「upper-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

The magnetoresistive element 1 includes a structure in which an insulating layer 15 is laminated on a magnetization fixed layer 14 and a free magnetic layer 16 is laminated on the insulating layer 15, the magnetization fixed layer 14 having an oxygen-bonding layer having a thickness of two oxygen atoms or less, formed on its upper surface.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子１は、磁化固定層１４の上に絶縁層１５が積層され、絶縁層１５の上に自由磁性層１６が積層される構造を有する磁気抵抗効果素子であって、磁化固定層１４は、上面に酸素原子２原子分の厚さ以下の酸素結合層が形成される。 - 特許庁

The piezoelectric element of the present invention includes a substrate having a pair of opposed main surfaces, a lower electrode layer disposed on one main surface of the substrate, a piezoelectric layer disposed on the lower electrode layer, and an upper electrode layer disposed on the piezoelectric layer, the lower electrode layer being made of nickel acid lanthanum-based ceramics.例文帳に追加

本発明の圧電体素子は、一対の対向する主面を有する基板と、その基板の一方の主面上に配置した下部電極層と、その下部電極層上に配置した圧電体層と、その圧電体層上に配置した上部電極層とを有しており、下部電極層はニッケル酸ランタン系セラミックスからなる。 - 特許庁

An n-InP buffer layer 2, a GRIN-SCH-MQW active layer 3 and a p-InP spacer layer 4 are formed sequentially on an n-InP substrate 1 wherein the upper region of the n-InP buffer layer 2, the GRIN-SCH-MQW active layer 3 and the p-InP spacer layer 4 have a mesa stripe structure.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１上に順次ｎ−ＩｎＰバッファ層２、ＧＲＩＮ−ＳＣＨ−ＭＱＷ活性層３、ｐ−ＩｎＰスペーサ層４が積層され、ｎ−ＩｎＰバッファ層２の上部領域、ＧＲＩＮ−ＳＣＨ−ＭＱＷ活性層３およびｐ−ＩｎＰスペーサ層４はメサストライプ状の構造となっている。 - 特許庁

The upper magnetic layers 15 of the recording head includes a first layer 15a whose one pole surface contacts the gap layer 9, a second layer 15b whose one end contacts the other surface of the first layer 15a, and a third layer 15c whose one end contacts the other surface of the second layer 15b.例文帳に追加

記録ヘッドにおける上部磁極層１５は、磁極部分において一方の面が記録ギャップ層９に隣接する第１の層１５ａと、一方の面が第１の層１５ａの他方の面に隣接する第２の層１５ｂと、一方の面が第２の層１５ｂの他方の面に隣接する第３の層１５ｃとを含んでいる。 - 特許庁

The reflection film of the reflector is composed of an undercoating layer of a thickness 0.5 to 5 μm formed on the surface on the reflection surface side of a reflector substrate, a metallic thin-film layer laminated with a metallic thin film on the undercoating layer and a protective layer consisting of ceramics laminated on the upper layer of the metallic thin-film layer.例文帳に追加

リフレクタの反射膜を、リフレクタ基体の反射面側の表面に形成された０．５μｍ以上５μｍ以下の厚さのアンダーコート層と、該アンダーコート層の上層に金属薄膜が積層された金属薄膜層と、該金属薄膜層の上層に積層されたセラミックからなる保護層とからなる構成とする。 - 特許庁

A laminated film which includes a 1st insulating film formed of an organic film as a lower layer and a 2nd insulating film made of a hard mask material as an upper layer is used as an insulating film which covers the inter-layer insulating film between a capacitor layer formed of a dielectric film or ferroelectric film and a wiring layer formed thereupon or the wiring layer.例文帳に追加

誘電体膜または強誘電体膜からなるキャパシタ層の上部に形成される配線層との間の層間絶縁膜あるいは配線層を覆う絶縁膜として、有機膜で形成された第一の絶縁膜を下層に、ハードマスク材からなる第二の絶縁膜を上層に配置した積層膜を用いる。 - 特許庁

The substrate for the disk is provided with: a disk-like flat surface substrate; a base layer formed on the flat surface substrate and the coating layer layered on the base layer by applying a coating liquid on the base layer; and an annular weir part protruding to the upper part of the base layer is provided at the peripheral edge part of the base layer.例文帳に追加

本発明にかかるディスク用基板は、ディスク状の平面基板と、平面基板上に形成された下地層と、下地層上に塗布液を塗布することで積層されてなる塗布層とを備え、下地層の周縁部には該下地層の上方に突出する環状の堰部が設けられている。 - 特許庁

The nitride based semiconductor laser diode is provided with a lower contact layer 110, a lower clad layer 120, an active layer 140, and an upper clad layer 170 grown on a substrate 100 to be stacked successively and is characterized in that the refractive index of the lower clad layer 120 is equal to or greater than the refractive index of the lower contact layer 110.例文帳に追加

基板１００上に成長されて下部コンタクト層１１０、下部クラッド層１２０、活性層１４０、上部クラッド層１７０が順次に積層されたものであって、下部クラッド層１２０の屈折率が、下部コンタクト層１２０の屈折率と等しいか大きいことを特徴とする窒化物系半導体レーザダイオードである。 - 特許庁

After a multiple resist layer 3 having at least two resist layers including a lift-off resist layer 1 as the lowermost layer is exposed, the resist is developed with a solution and subjected to dry etching to remove the extending part 4 of the lift-off resist layer 1 from the projected region of the upper resist layer 2 constituting the multiple resist layer 3.例文帳に追加

最下層がリフトオフ用レジスト層１からなるとともに、少なくとも二層のレジスト層からなる積層レジスト層３を露光したのち、溶液現像し、次いで、前記リフトオフ用レジスト層１の前記積層レジスト層３を構成する上層レジスト層２から投影的にはみ出した部分４をドライエッチングによって除去する。 - 特許庁

After a first electrode layer 34 is formed on the second antiferromagnetic layer 31, a step of forming a second electrode layer 36 from the internal end faces 31a and 34a of the second antiferromagnetic layer 31 and first electrode layer 34 to the upper surface of a multilayer film 40 through another layer is performed.例文帳に追加

第２反強磁性層３１上に第１電極層３４を形成し、この第１電極層３４とは別工程で、前記第２反強磁性層３１及び第１電極層３４の内側端面３１ａ、３４ａ上から多層膜４０の上面にかけて他層を介して第２電極層３６を形成する。 - 特許庁

The second crystal control layer 5 also functions to absorb the concave and convex of the upper surface of the first crystal control layer 4 formed under the layer 5, and consequently the orientation becomes uniform in a direction due to an effect of the second crystal control layer 5, and the intermediate layer 6 having good crystallinity grows on the second crystal control layer 5.例文帳に追加

第二結晶制御層５は、その下の第一結晶制御層４の上面の凹凸を吸収するようにも機能するので、第二結晶制御層５の作用によって配向が一方向に揃えられて良好な結晶性を有する中間層６が第二結晶制御層５上に成長する。 - 特許庁

This thin film laminate is formed by laminating a laminate unit consisting of at least a first thin film layer and a second thin film layer at least twice wherein the laminated area of at least one of the first thin film layer and the second thin film layer is gradually decreased from the lower layer toward the upper layer.例文帳に追加

少なくとも第１薄膜層と第２薄膜層とからなる積層単位を少なくとも２回以上繰り返して積層してなる薄膜積層体であって、前記第１薄膜層及び前記第２薄膜層のうちの少なくとも一方の積層面積を、下層から上層に向かって逓減させる。 - 特許庁

The memory cell transistor MTr includes: a charge storage layer 23 provided above a P-type semiconductor substrate 10 and storing the electric charge: a semiconductor layer 25 formed on a top surface of the charge storage layer 23 via a block insulating layer 24; and a silicide layer 26 provided on the upper surface of the semiconductor layer 25.例文帳に追加

メモリセルトランジスタＭＴｒは、Ｐ型半導体基板１０の上方に形成され且つ電荷を蓄積する電荷蓄積層２３と、電荷蓄積層２３の上方にブロック絶縁層２４を介して形成された半導体層２５と、半導体層２５の上面に形成されたシリサイド層２６とを備える。 - 特許庁

The pearl pigment contains 1 or 2 or more of the laminated unit where the lowest layer of a multi-coated layer is a metal oxide layer containing a metal selected from the group consisting of Ce, Sn and Fe, and the multi-coated layer comprises a metal oxide layer containing Sn, and a metal oxide layer containing Ti which comes into contact with the upper surface thereof.例文帳に追加

多層被覆層の最下層が、Ｃｅ、Ｓｎ、およびＦｅからなる群から選択される金属を含む金属酸化物層であり、該多層被覆層はＳｎを含む金属酸化物層とその上面に接するＴｉを含む金属酸化物層とからなる積層単位を１または２以上含む虹彩顔料。 - 特許庁

In the catalyst for exhaust gas control consisting of an adsorbing layer 2 containing an adsorbent for HC and a catalyst layer 3 formed on the surface of the adsorbing layer 2, the amount of the catalyst metals carried is gradually increased from the lower surface side of the catalyst layer 3 in contact with the adsorbing layer 2 to the upper surface side of the catalyst layer 3.例文帳に追加

HC吸着材を含む吸着層２とその表面に形成された触媒層３とよりなる排ガス浄化用触媒において、触媒層３の吸着層２に接する下表面側から触媒層３の上表面側にかけて触媒金属の担持量が漸増するようにした。 - 特許庁

This nitride-based light emitting element comprises: an n-clad layer disposed on a single crystal wafer; a porous layer formed by subjecting the n-clad layer from the upper surface to a predetermined depth to surface treatment in a mixed gas atmosphere of HCl and NH_3; and an activated layer and p-clad layer disposed on the porous layer in this order.例文帳に追加

単結晶ウェハ上に形成されたｎ−クラッド層と、ｎ−クラッド層の上面から所定深さまでＨＣｌとＮＨ_３との混合ガス雰囲気で表面処理して形成された多孔性層と、多孔性層上に順次に形成された活性層及びｐ−クラッド層と、を備える窒化物系発光素子である。 - 特許庁

This multilayered optical recording medium is constituted so that the lower optical recording layer 11 formed on a substrate 10 is stuck to the flexible film 15, on which an upper optical recording layer 13 is stuck using an adhesive layer 14, by using another adhesive layer 12 in a state in which the layer 11 faces opposite to the layer 13.例文帳に追加

下層光学記録層１１が形成された基板１０と、上層光学記録層１３が接着剤層１４により接着された可撓性フイルム１５とが、下層光学記録層と上層光学記録層が対向する状態で接着剤層１２により貼り合わされている構成とする。 - 特許庁

In an organic EL device 1, a positive electrode layer 12 made of ITO, a hole-injection layer 13 made of a polymeric material, a luminous layer 15 made of the polymeric material, an electron injection layer 16 and a cathode layer 17 are laminated in this order on an upper layer side of a substrate 11 to form an organic EL element 10.例文帳に追加

有機ＥＬ装置１において、有機ＥＬ素子１０は、基板１１の上層側に、ＩＴＯからなる陽極層１２、高分子材料からなる正孔注入層１３、高分子材料からなる発光層１５、電子注入層１６、および陰極層１７がこの順に積層されている。 - 特許庁

The memory element comprises an oxide layer formed by a resistance-transformed substance, a lower electrode, an oxide layer formed on the lower electrode including a transition metal oxide, nano-dots formed in the oxide layer and integrating the current paths in the oxide layer into a single unit, and an upper layer formed on the oxide layer.例文帳に追加

抵抗変換物質で形成された酸化層を備えるメモリ素子であって、下部電極と、下部電極上に遷移金属酸化物を含んで形成された酸化層と、酸化層内に形成され、酸化層内部のカレントパスを単一化するナノドットと、酸化層上に形成された上部電極とを備えるメモリ素子である。 - 特許庁

The organic EL element 127 is formed, by laminating a lower electrode 504 formed of a light-shielding material, an organic layer 506 having at least a light-emitting layer, and an upper electrode 508, in this order, starting from the lower layer side.例文帳に追加

有機ＥＬ素子１２７は、遮光性材料からなる下部電極５０４、少なくとも発光層を備えた有機層５０６、および上部電極５０８が、下層側からこの順に積層されている。 - 特許庁

The upper part of the buffer layer 1 (111) is provided with a buffer layer 2 (112) having a refractive index equal to or smaller than that of the substrate 101, and the buffer layer 2 (112) is formed by including a contact with the side face of the groove 105.例文帳に追加

バッファ層１（１１１）の上部は、基板１０１の屈折率以下の屈折率を有するバッファ層２（１１２）を備え、バッファ層２（１１２）は、溝１０５の側面への接触を含み形成される。 - 特許庁

The couplers 51, 56, 57, and 58 in the lower connection layer 5 are attached to a base plate 2 by screws from above, and the couplers 41, 42, 43, and 44 in the upper connection layer 4 are attached to the couplers 51, 56, 57, and 58 in the lower connection layer 5 by screws from above.例文帳に追加

下接続層5の継手51,56,57,58が基板2に上方からのねじにより取り付けられ、上接続層4の継手41,42,43,44が下接続層5の継手51,56,57,58に上方からのねじにより取り付けられている。 - 特許庁

Subsequently, first and second glass pastes are printed on both sides of the sintered sheet and dried and further burned to form a glass layer 14 having a lower glass layer 14a and an upper glass layer 14b.例文帳に追加

次いで焼結シートの両面に第１及び第２ガラスペーストを印刷して乾燥し更に焼成することにより下ガラス層１４ａ及び上ガラス層１４ｂを有するガラス層１４を形成する。 - 特許庁

In a third region adjacent to the second region, a control gate contact layer 12 is formed in an upper part of a layered product including layers identical to the n+ type drain layer 3 and the p-type semiconductor layer 4.例文帳に追加

第２領域に隣接する第３領域には、ｎ＋型ドレイン層３及びｐ型半導体層４と同一層を含む積層体の上部にコントロールゲートコンタクト層１２が形成される。 - 特許庁

The liquid absorbable core 51 includes an upper layer liquid absorber 101 and a lower layer liquid absorber 131 and slits 136 and 137 are formed to the lower layer liquid absorber 131 on the side of the back sheet 41 along the longitudinal direction thereof.例文帳に追加

吸液性コア５１は、上層吸液体１０１と、下層吸液体１３１と、を含み、その下層吸液体１３１のバックシート４１側には、長手方向に沿って、スリット１３６、１３７が形成されている。 - 特許庁

This polymer optical waveguide 50 is provided with a lower clad layer 18, a band-like core layer 22, and an upper clad layer 24 respectively consisting of a polymeric organic compound on a substrate 16.例文帳に追加

本高分子光導波路５０は、それぞれ、高分子有機化合物からなる下部クラッド層１８、帯状のコア層２２、及び上部クラッド層２４を基板１６上に備えた高分子光導波路である。 - 特許庁

In the vertical diode 1, an N^+-type layer 11, an N^--type layer 12, and a P^+-type layer 13 are stacked in this order on a lower electrode film 10, and an upper electrode film 20 is provided thereon.例文帳に追加

縦型ダイオード１において、下部電極膜１０上にＮ^＋型層１１、Ｎ^−型層１２及びＰ^＋型層１３をこの順に積層させ、その上に上部電極膜２０を設ける。 - 特許庁

Consequently, the lead-out electrode layer 8 can be formed thickly and even when the lead-out electrode layer 8 is formed thickly, the height of the step on the side of an upper shield layer 10 can be suppressed small.例文帳に追加

これにより、引き出し電極層８を厚く形成することができると共に、引き出し電極層８を厚く形成しても、上部シールド層１０側の段差を小さく抑えることができる。 - 特許庁

A section corresponding to the chip arrangement section 13 in the cutoff layer 14 is removed, and the UV resin layer 16 is positioned at an upper portion of the cutoff layer 14 to compose an open storage chamber 18.例文帳に追加

遮断層１４の中のチップ配置区１３に対応する区域を除去し、ＵＶ樹脂層１６を遮断層１４の上方に位置させることにより開放的な収容室１８を構成する。 - 特許庁

The upper electrode 11 is brought into contact with the intermediate electrode 12, is brought into contact with a first layer 11a constituted of an Al alloy and the Au bump 10, and has the two layer structure of a second layer 11b constituted of Al.例文帳に追加

上部電極１１は、中間電極１２と接し、Ａｌ合金からなる第一層１１ａ、及び、Ａｕバンプ１０と接し、Ａｌからなる第二層１１ｂの２層構造を有する。 - 特許庁

This insulation sheet 1 used for waterproof work is a laminate made of an upper adhesive film layer 11, a fiber layer 12 and a lower adhesive film layer 13 laminated integrally in the order from the top to the bottom.例文帳に追加

防水施工用絶縁シート１は、上面側から順に、上フィルム状接着剤層１１、繊維層１２、下フィルム状接着剤層１３が積層一体化されてなることを特徴とする。 - 特許庁

Further, the lower layer 14 can be formed by thermal-spraying the CoNiCrAlY alloy powder and the upper layer 16 as the other layer can be formed by thermal-spraying the hollow ZrO_2 powder.例文帳に追加

なお、下層１４は、ＣｏＮｉＣｒＡｌＹ合金の粉末を溶射することで形成することができ、一方の上層１６は、中空ＺｒＯ_2の粉末を溶射することで形成することができる。 - 特許庁

The floor sheet material 1 laminating a transparent or translucent resin sheet layer 2, a decorative layer 3 and a reinforcing layer 4 thereon from the upper surface side in sequence is used to directly stick it on the existing floor material 6.例文帳に追加

上面側から順番に透明或いは半透明の樹脂シート層２と、装飾層３と、補強層４とを積層した床シート材１を用い、これを既設の床材６上に直貼りした。 - 特許庁

The original plate for lithographic printing comprises a hydrophilic photosensitive layer containing a hydrophilic photothermal conversion agent in itself or at least on its surface on a base plate, and a hydrophobic thin layer provided as an upper layer.例文帳に追加

それ自体又は少なくとも表面が親水性の光熱変換剤を含有する親水性の感光層を基板上に設け、さらに疎水性の薄層を上層として設けた平版印刷用原板。 - 特許庁

Reference information indicating an upper layer, a lower layer and a slot of the same layer is set, and a flag is set without changing the reference information to delete or register extracted information.例文帳に追加

本発明は、上位階層、下位階層、同一階層のスロットを指し示す参照情報を設定して、この参照情報を変更することなくフラグを設定して抜粋情報を削除し、また登録する。 - 特許庁

A TTF layer 16 is formed to coat the upper section of the p-type silicon board 111 and the n-type impurity doping regions 111a, and the Mg_XZnO layer 13 is formed on the TTF layer 16.例文帳に追加

ｐ型シリコン基板１１１上及びｎ型不純物ドープ領域１１１ａを覆うように、ＴＴＦ層１６が形成され、ＴＴＦ層１６上にはＭｇ_ＸＺｎＯ層１３が形成されている。 - 特許庁

A phosphorescent printing layer 120 is formed with ink containing a phosphorescent pigment on the upper face of a substrate film 110, and a colored transparent printing layer 130 is formed with colored transparent ink on this phosphorescent printing layer.例文帳に追加

基材フィルム１１０の上面に、蓄光顔料を含むインキで蓄光印刷層１２０を形成し、この蓄光印刷層上に、着色透明インキで着色透明印刷層１３０を形成する。 - 特許庁

To specify false detection parts of a retina layer boundary of the false detection parts being caused by the fact that the retina layer boundary is discontinued at upper and lower ends of an image in detection of the retina layer boundary from a retina tomographic image.例文帳に追加

網膜断層像からの網膜層境界検出において、網膜層境界が画像の上下端で途切れているために生じた網膜層境界の誤検出箇所を特定する。 - 特許庁

After forming the inter-pixel insulating film 17, the upper metal layer 15b of the source/drain electrode layer 15 is selectively removed from the region 10A, thereby exposing the surface of the electrode layer 15a.例文帳に追加

画素間絶縁膜１７の形成後、領域１０Ａにおいて、ソース・ドレイン電極層１５のうち上部金属層１５ｂを選択的に除去することにより、電極層１５ａの表面を露出させる。 - 特許庁

A copper wiring layer 114 becoming the uppermost layer of a seal ring 110 is formed in an interlayer insulation film 109 on a silicon substrate 101, and an aluminum wiring layer 141 covering its upper surface is formed.例文帳に追加

シリコン基板１０１上の層間絶縁膜１０９に、シールリング１１０の最上層となる銅の配線層１１４を形成し、その上面を覆うアルミ配線層１４１を形成する。 - 特許庁

In a drying furnace, the negative electrode paste layer NA20 is dried by blowing hot air H from a hot-air nozzle 1301 toward the negative electrode paste layer NA20 that is a non-dried upper layer.例文帳に追加

乾燥炉の内部では，熱風ノズル１３０１から熱風Ｈを未乾燥の上層である負極ペースト層ＮＡ２０に向けて噴き付けることにより負極ペースト層ＮＡ２０を乾燥させる。 - 特許庁

A conductor layer 2 is formed as a circuit pattern on a base insulating layer 1, a terminal 3 is formed thereon, and a supporting column 4 is formed in the vicinity of the terminal on the upper surface of the base insulating layer 1.例文帳に追加

ベース絶縁層１上に導体層２を回路パターンとして形成し、その上に端子部３を形成し、かつ、ベース絶縁層１の上面には、端子部の近傍に、支柱体４を形成する。 - 特許庁

In this touch panel, a transparent adhesive layer 3 as a pressure-sensitive adhesive layer is filled in a gap between an upper transparent electrode substrate 1 and a lower transparent electrode substrate 2, thereby eliminating an air layer.例文帳に追加

上部透明電極基材１及び下部透明電極基材２との間の隙間に感圧接着層としての透明接着層３が充填されて、空気層を無くすように構成している。 - 特許庁

In a manufacturing method for the thin film magnetic head, the thin film coil 13 and the second layer 10b are sequentially formed on the magnetic layer in this order which becomes the first layer 10a with a totally flat upper surface.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの製造方法では、全体的に平坦な上面を有し第１の層１０ａとなる磁性層の上に、薄膜コイル１３と第２の層１０ｂを、この順に形成する。 - 特許庁

Furthermore, photosensitive conductive paste is applied to the surface of the insulating layer 23 like a film, then exposed to light through a photomask and is developed for the formation of an upper conductor pattern layer 1b on the lower conductor pattern layer 1a.例文帳に追加

さらに、感光性導電ペーストを膜状に付与した後、再びフォトマスクを使用して露光及び現像して下部導体パターン層１ａの上に上部導体パターン層１ｂを形成する。 - 特許庁