「w path」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Furthermore, a power maximum path detector 31 selects a path P maximizing power based on the reference value w(k).例文帳に追加

また、電力最大パス検出器３１は、基準信号Ｗ（ｋ）に基づいて、電力が最大となるパスＰを選択する。 - 特許庁

Namely, a conveying path for the substrate W before the exposure treatment and a conveying path for the substrate W after the exposure treatment are secured independently of each other in the interface block 15.例文帳に追加

すなわち、インターフェースブロック１５において、露光処理前の基板Ｗの搬送経路と露光処理後の基板Ｗの搬送経路とがそれぞれ独立に確保されている。 - 特許庁

On the basis of expression derived from an inequality expression for a rectangle comprising two vertices v and w and the two vertices of two landmarks proximate to the two vertices v and w, routines for computing upper and lower limits of the shortest length of the path, corresponding to the vertices v and w, are prepared.例文帳に追加

また、２つの頂点v,wとそれにそれぞれ近接する２つのランドマークの２つの頂点からなる四角不等式から導かれる式に基づき、v,wに対応する最短経路長の上下限値を計算するルーチンが用意される。 - 特許庁

The air suction device 5 stops the movement of the workpiece W by drawing the workpiece W toward the conveyance path 3 by air suction.例文帳に追加

エア吸引装置５は、エア吸引によってワークＷを搬送路３に向けて引き付けることで、ワークＷの移動を停止させる。 - 特許庁

When the open/close role object Yb installed closely facing the lower open end of the transparent communication path W is worked to open, the performance display is carried out on the display means covering the locations behind the transparent communication path W.例文帳に追加

その透明連絡路Ｗの下手開口端に臨設した開閉役物Ｙｂが開動作するときに、透明連絡路Ｗの背後位置を表示手段上で演出表示する。 - 特許庁

The means 30 transfers wafers W via a first transfer path 30A, and the means 40 transfers wafers W via a second transfer path 40A.例文帳に追加

第１の搬送手段３０は第１の搬送経路３０Ａを通じてウェハＷを搬送し，第２の搬送手段４０は第２の搬送経路４０Ａを通じてウェハＷを搬送する。 - 特許庁

The cleaning tool 100 is fed from the feeding port R1 of a conveying path R and carried to the conveying path R similarly to a paper sheet W.例文帳に追加

紙葉類Ｗと同様に搬送路Ｒの投入口Ｒ１から清掃具１００を投入して搬送路Ｒに搬送させる。 - 特許庁

The cooler 3 is configured by internally providing a cooling medium flow path for circulating a cooling medium W.例文帳に追加

冷却器３は、内側に冷却媒体Ｗを流通させる冷媒流路を設けてなる。 - 特許庁

The cooling wind (W) taken in from an intake port (12A) by a cooling fan (14A) is introduced through a wind guide path (17) on the intake side near to right below the liquid crystal panels (9A to 9C).例文帳に追加

冷却ファン(14A)により吸気口(12A)から取り込まれた冷却風(W)は、吸気側の導風路(17)を通って液晶パネル(9A〜9C)の真下付近まで導かれる。 - 特許庁

After an orienter 21 measures the position of a wafer W, the wafer W is conveyed at a first conveyance speed along a prescribed path while loaded on a fork 27.例文帳に追加

オリエンタ２１でウエハＷの位置測定を行った後、フォーク２７上にウエハＷを載置した状態で所定の経路を第１の搬送速度で搬送する。 - 特許庁

Thus, the piston 9 conforms with the communication path 14 so that the workpiece W is sucked and supported by the negative pressure suction force.例文帳に追加

そして、ピストン９が連通路１４に合致することで負圧吸引力でワークを吸着支持する。 - 特許庁

When a work W conveyed by a carrier G comes to the lower conveying path Hd through the work conveying path Ha of the pretreating process A, the turning around body for supporting a rail Y achieves 180 degree turn on the face perpendicular to the conveying path and the work conveying path Hd is connected to the work conveying path Hc so that the work W may be fed to the drying process C.例文帳に追加

そして前処理工程Ａのワーク搬路Ｈａを通してキャリアＧで搬送されたワークＷが下方のワーク搬路Ｈｄまで来ると、レール支持反転体Ｙを搬路に対して直交する面内で１８０度反転させ、ワーク搬路Ｈｄを乾燥工程Ｃのワーク搬路Ｈｃに接続してワークＷを乾燥工程Ｃに送り込めるようにする。 - 特許庁

The advancing/retreating member 2 is provided at least on one of both sides holding a transfer path Ky of the load W, and advances/retreats along the transfer path Ky.例文帳に追加

進退部材２は、荷物Ｗの移載経路Ｋｙを挟む両側のうちの少なくとも片側に設けられ、移載経路Ｋｙに沿って進退する。 - 特許庁

The light path division portion 87 divides a light path LP11 of light emitted from the light source 81 to the side of the substrate W into light paths LP21-LP23.例文帳に追加

光路分割部８７は、光源８１から基板Ｗ側に出射された光の光路ＬＰ１１を、光路ＬＰ２１〜ＬＰ２３に分割する。 - 特許庁

In the light irradiation face W, the light in the optical path A and the light in the optical path B are superimposed, and the light in which the part with lower illuminance in the optical path A is compensated with the light in the optical path B, and condensed to be a linear shape with a satisfactory uniformity can be obtained.例文帳に追加

光照射面Ｗでは、光路Ａ光と光路Ｂの光とが重なり、光路Ａの照度の低い部分を、光路Ｂの光が補い均一度の良い線状に集光された光が得られる。 - 特許庁

A path selector 106 sections the delay profile into detection windows W corresponding to unit midamble shift quantity W, and selects a peak not less than a predetermined value appearing in each of the detection windows as a path from each communication terminal.例文帳に追加

パス選択部１０６では、遅延プロファイルを単位ミッドアンブルシフト量Ｗに対応した検出窓Ｗに区切り、各検出窓内に現れる所定値以上のピークを各通信端末からのパスとして選択する。 - 特許庁

A second transport path 5 for sequentially putting the article W in each pocket 24 of the rotating star wheel 2 is connected to the downstream of a first transport path 1 for transporting two or more articles W put in the erected state close together.例文帳に追加

起立状態で密集する複数の物品Ｗを搬送する第１搬送路４の下流に、順次物品Ｗを回転するスターホイール２の各ポケット２４に投入する第２搬送路５を連設する。 - 特許庁

Then, the pressurized water W is supplied to the sequence forming path 45 by a first pressurized water supply means 3 and the sequence part is sent out from the sequence forming path 45 to a supply path 48.例文帳に追加

そして、第１加圧水供給手段３によってシーケンス形成通路４５に加圧水Ｗを供給して、シーケンス部をシーケンス形成通路４５から供給通路４８に送出する。 - 特許庁

Also, the pressurized water W is supplied from a first pressurized water path 3 to the sequence forming path 45 and is sucked and discharged by a vacuum means 5 to clean the sequence forming path 45.例文帳に追加

また、第１加圧水通路３からシーケンス形成通路４５に加圧水Ｗを供給するとともにバキューム手段５により吸引して排出し、シーケンス形成通路４５を洗浄する。 - 特許庁

The temporary placing table 4 is provided in the transport path of the loader 3 for temporarily placing the work W.例文帳に追加

仮置き台４は、ローダ３の搬送経路中に設けられ、ワークＷを一時的に置くためのものである。 - 特許庁

A test pressure specified by a pressure control valve 2 is introduced in an object W to be inspected via a pressure introducing path 3L.例文帳に追加

圧力制御弁２で設定したテスト圧を、圧導入路３Ｌを経て検査対象Ｗに導入する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes an immersion exposure unit 50 formed on optical path between projection optical system 40 and a substrate W.例文帳に追加

投影光学系４０と基板Ｗとの間の光路上に形成された液浸露光ユニット５０を備える。 - 特許庁

Then, when working path data is prepared, the working tool 6 performs working demonstration of the workpiece W on the monitor.例文帳に追加

そして、加工経路データを作成すると、モニター上で加工ツール６がワークＷに対して加工デモを行う。 - 特許庁

An encoder 51 for detecting the rotating speed of the chain 24 is installed in the neighborhood of a coin path W.例文帳に追加

硬貨通路Ｗの近傍にはチェーン２４の回転速度を検出するエンコーダ５１を設けるようにした。 - 特許庁

An atmosphere in a space 40 above the wafer W is discharged outside through a gas flow path 36.例文帳に追加

ウエハＷの上方の空間４０内の雰囲気は、気体流通路３６を介して外部へ排出される。 - 特許庁

A liquid W such as water is stored at the U-shape section 18a portion of the pressure guide path 18, and an air reservoir 18b is formed between the liquid W and the pressure sensor chip 13.例文帳に追加

圧力導入路１８のＵ字状部１８ａ部分に、水等の液体Ｗを収容し、圧力センサチップ１３との間に空気溜り１８ｂを形成する。 - 特許庁

The entire substrate W is in a levitated state and then transferred by a substrate transfer chuck 8 for retaining and moving on the levitation transfer path the levitated substrate W.例文帳に追加

基板Ｗは全面が浮上状態となり、浮上した基板Ｗを保持して浮上搬送路上を移動せしめる基板搬送チャック８により搬送される。 - 特許庁

This accumulator for temporarily storing a plurality of articles W supplied from a carrying means on a carrying path 11 is provided with an aligning mechanism 12 provided at the downstream end of the carrying path 11 and advancing and retreating the articles W stored in the carrying path 11 to align them in a plane state.例文帳に追加

搬送手段により供給される複数の物品Ｗを搬路１１上に一時滞留しておくアキュームレーターであって、搬路下流端部に設けられ、この搬路１１上に滞留する物品Ｗを進退させて平面状に整列させる整列機構１２を備える。 - 特許庁

Moreover, the third suction path 23a is closed by a treatment object W placed on the top surface of the dielectric plate 23.例文帳に追加

さらに、誘電体板２３の上面に載置された被処理物Ｗによって、第３吸引路２３ａが塞がれている。 - 特許庁

The side of a surface to be treated of the wafer W of the flow path is formed as a gas discharge port 35 or an exhaust port 36.例文帳に追加

この流路のウエハＷの被処理面側は、ガス吐出口３５または排気口３６として形成される。 - 特許庁

The second conducting path 209 is provided on a surface of the film 7, and extends from one end to the other end in a width direction W.例文帳に追加

第２の導電路２０９はフィルム７の表面に設けられ、幅方向Ｗの一端から他端へ延びる。 - 特許庁

A device for producing pre-determined products from fluid in a reaction path 1 where fluid is passed to the reaction path 1 via a passage 13 is characterized in that a minimum width T in the reaction path 1 is not more than 1 mm and a maximum width W in the reaction path 1 fulfills the relation: W≥2T.例文帳に追加

流体を流路１３を経由して、反応路１に流通させ、該反応路１内にて、前記流体から所定の生成物を生成せしめるための生成物製造装置において、前記反応路１における最小幅Ｔが１ｍｍ以下であり、前記反応路における最大幅Ｗに対して、Ｗ≧２Ｔを満たすことを特徴とする。 - 特許庁

The inside of a sequence forming path 45 is decompressed, the sample material S, air A and pressurized water W are supplied in the order, and a sequence part comprising the order of the pressurized water W, the air A, the sample material S, the air A and the pressurized water W is formed.例文帳に追加

シーケンス形成通路４５内を減圧して供試材Ｓ、空気Ａ、加圧水Ｗを順番に供給し、加圧水Ｗ、空気Ａ、供試材Ｓ、空気Ａ、加圧水Ｗの順番からなるシーケンス部を形成する。 - 特許庁

The passing part 5 has a first path 60 where a wafer W passes when it is carried from the interface 4 to the exposure unit 6, and a second path 61 where the wafer W passes when it is carried from the exposure unit 6 to the interface 4.例文帳に追加

受け渡し部５は，インタフェイス部４から露光処理装置６にウェハＷが搬送される際に通過する第１の経路６０と，露光処理装置６からインタフェイス部４にウェハＷが搬送される際に通過する第２の経路６１とを有する。 - 特許庁

The carrier base 124 upon its downward movement is positioned in a transfer path for transfer of a wafer W to a first vacuum processing chamber 108 and exchange the wafer W with the arm 106.例文帳に追加

降下時の載置台１２４は，第１真空処理室１０８にウェハＷを搬送する搬送経路中に配置され，搬送アーム１０６との間でウェハＷの受け渡しが行われる。 - 特許庁

The susceptor 2 has a communicative path 20 which communicates a space 223 formed between the substrate wafer W and susceptor 2 when the wafer W is placed on the susceptor 2 to the outside of the susceptor 2.例文帳に追加

このサセプタ２は、基板ウェーハＷが載置された際に基板ウェーハＷおよび該サセプタ２の間で形成される空間部２２３と該サセプタ２外部とを連通する連通路２０を有する。 - 特許庁

A heating medium circulation circuit C3 includes a heater 24 for heating the medium to a temperature higher than a heating set temperature required by the load W, supplies a heated medium to the load W through a third supply flow path 26 and returns the medium supplied to the load W through a forth return flow path 37.例文帳に追加

加熱媒体循環回路Ｃ３は、負荷Ｗの要求する加熱設定温度よりも高温となるまで媒体を加熱するヒータ２４を有し、第３供給流路２６を介して加熱された媒体を負荷Ｗに供給し、第４戻り流路３７を介して負荷Ｗに供給された媒体を返還する。 - 特許庁

N-poles are formed on the surface of one magnetic path 6b continuously in the workpiece W transporting direction.例文帳に追加

一方の磁路６ｂの表面には、ワークＷの搬送方向に沿って連続してＮ極の磁極の極性が形成されている。 - 特許庁

The circulation path 3 for circulating hot water W by the circulating pump 4 is arranged between the bathtub 1 and the water heater 2.例文帳に追加

浴槽１と給湯機２との間に循環ポンプ４によって湯水Ｗを循環させる循環路３が配設されている。 - 特許庁

On the surface of the other magnetic path 6c, S-poles are formed continuously in the workpiece W transporting direction.例文帳に追加

他方の磁路６ｃの表面にはワークＷの搬送方向に沿って連続してＳ極の磁極の極性が形成されている。 - 特許庁

The substrate (W;11) is movable along at least one path approximately parallel to the surface of the substrate with respect to the sensor.例文帳に追加

基板（Ｗ；１１）は、センサに対して基板の表面にほぼ平行な少なくとも１つの路に沿って移動可能である。 - 特許庁

The electrodes 12, 13, 22, and 23 should be arranged outside the movement path W so that the driving of the moving unit 45 is not blocked.例文帳に追加

電極１２、１３、２２、２３は移動体４５の駆動を阻害しないよう、その移動経路Ｗの外に配置するものとする。 - 特許庁

A tube 1 through which water W absorbing latent heat is piped in corrugated shape in a path of the combustion gas G exhausted.例文帳に追加

排気される燃焼ガスＧの経路に潜熱を吸収する水Ｗが流通されるチューブ１が波形に配管されている。 - 特許庁

When a hindrance occurs, a trouble avoidance control means 14 changes the relation between the labels in the label table T and switches between the working path W and the backup path P, to control hindrance avoidance.例文帳に追加

障害回避制御手段１４は、障害発生時、ラベルテーブルＴのラベルの対応付けを変更し、現用パスＷと予備パスＰとを切り替えて、障害回避の制御を行う。 - 特許庁

When the wafer passes in the first path 60, the pressure in the first path 60 is reduced and impurities adhering to the wafer W are removed by suction force.例文帳に追加

そして，ウェハＷが第１の経路６０内を通過する際に第１の経路６０内が減圧され，その吸引力等によりウェハＷに付着した不純物が除去される。 - 特許庁