「upper- layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目)

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upper- layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 11093件

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例文

The catalyst 13A for cleaning exhaust is comprised of a rhodium layer 15 consisting of rhodium, a titanium-oxide layer 16A consisting of titanium oxide, and a platinum layer 17 consisting of platinum, with the TiO_2 (titanium oxide) layer 16A disposed on the upper side of the Pt (platinum) layer 17.例文帳に追加

本実施の形態に係る排ガス浄化用触媒１３Ａは、ロジウムからなるロジウム層１５と、酸化チタンからなる酸化チタン層１６Ａと、白金からなる白金層１７を有し、ＴｉＯ_2層１６ＡがＰｔ層１７の上側に配置されている。 - 特許庁

In the notebook computer 1, an old coating layer is formed on the entire outer surface of the respective base bodies of an upper cover 12, a liquid crystal surrounding part 13 and a palmrest part 26, a base coating layer is formed on the old coating layer, and a top coating layer is formed on the base coating layer.例文帳に追加

ノート型パーソナル・コンピュータ１において、上部カバー１２、液晶周り部１３およびパームレスト部２６のそれぞれの基体の外表面全体に、旧塗料層、該旧塗料層の上に下塗り層および該下塗り層の上に上塗り層が形成されている。 - 特許庁

A laminate of a plurality of metal layers forming an electrode covered by a dielectric layer includes a lower layer having edges intentionally made to project from those of an upper layer, so that the layers have widths getting smaller one by one from the lowest layer to the top layer.例文帳に追加

誘電体層で被覆される電極を構成する複数の金属層の積層体を、意図的に下側の層の端縁部を上側の層より突出させることによって、最下層から最上層へ順々に層ごとに幅が小さくなる段状とする。 - 特許庁

The dielectric member 4 comprises: a lower layer film 4a for forming a layer on the fixed electrode 7 side; and a sheet-like upper layer film 4b including a surface having a surface roughness smaller than that of a surface of the lower layer film 4a, and disposed so as to cover the lower layer film 4a.例文帳に追加

そして、誘電部材４は、固定電極７側の層を形成する下層膜４ａと、下層膜４ａの表面よりも表面粗さの小さい表面を有し、下層膜４ａを覆うように配置されたシート状の上層膜４ｂとからなっている。 - 特許庁

例文

This plated structure comprises a lower plated layer formed on the surface of a base metal, an intermediate plated layer which is formed on the surface of the lower plated layer and does not include a brightener, and an upper plated layer which is formed on the surface of the intermediate plated layer and includes the brightener.例文帳に追加

母材の表面上に形成された下地めっき層と、下地めっき層の表面上に形成され、光沢剤を含まない中間めっき層と、中間めっき層の表面上に形成され、光沢剤を含む上面めっき層と、を備える。 - 特許庁

例文

This piezoelectric element includes: a substrate 1; a lower electrode layer 2 formed on the substrate 1; a piezoelectric layer 3 formed on the lower electrode layer 2 by a liquid deposition method; and an upper electrode layer 4 formed on the piezoelectric layer 3.例文帳に追加

本発明の圧電体素子は、基板１と、その基板１の上に形成した下部電極層２と、その下部電極層２の上に液相成長法により形成した圧電体層３と、その圧電体層３の上に形成した上部電極層４とを有する。 - 特許庁

In an original film for lithographic printing wherein a hydrophobic thin layer is provided on a substrate and further a hydrophilic photosensitive layer containing a hydrophilic photothermal conversion agent is provided as an upper layer, a compound having a functional group bonded to a hydrophilic binder in the upper layer is contained in the hydrophobic lower layer.例文帳に追加

疎水性の薄層を基板上に設け、さらに親水性の光熱変換剤を含有する親水性の感光層を上層として設けた平版印刷用原板において、上層の親水性結着剤と結合する官能性基を有する化合物を疎水性の下層に含有していることを特徴とする平版印刷用原板。 - 特許庁

The polishing method comprises steps of removing a part of the external side of a conductor layer 14 with chemical mechanical polishing in order to expose the upper surface of a barrier layer 13, and removing the remaining portion of external portion of conductor layer 14 and the external portion of the barrier layer 13 with chemical mechanical polishing in order to expose the upper surface of an insulating material layer 12.例文帳に追加

本発明の研磨方法は、バリア層１３の上面を露出させるべく、導体層１４の外側部分の一部を化学機械研磨により除去する工程と、絶縁体層１２の上面を露出させるべく、導体層１４の外側部分の残部及びバリア層１３の外側部分を化学機械研磨により除去する工程とを含む。 - 特許庁

An upper part photoresist layer 18 which is relatively thin is patterned with an improved resolution and, next, an intermediate metal or a ceramic layer 16 is stipulated by using the upper part photoresist layer 18 as a reactive ion etching(RIE) mask and the lowermost thick photoresist layer 14 is stipulated in a second RIE process by using the intermediate layer as an etching mask.例文帳に追加

改良された解像度で比較的薄い上部フォトレジスト層（１８）がパターニングされ、次に上部フォトレジスト層を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）マスクとして利用し中間金属またはセラミック層（１６）が規定され、次に中間層をエッチングマスクとして使用して、最下層の厚いフォトレジスト層（１４）が第２のＲＩＥプロセスにおいて規定される。 - 特許庁

例文

When a path setting request message of the higher layer path is transmitted to a next hop node, a path establishment completion message is transmitted to a transmission source of the path setting request message of the upper layer path with parallel reception of the path establishment completion message of the upper layer path and that of the lower layer path as the trigger without waiting for establishment of the lower layer path.例文帳に追加

上位レイヤパスのパス設定要求メッセージを次ホップノードに送出するときに、下位レイヤパスが確立されるまで待たず、上位レイヤパスおよび下位レイヤパスの双方のパス確立完了メッセージを並行して受信したことを契機に、パス確立完了メッセージを上位レイヤパスのパス設定要求メッセージの送出元に送信する。 - 特許庁

例文

In a nitride semiconductor element having an active layer between a first conductivity lower clad layer 13 and a second conductivity upper clad layer 14, first layers 25, 32 having a nitride semiconductor containing Al and In are provided for at least one of the lower clad layer and the upper clad layer.例文帳に追加

第１導電型の下部クラッド層１３と、第２導電型の上部クラッド層１４との間に、活性層を有する窒化物半導体素子において、前記下部クラッド層、上部クラッド層の少なくとも一方に、ＡｌとＩｎとを含む窒化物半導体を有する第１の層２５、３２が設けられていることを特徴とする窒化物半導体素子。 - 特許庁

A semiconductor LED comprises a lower cladding layer 31, active layer 32 formed on the upper part of one side of the lower cladding layer in sequence, upper cladding layer 33, a first electrode 34, and a second electrode 35 formed on a concavo-convex structural pattern region on the surface of the other side of the lower cladding layer.例文帳に追加

半導体発光素子において、下部クラッド層３１と、下部クラッド層の一側の上部に順次に形成された活性層３２、上部クラッド層３３及び第１電極３４と、下部クラッド層の他側の表面に形成された凹凸構造パターン領域上に形成された第２電極３５と、を備える半導体発光素子である。 - 特許庁

The lower insulating resin layer in use has the first insulating resin layer for insulation with small plastic deformation formed on an upper layer of a copper foil to a prescribed thickness and also has a thermosetting resin in a uncured or half-cured state formed as the second insulating layer on an upper surface of the first insulating resin layer to a prescribed thickness.例文帳に追加

前記下部絶縁樹脂層は銅箔の上面に所定厚みで塑性変形の小さい絶縁用の第１の絶縁樹脂層が形成され、該第１の絶縁樹脂層の上面に第２の絶縁樹脂層として所定の厚みで未硬化もしくは半硬化状態の熱硬化性樹脂が形成された構成のものを使用する。 - 特許庁

The process for producing a lamination comprises a step for forming an underlying layer by applying coating liquid for forming an underlying layer containing a polymeric material, and a step for forming an upper layer by applying coating liquid for forming an upper layer onto the underlying layer.例文帳に追加

本発明は、高分子材料を含有する下地層形成用塗工液を塗布することにより下地層を形成する下地層形成工程と、上記下地層上に上層形成用塗工液を塗布することにより上層を形成する上層形成工程とを有することを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The reflection electrode 24 electrically connected to the drain electrode 7 through a contact hole 11 formed in an interlayer insulation film 9 is formed in a two layer structure and an upper layer reflection electrode 24a disposed as an upper layer is formed by using Al and a lower layer reflection electrode 24b disposed as a lower layer is formed by using an alloy consisting essentially of Al.例文帳に追加

層間絶縁膜９に形成されたコンタクトホール１１を介してドレイン電極７と電気的に接続する反射電極２４を二層構造とし、上層に配置された上層反射電極２４ａをＡｌにて形成して、下層に配置された下層反射電極２４ｂをＡｌを主成分とする合金にて形成する。 - 特許庁

A magnetic memory comprises magnetization fixed layers 50a and 50b which have vertical magnetic anisotropy and in which a magnetization direction is fixed, an interlayer insulation layer 60, an underlying layer 40 formed on upper surfaces of the magnetization fixed layers 50a and 50b and the interlayer insulation layer 60, and a data storage layer 10 which is formed on an upper surface of the underlying layer 40 and has vertical magnetic anisotropy.例文帳に追加

磁気メモリが、垂直磁気異方性を有し、磁化方向が固定された磁化固定層５０ａ、５０ｂと、層間絶縁層６０と、磁化固定層５０ａ、５０ｂと層間絶縁層６０の上面に形成された下地層４０と、下地層４０の上面に形成された、垂直磁気異方性を有するデータ記憶層１０とを備えている。 - 特許庁

This authenticity identifying body 1 is formed by laminating the cholesteric liquid crystal layer 4 on the upper surface of a laminating body of which a colored pattern layer 3 is laminated on the upper or lower surface of a transparent base material 2, and on the lower surface, a hologram forming layer 5 and a reflecting metal layer 6 along a fine rugged pattern of the hologram forming layer 5.例文帳に追加

透明基材２の上面もしくは下面に着色パターン層３が積層された積層体の上面にコレステリック液晶層４、下面にホログラム形成層５およびホログラム形成層５の微細凹凸に沿った反射性金属層６を積層して真正性識別体１とすることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

The phase change memory device includes: a switching device and a storage node coupled therewith, wherein the storage node includes a lower electrode; a phase change layer formed on the lower electrode; a material layer formed on the upper of the phase change layer; and an upper electrode provided on the phase change layer surrounding the material layer.例文帳に追加

スイッチング素子及びそれに連結されたストレージノードを備える相変化メモリ素子において、ストレージノードは、下部電極と、下部電極上に形成された相変化層と、相変化層の上部に形成された物質層と、物質層周囲の相変化層上に備えられた上部電極と、を備えることを特徴とする相変化メモリ素子を提供する。 - 特許庁

By this, the bubbles, which are usually involved between the edge part of the lower layer and the upper layer because it is formed in a state that the edge of the lower layer is covered when forming the upper layer, are not involved, and the plasma display panel provided with the multi-layered structure dielectric layer having few involved bubbles is realized.例文帳に追加

このことにより、従来、上層を形成する際、下層のエッジを覆った状態に形成してしまうことにより、下層のエッジの部分と上層との間に巻き込んでしまう場合があった気泡を巻き込むことがなくなり、包含される気泡の少ない、多層構造の誘電体層を備えるプラズマディスプレイパネルを実現することができる。 - 特許庁

In the mouse pad formed by laminating a bridged polyethylene foaming body layer 2 on the surface of a bridged foaming body layer 1 using polyethylene group resin polymerized by using a metallocene group catalyst as a base material and thermo-compression molding the laminated layers, at least the upper part of the layer 2 is deformed and a resin layer is formed on it and a cloth pattern is formed on the upper surface of the resin layer.例文帳に追加

メタロセン系触媒を使用して重合したポリエチレン系樹脂を基材とする架橋発泡体層１の上に、架橋ポリエチレン発泡体層２を積層して熱圧成形したマウスパッドであって、架橋ポリエチレン発泡体層２の少なくとも上部は脱泡されて樹脂層が形成され、該樹脂層の上面に布目模様が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a semiconductor substrate 10, a memory element 12 formed on the semiconductor substrate 10, an interlayer insulating layer 26 formed at the upper part of the memory element 12, a light shielding layer 28 formed in overlap with the memory element 12 at the upper part of the interlayer insulating layer 26, and a reflection preventing layer 32 formed in the part lower than the light shielding layer 28.例文帳に追加

半導体装置は、半導体基板１０と、半導体基板１０に形成されたメモリ素子１２と、メモリ素子１２の上方に形成された層間絶縁層２６と、層間絶縁層２６の上方に、メモリ素子１２とオーバーラップして形成された遮光層２８と、遮光層２８よりも下方に形成された反射防止層３２と、を含む。 - 特許庁

A tunnel junction 10 is provided with a first ferromagnetic layer 12 having an upper surface with a terrain including a pair of dome-shaped areas 20 and 21 and a pair of intervention reducing areas 22, an insulating layer 14 formed on the first ferromagnetic layer 12 in such a way that its upper surface 18 is substantially flat, and a second ferromagnetic layer 16 on the insulating layer.例文帳に追加

トンネル接合(10)は１組のドーム形領域(20-21)と１組の介入低下領域(22)とを含む地形構造を有する上部表面をもつ第一強磁性層(12)と、上部表面(18)が実質的に平坦になるように第一強磁性層(12)の上に形成された絶縁層(14)と、絶縁層（１４）上の第二強磁性層（16）を備える。 - 特許庁

Subsequently, a current constriction layer 14 of p-type GaN is grown in a region other than the mask pattern 25 on the upper surface of the n-type contact layer 13.例文帳に追加