「w path」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

While processing the workpiece W, the control unit 12 controls a relative movement path of the laser light and the workpiece W based on the intensity of reflected light measured by the light intensity measuring device 11.例文帳に追加

制御部１２は、被加工物Ｗの加工中に光強度測定器１１で測定された反射光強度に基づいて、レーザ光および被加工物Ｗの相対移動経路を制御する。 - 特許庁

The susceptor 2B has a communication path 20B for communicating with the outside of a susceptor 2 and a space 223 formed between the substrate wafer W and the susceptor 2 when the substrate W is placed.例文帳に追加

このサセプタ２Ｂは、基板ウェーハＷが載置された際に基板ウェーハＷおよび該サセプタ２の間で形成される空間部２２３と該サセプタ２外部とを連通する連通路２０Ｂを有する。 - 特許庁

To provide a W-CDMA device for improving reception characteristics even when only one path is detected.例文帳に追加

パスが一つしかないように検出される場合でも、受信特性を改善することが可能なＷ−ＣＤＭＡ装置を提供する。 - 特許庁

The second conducting path 209 is provided on the surface of the film 7, and extends from one end to the other end in a width direction W of the elastic body 206.例文帳に追加

第２の導電路２０９はフィルム７の表面に設けられ、弾性体２０６の幅方向Ｗの一端から他端へ延びる。 - 特許庁

Transferring the inverted wafer frame W with its flat surface set along the vertical direction requires the area of the transfer path that is at least the product of the transfer distance of the wafer frame W and the thickness of the wafer frame W, thereby the area required for the transfer path can be reduced to be smaller than the area in a conventional case.例文帳に追加

すなわち、本実施の形態では、ウェーハフレームＷの平面を鉛直方向に沿わせた状態に倒立させて搬送するので、搬送経路は、少なくとも、ウェーハフレームＷの移動距離とウェーハフレームＷの厚さとを乗じた面積だけで済むので、従来よりも搬送経路に要する面積を小さくすることができる。 - 特許庁

In this branch equipment 9, an object W to be carried on the carrier path 2 by a carrying means 1 is branched by a branch carrying means 3 provided on sides at prescribed portions of the carrier path 2.例文帳に追加

搬送手段１により搬送経路２上で搬送する被搬送物Ｗを、搬送経路２の所定箇所の側方に設けた分岐搬送手段３に分岐させる分岐設備９である。 - 特許庁

In the hydrogen production apparatus, a selective oxidation reaction outlet gas flow path 34, through which a reformed gas RG flows, is arranged between a water evaporation flow path 33 through which water W flows and a selective oxidation reaction unit 8.例文帳に追加

水Ｗが流通する水蒸発流路３３と選択酸化反応部８との間には、改質ガスＲＧが流通する選択酸化反応出口ガス流路３４が配置される。 - 特許庁

When a W/C pressure does not follow an M/C (master cylinder) pressure, differential pressure control valves 16, 36 are controlled to a communication condition, so that a path R1 communicating to a main line A is included in a supply path of braking liquid from M/C 13 to W/C 14, 15, 34, 35.例文帳に追加

Ｍ／Ｃ圧に対してＷ／Ｃ圧が追従していないとき、差圧制御弁１６、３６を連通状態に制御することで主管路Ａを通じる経路Ｒ１をＭ／Ｃ１３からＷ／Ｃ１４、１５、３４、３５へのブレーキ液の供給経路に含めるようにしている。 - 特許庁

In a server side ADM 100, and active path P-W and a reserve path P-P of the 'Ethernet(R)' are multiplexed on the same path of the SONET and transmitted and in a client side ADM 200, a packet multiplexed and transmitted by one path is demultiplexed by filtering by detection a port ID added on the transmission side.例文帳に追加

サーバ側ＡＤＭ１００ではイーサネットの現用パスＰ−Ｗと予備パスＰ−ＰとをＳＯＮＥＴの同一パスに多重化して伝送し、クライアント側ＡＤＭ２００では一つのパスにて多重化されて伝送されたパケットを、送信側で付加されたポートＩＤの検出によってフィルタリング振り分けして分離する構成である。 - 特許庁

Image writing width W depends on a size of a transfer paper, and stays constant irrespective of the optical path length from the oscillation mirror to the location on the scanned surface.例文帳に追加

画像書き込み幅Ｗは転写紙のサイズで決定され、振動ミラーから被走査面上までの光路長に関わらず一定である。 - 特許庁

Each autonomous mobile body 1 drafts a travelling plan including a route from a loading place to an unloading place when the loading place and the unloading place of work W is instructed through a radio transmission path and conveys the work W in accordance with the drafted route when the conveyance of the work W is instructed.例文帳に追加

自律移動体１は、無線伝送路を通してワークＷの荷積み場所および荷降し場所が指示されると荷積み場所から荷降し場所までのルートを含む走行計画を立案しワークＷの搬送の指示を受けると立案したルートに従ってワークＷを搬送する。 - 特許庁

A down flow is formed in the carrying path 31 and wafer carrying mechanisms 32, 33 for making a wafer W horizontal, when the wafer W is carried into and out of the processing unit, and for carrying the wafer in a nearly vertical position at least temporarily, except when the wafer W is carried into and out of the processing unit.例文帳に追加

搬送路３１内にはダウンフローが形成され、処理ユニットに対する搬入・搬出時にウエハＷを水平とし、各処理ユニットに対する搬入・搬出時以外は、少なくとも一時ウエハＷを略垂直として搬送するウエハ搬送機構３２、３３が設けられている。 - 特許庁

A spindle 2, a chuck 8 to which a wafer W supported by the spindle 2 is fixed, a solution nozzle 25 for supplying a wafer processing solution onto the wafer W, a gas supply path 4 for supplying gas to the rear surface of the wafer W, and a heater 30 for heating the gas supplied to the rear surface of the wafer W, are provided.例文帳に追加

回転軸２と、回転軸２によって支持されウェーハＷが固定されるチャック８と、ウェーハＷ上にウェーハ処理溶液を供給するための溶液ノズル２５、ウェーハＷの裏面にガスを供給するためのガス供給通路４及びウェーハＷの裏面に供給されるガスを加熱するためのヒータ３０を含めてなる。 - 特許庁

Then, the pressurized water W is supplied to the supply path 48 by a second pressurized water supply means 6, the sequence part is moved to the downstream side of the supply path 48, and the sample material S is supplied to a subject or the like.例文帳に追加

そして、第２加圧水供給手段６により供給通路４８に加圧水Ｗを供給してシーケンス部を供給通路４８の下流側に移動させて供試材Ｓを被験者等に供給する。 - 特許庁

An upper hot-air blowout duct 7 for blowing out hot air toward a conveyance path 5 of the object to be coated W inside a furnace 6 is divided into a plurality of hot-air blowout zones A1-A7 in a longitudinal direction of the conveyance path 5.例文帳に追加

炉体６内部の被塗物Ｗの搬送経路５に向けて熱風を噴出する上部熱風噴出ダクト７を、搬送経路５の長手方向で複数の熱風噴出ゾーンＡ１〜Ａ７に区分する。 - 特許庁

A treatment chamber 102 for treating a wafer W of an etching device 100 communicates with an exhaust pipe 126 via a baffle plate 112 and an exhaust path 113.例文帳に追加

エッチング装置１００のウェハＷを処理する処理室１０２は，バッフル板１１２と排気経路１１３を介して排気管１２６と連通する。 - 特許庁

The current path positioned at the middle part of a pair of width-direction end parts 13, 13 located in a width direction W along the slit is provided with a through-hole.例文帳に追加

スリットに沿う幅方向Ｗに位置する一対の幅方向端部１３，１３の中間に位置する電流路には貫通孔を設けてある。 - 特許庁

A decision part 510 decides whether a path whose delay time exceeds a time corresponding to a W section exists in the formed first delay profile.例文帳に追加

判定部５１０は、生成された第１遅延プロファイルに、遅延時間がＷ区間に対応する時間を越えるパスが存在するか否かの判定を行う。 - 特許庁

The conveying device 1 conveys a workpiece W from a start end portion 3a to a terminal end 3b along a conveyance path 3 provided on an upper surface of the housing 2.例文帳に追加

搬送装置１は、筐体２の上面に設けられた搬送路３に沿って、始端３ａから終端３ｂに向けてワークＷを搬送する。 - 特許庁

A treatment liquid is supplied from the mixing valve 40 through a treatment liquid supply path 3 to a treatment liquid nozzle 2, and the treatment liquid is supplied to a substrate W.例文帳に追加

ミキシングバルブ４０から、処理液供給路３を介して、処理液ノズル２に処理液が供給され、この処理液が基板Ｗに供給される。 - 特許庁

In the projection optical system of forming an image of a first plane (R) on a second plane (W), an optical path between the first and second planes is filled with a solution (Lm).例文帳に追加

第１面（Ｒ）の像を第２面（Ｗ）に形成する本発明の投影光学系では、第２面との間の光路が液体（Ｌｍ）で満たされている。 - 特許庁

A blocking plate 40 is arranged over a carrying path 30a and is brought very close to the upper surface of a substrate W, carried by each carrying roller 30.例文帳に追加

遮断板４０は、搬送路３０ａの上方に配置されており、各搬送ローラ３０により搬送される基板Ｗの上面と近接する。 - 特許庁

A impulse response of a path (k) is estimated and a reference value W(k) representing the impulse response is fixed and a Rake section 21 detects output data DR.例文帳に追加

パスｋのインパルスレスポンスを推定し、このインパルスレスポンスを表す基準値Ｗ（ｋ）を固定して、Ｒａｋｅ部２１で出力データＤＲを検出する。 - 特許庁

An optical path is formed so that the laser light emitted from the element 12 is transmitted the substance W through the mirror 28 to be reached the diode through the mirror 30.例文帳に追加

光路は、レーザ素子から出射されたレーザ光がミラーを経て物体を透過し、次いでミラーを経てフォトダイオードに達するように形成される。 - 特許庁

The processing procedures from (X) to (W) are provided to hierarchically set the A, B and C, and to carry out recursion evaluation while shifting along a spiral path D in this hierarchy.例文帳に追加

（Ｘ）から（Ｗ）までの処理手順は、Ａ、Ｂ、Ｃを階層的に設定して、この階層をスパイラル状の経路Ｄを移行しつつ回帰評価している。 - 特許庁

The suction port body 24 has a cylindrical body 41 insertable through a gap G into the air flow path W communicating with a suction side of the electric fan of a vacuum cleaner.例文帳に追加

吸込口体24は、電気掃除機の電動送風機の吸込側に連通する風路Ｗに隙間Ｇを介して挿入可能な筒状の本体41を有する。 - 特許庁

Then, a light intensity distribution according to the correlation between the light intensity of interference light and a reference light path is obtained by a thickness calculation part 16, and the thickness of the semiconductor wafer W is obtained according to the light path length difference between the second and third light intensity peaks from a side with a smaller reference light path length.例文帳に追加

そして、厚み算出部１６において、干渉光の光強度と参照光路長との相関による光強度分布を求め、参照光路長が小さい側から２番目及び３番目の光強度ピークの光路長差から半導体ウエハＷの厚みを求める。 - 特許庁

The hook 3 is provided to be rotatable on a plane orthogonal to the transfer path Ky on the advancing/retreating member 2, and can be located in a hooking position where the hook overhangs above the transfer path Ky and hooks the load W and a retreated position retreated from the transfer path Ky.例文帳に追加

フック３は、進退部材２に移載経路Ｋｙと直交する平面上で旋回可能に設けられ、移載経路Ｋｙ上に張り出して荷物Ｗに引っ掛かり可能な引掛用位置および移載経路Ｋｙから退避した退避位置に位置変更可能である。 - 特許庁

Therefore, when a wafer W which is wet with a processing solution is carried to the high- pressure processing unit 26, even if the processing solution adhering to the substrate W or its evaporation material is moved to the main carrying path 21, the developing units 231, 232, and 243 exist before the main carrying path 21.例文帳に追加

したがって、処理液で濡れた基板Ｗを高圧処理ユニット２６に搬送している際に、基板Ｗに付着している処理液、またはその蒸発物が主搬送路２１側に移動しようとしても、主搬送路２１に至るまでに現像処理ユニット２３１，２３２，２４３が介在することとなる。 - 特許庁

For the bed 6, ore pellets 10 which emit the far infrared rays are spread in a prescribed thickness on a hot air path space W formed with the bottom surface wall 4 of the simple assembly type unit, and a fan heater for bedrock bathing which blows hot air is provided on the entrance side of the hot air path space W.例文帳に追加

前記岩盤浴ベッド６は、前記簡易組立式ユニットの底面壁４との間に温風通路空間Ｗを形成する上に遠赤外線を放出する小塊鉱石１０を所定厚さに敷設すると共に前記温風通路空間Ｗの入口側に温風を送風する岩盤浴用ファンヒーターを設ける。 - 特許庁

A shielding member 9 for shielding almost the entire region of an optical path of an exposure light between a projection optical system 6 and the vicinity of a wafer W from an external atmosphere is provided in a space between the system 6 and the wafer W.例文帳に追加

投影光学系６とウエハＷとの間の空間には、投影光学系６からウエハＷの近傍までの露光光の光路のほぼ全域を外部雰囲気から遮蔽する遮蔽部材９が設けられている。 - 特許庁

Respective cooling air flow paths 54 have an opened cross-sectional area of 1.2 to 4 mm^2, and the rate of a depth D to a width W of a groove part of each flow path 54 is set to ≥1.2, i.e., ''D/W≥1.2''.例文帳に追加

この冷却用空気流路５４は、１．２〜４ｍｍ^２の開口断面積を有し、かつ冷却用空気流路５４の溝部の幅Ｗに対する深さＤの比が１．２以上、すなわち、「Ｄ／Ｗ≧１．２」に設定される。 - 特許庁

As a result, an area required for a transfer path for the wafer frame W becomes smaller, compared to a case of transferring the wafer frame W with its flat surface set along the horizontal direction, thereby the miniaturization in wafer frame transfer is achieved.例文帳に追加

これにより、ウェーハフレームＷの平面を水平方向に沿わせた状態で搬送する場合に比べて、ウェーハフレームＷの搬送経路に要する面積が小さくなるので、結果として、小型化を実現することができる。 - 特許庁

Between an end part of a nozzle 2 for heating a burning width portion of a joint surface of a reinforcing bar W and a main path 11 that penetrates the inside of an arc-shaped conduit pipe 1 of a burner body A, a reservoir part 13 is formed through a support path 12.例文帳に追加

鉄筋Ｗの接合面の焼幅部分を加熱するためのノズル２の端部と、バーナ本体部Ａの略円弧状導管１の内部を連通する主路11との間に、支路12を介して溜り部13が形成された構造とする。 - 特許庁

The coating apparatus is provided with a supply path 13 which enables coating Pa, Pb and cleaning liquid W to flow therein and allowing a downstream end to connect with a coating gun 30 and a helical member 40 arranged in the supply path 13.例文帳に追加

塗装装置は、塗料Ｐａ，Ｐｂと洗浄液Ｗが流通するようになっているとともに下流端が塗装ガン３０に接続された供給路１３と、供給路１３内に配置された螺旋部材４０と備えている。 - 特許庁

A power combiner 27 combines a Vs (signal)+Vd (distortion) in a main amplifier output path 5 with an output G(W).W.Vd from the auxiliary amplifier 26, and a directional coupler 33 receiving an output of the combiner 27 gives an error signal Ve (=Vs+(1+G(W).W).Vd) to a control circuit 39 acting like an adaptive filter.例文帳に追加

主増幅器出力経路５におけるＶｓ（信号）＋Ｖｄ（歪）は、電力合成器２７により補助増幅器２６からの出力Ｇ（Ｗ）・Ｗ・Ｖｄと合成され、方向性結合器３３から適応フィルタとしての制御回路３９に誤差信号Ｖｅ（＝Ｖｓ＋（１＋Ｇ（Ｗ）・Ｗ）・Ｖｄ）が入力される。 - 特許庁

An insulating film forming device 32 of a substrate processing device 1 forms a CF insulating film on a substrate W and conveys the substrate W to an insulating film processing device 34 through a conveyance path 8 held in a pressure-reduced atmosphere containing no water.例文帳に追加

基板処理装置１の絶縁膜形成装置３２において，基板Ｗ上にＣＦ絶縁膜を形成し，当該基板Ｗを，水分を含まないような減圧雰囲気に維持された搬送路８を通って絶縁膜処理装置３４に搬送する。 - 特許庁

The welding wire W passing through a wire feed path in the feeder main body 11a is monitored by a wire detection means 22, and when passage of the end of welding wire W is detected, a command to encourage replacement of the wire pack 1 is executed.例文帳に追加

送出機本体１１ａのワイヤ送給経路を通過する溶接ワイヤＷはワイヤ検出手段２２により監視されており、溶接ワイヤＷの終端の通過を検出したとき、ワイヤパック１の交換を促す指令を出力する。 - 特許庁

The displacement measuring sensor 1 is a sensor for measuring by noncontact, the displacement of the measuring object W from the position of the focal point P moving on the light receiving region 8a according to the light path variation with the displacement of the measuring object W.例文帳に追加

変位測定センサ１は、測定対象Ｗの変位に応じた反射光の光路変化に伴って受光領域８ａ上を移動する結像点Ｐの位置から、測定対象Ｗの変位を非接触で測定するためのセンサである。 - 特許庁

A solution fixed point P1 of a nitrohydrofluoric acid on the top surface of a wafer W moves along a scan path S1 in a shape of an arc (almost linear) around an arm support axis.例文帳に追加

ウエハＷの上面におけるフッ硝酸の着液点Ｐ１は、アーム支持軸を中心とする円弧形状（ほぼ直線状）のスキャン経路Ｓ１に沿って移動する。 - 特許庁

During the chance time after the end of the jackpot, an informing processing is carried out with standby position lamps 25-28 to enable the alternative selection of one game ball path which the game balls W should approach.例文帳に追加

大当たり終了後のチャンスタイム中は、待機位置ランプ２５〜２８により、遊技玉Ｗが進むべき遊技玉通路が２択となるように報知処理がなされる。 - 特許庁

A chemical liquid flow path 13 is detachably connected to an interflowing place 9 of a fresh water W and a chemical liquid S.例文帳に追加

散布すべき薬液の種類を変更する場合には、前記薬液流路１３を前記合流部９から取り外し、前記薬液ユニット２９を他の薬液ユニットに交換する。 - 特許庁

A projecting and recessed bar 8 having recessed parts 6 and projecting parts 7 alternately formed at a designated width W is provided extending over the whole length of an elevating path of the shelf part 2 of the outer case 1.例文帳に追加

外部ケース１の棚部２の昇降経路の全長にわたって凹部６と凸部７を所定の幅Ｗで交互に形成した凹凸バー８を設ける。 - 特許庁

The printing paper sheet 2 is maintained in the tray 11 for A4 in which sorting holes 12a, 12b having predetermined widths w are respectively formed in a conveying path of the printing paper sheet 2.例文帳に追加

プリント用紙２は、先ず所定幅ｗの仕分け孔１２ａ，１２ｂがプリント用紙２の搬送経路にそれぞれ形成されたＡ４用トレイ１１に保持される。 - 特許庁

A toner concentration detection sensor 13t is arranged above the second conveying member 13b2 at a downstream side of a second conveying path within the range of an effective image forming area W.例文帳に追加

トナー濃度検知センサ１３ｔは、有効作像領域Ｗの範囲内であって第２搬送経路の下流側において第２搬送部材１３ｂ２の上方に配設される。 - 特許庁