet-curable type applied on the outer circumferential face of an endless substrate with ultraviolet rays, and a device for curing a surface layer of a transfer belt for use in the method.例文帳に追加

無端基材の外周面に塗布された紫外線硬化型樹脂塗料に紫外線を照射して硬化させ表面層を形成するに際し、平滑な表面粗度を含む、所望の表面粗度を容易に得ることのできる転写ベルトの製造方法、および、それに用いられる転写ベルト表面層硬化装置を提供する。 - 特許庁

The mother sheet for a starting sheet in copper electrolysis whose principal surface has an approximately rectangular shape is characterized in that when averaging the respective values of surface roughness in nine regions including dividing one side of the principal surface and other sides roughly orthogonal to one side, respectively into three regions, the 9-point average surface roughness (Rz) is ≥3.0 μm.例文帳に追加

主面が略四角形状を有する銅種板電解用の母板において、上記主面の一の辺及び該一の辺に略直交する他の辺のそれぞれを３領域に分割してなる９領域のそれぞれの領域における表面粗さを平均した９点平均粗さ（Ｒｚ）が３．０μｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The inner peripheral surface of the cylinder is surface-treated with a nickel phosphorous polytetrafluorethylene resin based coating and the average surface roughness is within the range of not less than 0.05 μm to 0.15 μm so that the surface roughness can be prevented from worsening to enable the low noise and low input not only at the operation initial stage but after the elapse of time.例文帳に追加

シリンダ内周面にニッケルリンポリテトラフルオロエチレン樹脂系皮膜の表面処理を施し、平均表面粗さを０．０５μｍ以上０．１５μｍ以下の範囲とすることで、ベーンとシリンダの摺動による面粗度の悪化を抑制することにより、運転初期だけでなく経時後においても低騒音かつ低入力を実現することができる。 - 特許庁

Although ion implantation to the full surface of the magnetic head slider will increase the surface roughness of the front and center rail surfaces 4 and 7, by implanting ions to the surfaces, excluding the front and center rail surfaces 4 and 7, the sticking of contaminants to the floating surface will be prevented effectively, without having to increase the surface roughness; and slider floating instability is suppressed.例文帳に追加

また、磁気ヘッドスライダ浮上面全面へのイオン注入はフロントレール面４、センタレール面７の表面粗さを増大するが、本発明のようにフロントレール面４、センタレール面７を除いてイオン注入を実施すれば、表面粗さを増大することなく浮上面へのコンタミネーション付着を効果的に防止し、スライダ浮上不安定化を抑制できる。 - 特許庁

The guide member is formed by electroplating the surface of a metallic base material with a chromium compound and has a chrome plated layer 2 having a pear-skin finished surface and 0.3-5 μm mathematical average roughness Ra by JIS-B0601:2001 regulation of surface roughness and the surface of the chrome plated layer 2 is coated with a straight silicone resin 3 having polysiloxane bond (Si-O-Si).例文帳に追加

金属母材１の表面がクロム化合物で電気めっきされており、表面粗さがＪＩＳ−Ｂ０６０１：２００１規定による算術平均粗さＲａで０．３〜５μｍである梨地面のクロムめっき層２を有するガイド部材であって、該クロムめっき層２の表面をポリシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）のストレートシリコン樹脂３で皮膜形成する。 - 特許庁

This method for producing the plastic sheet having the smoothness of the maximum surface roughness of ≤200 nm comprises a step where a substrate having a maximum surface roughness of >200 nm and a rugged pitch in the surface of >100 μm is processed so that the rugged pitch is reduced to ≤100 μm, and a step where the surface is coated with a thermosetting or ultraviolet-setting resin.例文帳に追加

最大表面粗さが２００ｎｍより大きく、表面の凹凸ピッチが１００μｍを超えるベース基板表面の凹凸ピッチを１００μｍ以下にする工程を経た後、熱硬化性もしくは紫外線硬化性樹脂をコーティングする最大表面粗さが２００ｎｍ以下の平滑性を有するプラスチックシートの製造方法。 - 特許庁

The polyester film for printing and molding has a center line average roughness Ra of 0.1-50 nm on both the surfaces, a maximum roughness Rt of 10-1,000 nm on both the surfaces and a surface orientation factor of 0-0.05.例文帳に追加

フィルム両表面の中心線平均粗さＲａ０．１〜５０ｎｍ、かつフィルム両表面の最大粗さＲｔが１０〜１０００ｎｍであり、面配向係数が０〜０．０５の印刷・成形加工用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

Fine roughness 221c is formed on the surface of the hydrate layer 221b of the aluminum oxide, and by the presence of the fine roughness 221c, lipophilic nature with an electrolyte is enhanced.例文帳に追加

これにより、酸化アルミニウムの水和物層２２１ｂの表面に微細な凹凸２２１ｃが存在することになるので、この微細な凹凸２２１ｃの存在により、電解液との親油性が向上したものと考えられる。 - 特許庁

Ten-point average roughness (Rz) of the surface of an amorphous hard carbon film of the sliding member coated with the amorphous hard carbon film on a sliding face is set to 0.7 μm or less, and initial abrasion roughness (Rpk) is set to 0.07-0.14 μm.例文帳に追加

摺動面に非晶質硬質炭素皮膜を被覆した摺動部材の非晶質硬質炭素皮膜表面の十点平均粗さ（Ｒz）を０．７μｍ以下、且つ初期摩耗粗さ（Ｒpk）を０．０７〜０．１４μmとする。 - 特許庁

To solve the problem of a single-crystal sapphire substrate that even though surface roughness is planarized, after chemical polishing, no regularity is seen in its roughness distribution, therefore it is not suitable for the epitaxial growth of a nitride semiconductor.例文帳に追加

化学研磨で、単結晶サファイア基板を研磨しても表面粗さは平坦化されているものの、凹凸分布に規則性が見られないため、窒化物半導体をエピタキシャル成長させるのに適していない。 - 特許庁

The surface of the developing roller is worked by using a film polishing device and is constituted such that the values of the ten-point average roughness Rz and the arithmetic average roughness Ra satisfy the following relation; Ra/Rz<0.15 and 2μm<Rz<11μm.例文帳に追加

現像ローラの表面をフィルム研磨装置を用いて加工し、十点平均粗さＲｚと算術平均粗さＲａの値が、Ｒａ／Ｒｚ＜０．１５、且つ、２μｍ＜Ｒｚ＜１１μｍになるように構成する。 - 特許庁

The Rsk is appropriate as the evaluation index of the roughness of the groove bottom 12, and the surface roughness of the roll in molten metal plating bath is made to less than 0 in terms of Rsk, whereby the adhesion of foreign matter to the groove bottom 12 can be reduced.例文帳に追加

Ｒｓｋは、溝底１２の粗さの評価指標として適切であり、Ｒｓｋで０未満である溶融金属めっき浴中ロールとすることにより、溝底１２に対する異物の付着を低減できる。 - 特許庁

The stage surface 1a is formed of stainless steel, whose arithmetic average height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.1 μm and smaller than 0.3 μm, and whose maximum height Ra in roughness curve is equal to or greater than 0.5 μm and smaller than 2.5 μm.例文帳に追加

ステージ面１ａは、ステンレスで形成され、粗さ曲線の算術平均高さＲａが０．１μｍ以上０．３μｍ以下かつ粗さ曲線の最大高さＲｚが０．５μｍ以上２．５μｍである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer film mirror, with which the multilayer film mirror with excellent optical characteristics is manufactured at a comparatively low cost by reducing film interface roughness and film surface roughness, and to provide the multilayer film mirror.例文帳に追加

膜の界面の粗さ及び表面粗さを低減し、優れた光学特性を有する多層膜ミラーを比較的低コストで製造することができる多層膜ミラーの製造方法及び多層膜ミラーを提供する。 - 特許庁

A press-molded product which is press-molded by using the releasing layer has such a surface roughness that the maximum height (Rmax) is not more than 500 nm, and a center line mean roughness (Ra) is not more than 50 nm, when measured by a method specified in JIS B0601.例文帳に追加

また、この離型層を用いてプレス成形されたプレス成形体の表面粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定される最大高さＲ_maxが５００ｎｍ以下、中心線平均粗さＲ_aが５０ｎｍ以下である。 - 特許庁

It is preferable to control the surface roughness (arithmetic mean roughness) Ra of the boundary faces of the piezoelectric layers 11 in contact with the internal electrode layers 21 to ≤0.5×C (μm) (wherein, the C (μm) is the thicknesses of the electrode layers 21).例文帳に追加

内部電極層２１の厚みをＣ（μｍ）とした場合に、内部電極層２１と接する圧電層１１の境界面の表面粗さ（算術平均粗さ）Ｒａは、０．５・Ｃ（μｍ）以下であることが好ましい。 - 特許庁

The center tap 132 of the power supplies is connected to the wafer spacing mask 102, thereby variations in a distance between the wafer 108 and the electrodes 106 due to thickness of dielectric, roughness of a wafer back surface, roughness of a chuck surface, variation in conductivity of the chuck surface, or other physical variations which cause changes in an electrostatic force are balanced.例文帳に追加

電源の中心タップ１３２は、ウェハ離間用マスク１０２に接続され、誘電体の厚さ、ウェハ裏面の粗さ、チャック面の粗さ、チャック面の導電性の変化、または静電力を変化させる別の物理的な差異によるウェハ１０８と電極間１０６の距離の変動がバランスされる。 - 特許庁

An inner region on the surface of a focus ring is finish-worked at mean surface roughness Ra in e.g., 0.1 or less as fine as suppressing the adhesion of a reaction product in an etching process, and an outer region is finish-worked at mean surface roughness Ra e.g., 3.2 or less.例文帳に追加

フォーカスリングの表面における内側領域を、エッチング処理時の反応生成物の付着を抑えることができる程度の平均表面粗さＲａとなるように例えば０．１以下に仕上げ加工し、外側領域を反応生成物を捕集するためにその平均表面粗さを例えばＲａ３．２以下に仕上げ加工する。 - 特許庁

The rough surfaces 12A of the groove forming parts 12 and the bottom surface 21A of the grooves 21 are formed so that center line surface roughness Ra becomes 10-100 μm while the rough surfaces 13A of the protruded part forming parts 13 and the surfaces 22A of the protruded parts 22 are formed so that center line surface roughness Ra is 0-5 μm.例文帳に追加

溝形成部１２の粗面１２Ａ及び溝２１の底面２１Ａは、中心線表面粗さＲａが１０〜１００μｍとなる粗面とされる一方、隆起体形成部１３の粗面１３Ａ及び隆起体２２の表面２２Ａは、中心線表面粗さＲａが０より大きく５μｍ以下の粗面とされる。 - 特許庁

The organic photoreceptor having at least a photosensitive layer on a conductive support has a surface layer containing inorganic particles of 3 to 150 nm in number average primary grain size, and the surface roughness Ra is 0.001 to 0.018, and the ten point surface roughness Rz is 0.02 to 0.08 μm.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層を有する有機感光体において、数平均一次粒径が３〜１５０ｎｍの無機粒子を含有した表面層を有し、表面粗さＲａが０．００１〜０．０１８であり、十点表面粗さＲｚが０．０２〜０．０８μｍであることを特徴とする有機感光体。 - 特許庁

In the development member 1 which is used for supplying a toner deposited on the surface of the member to an image formation body, the ratio between the surface roughness Rz (considered as RzA) of an end part 4a which contacts a seal member for preventing the leakage of the toner and the surface roughness Rz (considered as RzB) of the other part 4 is defined as RzA/RzB>1.2.例文帳に追加

表面に担持したトナーを画像形成体に供給するために使用される現像部材１において、トナー漏れ防止のシール部材と接触する端部４ａの表面粗さＲｚ（ＲｚＡとする）とその他の部分４の表面粗さＲｚ（ＲｚＢとする）との比を、ＲｚＡ／ＲｚＢ＞１．２とする。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a semiconductor, that can measure and evaluate micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects by separating influences given by each to the others in the method for measuring either of the micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects near the crystal surface.例文帳に追加

本発明は、結晶表面近傍のマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物のいずれかを計測する計測方法において、それぞれが他の計測に与える影響を分離したマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物の計測、評価が可能である半導体検査方法と装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the surface of the metal plate is coated with an organic resin treatment liquid by using the roll application apparatus having the plurality of application rolls, the surface of the metal plate is coated with the organic resin treatment liquid by the reverse coat with the use of an applicator roll the circumferential surface roughness (center line average roughness) Ra (C) of which is 5-7 μm.例文帳に追加

複数の塗布ロールを備えるロール塗布装置を用いて、金属板表面に有機樹脂処理液を塗布するに際して、円周方向の表面粗さ（中心線平均粗さ）Ｒａ（Ｃ）が５〜７μｍの範囲内にあるアプリケーターロールを用いてリバースコートによって金属板表面に有機樹脂処理液を塗布する。 - 特許庁

The reflectance of ≥95% is obtained by vapor depositing Al as extremely thin as 0.2 μm on the reflective face having the above surface roughness.例文帳に追加

このような表面粗さの反射面に0.2μという極めて薄いＡｌ蒸着によって95％以上の光反射率を得た。 - 特許庁

The inorganic thin film has a surface roughness (Ra) of 2 nm or less, a water contact angle of 30° or more, and a water droplet falling angle of 40° or less.例文帳に追加

表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であり、水に対する接触角が３０°以上であり、水滴転落角が４０°以下である。 - 特許庁

As a result, surface roughness of the bearing part 1b becomes substantially uniform from one end to the other end of the bearing part 1b and is improved on the whole.例文帳に追加

従って、軸受部１ｂの一端から他端までその表面粗さがほぼ均一となり、また全体的にも良好となる。 - 特許庁

To provide a flaw detecting method capable of more accurately inspecting internal flaw of a sheet regardless of its surface roughness.例文帳に追加

板状体の表面粗さにかかわらず内部の欠陥をより正確に検査することを可能にする欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a cleaning method of a magnetic head, capable of cleaning a magnetic head by using a cleaning tape provided with an appropriate magnetic performance and surface roughness.例文帳に追加

適当な磁気特性と表面粗さのクリーニングテープを用いて磁気ヘッドのクリーニングを行える磁気ヘッドのクリーニング方法を得ること。 - 特許庁

The glass decorative layer 3 consists of a glass composition and has a thickness of 0.5-15 μm and a surface roughness Ra of ≤1.5 μm.例文帳に追加

ガラス装飾層３は、ガラス組成物からなり、厚みが０．５〜１５μｍであると共に、表面粗さＲａが１．５μｍ以下である。 - 特許庁