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「マーク波」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 325



例文

競艇場のターン・マーク用消兼防機能を有するブイ及び消兼防装置例文帳に追加

BUOY WITH WAVE DISSIPATING BREAKWATER FUNCTION FOR TURN MARK OF MOTORBOAT RACE COURSE, AND WAVE DISSIPATING BREAKWATER DEVICE - 特許庁

アライメントマークとしての2元正弦サブ長回折格子例文帳に追加

BINARY SINE SUB WAVELENGTH GRATING AS ALIGNMENT MARK - 特許庁

マークが形成されている部分から得られる反射電子信号形から、試料の結晶性を反映した信号形を分離して、マーク形状又はマーク材質を反映した信号形を抽出できる。例文帳に追加

It is possible to separate a signal reflecting the crystallinity of the sample and to extract a signal waveform reflecting the shape or the material of the mark by the reflective electron beam signal waveform obtained from the portion where the mark is formed. - 特許庁

基板11の異なる層に形成された第1マークと第2マークの画像を取り込む手段26と、第1マークの第1直線部から生成した第1信号形と、第2マークの第2直線部から生成した第2信号形とを用いて、第1マークと第2マークとの重ね合わせずれ量を求める手段27とを備える。例文帳に追加

The superposition measuring device comprises a means 26 for taking in the images of first and second marks put on different layers of a substrate 11; and a means 27 for determining the gap of superposition of the first and second marks by using a first signal waveform generated from the first linear portion of the first mark, and a second signal waveform generated from the second linear portion of the second mark. - 特許庁

イオンビームによるマークの損傷を回避し、半導体デバイス上のマークや、エッジが不明瞭な形に対しても、検出可能とする。例文帳に追加

To avoid damage of a mark caused by ion beams and detect a mark on a semiconductor device and a waveform having an unclear edge. - 特許庁

カード306の表面に施されたマーク(201,202)をマーク検出部301で走査して得られた信号形を二回微分する。例文帳に追加

A signal waveform obtained by scanning marks (201, 202) formed on the surface of a card 306 by a mark detection part 301 is differentiated twice. - 特許庁

基板にV溝と位置決めマークを形成し、該位置決めマークを利用してダイシングすることを特徴とする光導路デバイスの製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method of the light guide device, V-shaped grooves and positioning marks are formed on a substrate, and diced by utilizing the positioning marks. - 特許庁

アライメントマーク付き高分子光導路及び積層型高分子光導路の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING MACROMOLECULAR OPTICAL WAVEGUIDE WITH ALIGNMENT MARK AND LAMINATED TYPE MACROMOLECULAR OPTICAL WAVEGUIDE - 特許庁

撮像装置がマークを撮像することによって得られる撮像信号(生形)、及び、微分演算装置が撮像信号を微分することによって得られる微分形のそれぞれに基づいて、マーク情報演算装置が形ごとに推定マーク位置等のマークの位置に関するマーク情報をそれぞれ得る(ステップ201〜206)。例文帳に追加

Mark information arithmetic units respectively obtain mark information on the position of a mark, such as the position of the mask estimated in every waveform, on the basis of each of an imaging signal (live waveform) obtainable by imaging the mark by an imaging unit and a differential waveform obtainable by differentiating the imaging signal by a differential arithmetic unit (steps 201 to 206). - 特許庁

再生レーザービームの長をλ、レーザービーム照射光学系の開口数をNAとしたとき、記録マーク列は、マーク長が0.37λ/NA未満である記録マークを少なくとも含む。例文帳に追加

When a wavelength of the reproducing laser beam is defined as λ and the number of openings in an optical laser beam irradiation system is defined as NA, the recording mark stream includes at least the recording marks of which a mark length is < 0.37λ/NA. - 特許庁

操作部により計測名の指定を制御部へ行うと、それに応じたボディーマークとプローブマークの位置と角度とを合成した計測マークが超音像と組み合わせて表示装置又は画像記憶装置へ出力される。例文帳に追加

When a name of measurement is specified by an operation part for a control part, a measurement mark synthesized with the positions and angles of the corresponding body mark and probe mark is outputted, combined with an ultrasonic image, to a display device or image memory device. - 特許庁

マーク候補のスペクトラムデータと、予め記憶してある複数のマークの反射光の周数特性を示すスペクトラムデータと照合し、スペクトラムデータの一致するものを同一のマークと判定する(S16)。例文帳に追加

The spectrum data on the mark candidate are collated with previously stored spectrum data showing the frequency characteristics of reflected light of a plurality of marks to determine marks effecting coincidence of spectrum data to be the same marks (S16). - 特許庁

基本周数の算出の精度を向上させるために精度の高いマーク長の測定を行うことができ、ディスクの回転の高速化にも対応可能なマーク長測定装置、及びマーク長測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mark length measuring device which can measure mark length with high accuracy in order to improve the accuracy of calculation of a fundamental frequency and deal with the speedup of the rotation of a disk, and to provide a mark length measuring method. - 特許庁

移動可能なステージ上のマークに照明光を照射し、該マークからの光束により撮像手段上に該マークの像を形成し、該撮像手段の出力に基づいて生成される信号形からマークの位置を計測する。例文帳に追加

A position measuring apparatus irradiates a mark on a movable stage with illumination light, forms the image of the mark on an imaging means by a light flux from the mark, and measures the position of the mark from a signal waveform generated based on the output of the imaging means. - 特許庁

高い解像度の角度マーク信号を供給するための方法は、低い解像度の角度マーク信号を回転トリガーとしても検出することも含み、そして、低い解像度の角度マークから、予め設定可能な倍数で逓倍した周数を持つ角度マークを生成するものである。例文帳に追加

To provide a method for supplying an angle mark signal having high resolution, including detection of an angle mark signal having low resolution as a rotation trigger, wherein an angle mark having a frequency determined by multiplying by a multiple settable beforehand is generated from an angle mark having low resolution. - 特許庁

マークを荷電粒子ビームで走査するとき試料から発生する試料信号に基づいてマーク画像を形成し、マーク画像の画素データをY軸方向に総加算して得られる信号形f_y(x)と、マーク画像のデータをX軸方向に総加算して得られる信号形f_x(y)とを用いてマークの特徴的位置を求める。例文帳に追加

A mark image is formed on the basis of a sample signal generating when a mark is scanned with charged particle beams, and the characteristic position of the mark is found by using a signal waveform fy(x) obtained by totally adding picture element data of the mark image in the Y axial direction and a signal waveform fx(y) obtained by totally adding data of the mark image in the X axial direction. - 特許庁

マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、0次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、マーク光の画像信号から、マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周数成分を抽出し、その抽出された周数成分を用いてマークの位置情報を計測する。例文帳に追加

Diffraction lights of even order other than diffraction lights of zero order is removed in mark lights obtained from an irradiated area including the mark, a frequency component corresponding to the each diffraction light of odd degree included in the mark lights is extracted from an image signal of the mark lights, and the positional information of the mark is measured using the extracted frequency component. - 特許庁

マーク波形とスペース形とが非対称であっても、目標とする形への形全体の収束速度と安定性とを両立させる。例文帳に追加

To attain both the desired convergence speed and stability for the whole waves even if the reproduced waveforms are a symmetrical for the marks and spaces. - 特許庁

第1及び第2の検出マーク32、33の高さは照射光の長に応じて決定する。例文帳に追加

The heights of the 1st and 2nd detection marks 32 and 33 are determined according to the wavelength of irradiation light. - 特許庁

長方形状のマーク14の一辺(エッジ)は、導路13に平行に形成されている。例文帳に追加

One side (edge) of each mark 14 of a rectangular shape is formed in parallel to the waveguide path 13. - 特許庁

認識マーク210は例えば光導路の接続開口部222とすることができる。例文帳に追加

The recognition mark 210 may be, for example, a connection opening portion 222 of an optical waveguide. - 特許庁

路構造を形成する際にアライメントマークを正確に認識することを可能にする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor laser element capable of accurately recognizing an alignment mark during a formation of a waveguide structure. - 特許庁

特定の長は、マークによる反射率の最も高い長又はマーク上に形成された透明層の透過率が最も高い長とすることができる。例文帳に追加

The specific wavelength may be wavelength having the highest reflectivity by the marks or the highest transmissivity of the transparent layer formed on the marks. - 特許庁

複数のアライメントマークの検出形を分類した複数の標準形と、各標準形に対応するアライメントマークの位置データとを1対1に対応させたシグナルデータベースをする。例文帳に追加

A signal database is provided with plural standard waveforms, with which the detected waveforms of plural alignment marks area classified, and the position data of the alignment marks is made to correspond to the respective standard waveforms are in one-to-one correspondence. - 特許庁

まず、有声音音声形に対し、形のローカルピーク抽出部1により形のローカルピークにマークを付ける。例文帳に追加

Firstly, to the voiced sound speech waveform, a waveform local peak extraction part 1 marks a local peak of the waveform. - 特許庁

この場合に、係数設定回路103にてマークに応じた適切な係数群が選択されることとなるため、形等化信号Seqはマークに応じて形等化された信号となる。例文帳に追加

In this case, since a proper coefficient group according to a mark is selected by the coefficient setting circuit 103, a waveform equalization signal Seq turns into a signal of which the waveform is equalized according to the mark. - 特許庁

試料のマークが形成されていない部分に電子線を照射して反射電子信号形(B)を得るとともに、マークが形成されている部分に電子線を照射して反射電子信号形(A)を得る。例文帳に追加

A reflective electron signal waveform B is obtained by applying an electron beam to a portion of a sample where a mark is not formed, and a reflective electron signal waveform A is obtained by applying an electron beam to a portion of the sample where the mark is formed. - 特許庁

ウエハ上に形成されたマークMX_p,MY_pを含む領域の撮像データから得られる、その領域に対応する形データのマーク波形らしさを示すスコアSを算出し、2つの閾値値(T_1,T_2)と比較する。例文帳に追加

Score S indicative of the mark waveform of waveform data corresponding to a region including marks MX_p and MY_p formed on a wafer and obtained from the imaging data of that region is calculated and compared with two thresholds (T_1, T_2). - 特許庁

基板1上のアライメントマーク5a、5bと、マスク2上のアライメントマーク6a、6bとを、長長光の透過領域31と短長光の透過領域32とを有するフィルタを通して、カメラのセンサにて検出する。例文帳に追加

A sensor of a camera detects alignment marks 5a and 5b on a substrate 1 and alignment marks 6a and 6b on a mask 2 through a filter that has a long-wavelength light transmission region 31 and a short-wavelength light transmission region 32. - 特許庁

トラックに識別マーク(20)が設けられ、この識別マークは、光源から放射される中心長(λ)の光、すなわち角度(Θ_i)で情報媒体(10)に入射する当該光によって検出することができ、これらの識別マークから情報媒体(10)のポジションを導き出すことができる。例文帳に追加

Marks (20) are disposed in a track, the marks can be detected by means of light of a central wavelength (λ) which is emitted by the light source and made incident upon the information carrier (10) at an angle (Θ_i) and the position of the information carrier (10) can be derived from the marks. - 特許庁

第1マークパターン43と第2マークパターン44とを干渉した状態で大判ガラス基板に形成した状態でも、大判基板を撮像した画像にてパターン46,47の寸法および間隔に対応する周数成分を強調することで、各マークパターン43,44を確実に選択的に認識できる。例文帳に追加

Even when the first mark pattern 43 and the second mark pattern 44 as interfering with each other are formed on a large glass substrate, each mark pattern 43, 44 can be reliably and selectively recognized by enhancing frequency components corresponding to the dimension and spacing of the patterns 46, 47 in an image picked up the large substrate. - 特許庁

上記副データとしてのマークを挿入する部分で得られる再生信号の形を設定されたレベルによる形に置換する。例文帳に追加

The waveform of a reproduction signal obtained at a part, in which the mark as the sub-data is inserted, is replaced with a waveform by a set level. - 特許庁

検査者は、その自覚症状マーク36等の位置を確認しながら、超音プローブを被検者に当てて超音による撮影を行う。例文帳に追加

The inspector applies an ultrasonic probe to the subject and performs photographing by ultrasonic waves while confirming the position of the subjective symptom mark 36 or the like. - 特許庁

基板上に光ファイバ搭載用のV溝、光導路、及び第1の位置合わせマークを有する光導路デバイス。例文帳に追加

The optical waveguide device has a V-shaped groove for mounting an optical fiber, an optical waveguide and a first positioning mark on a substrate. - 特許庁

光導路の外形形成や光部品との光結合に利用可能な位置認識マークを有する光導路を提供する。例文帳に追加

To provide an optical waveguide having a position recognizing mark utilized for formation of an optical waveguide outline and optical coupling to an optical part. - 特許庁

形処理シミュレーションの処理対象となった形データの計測範囲、形データの微分データ、エッジ候補位置、各ラインマークの位置、その位置とエッジ候補位置との関連付け、マークの検出位置、エラー情報、テンプレートパターンなどを形データと対応付けて表示している。例文帳に追加

Measuring range of the waveform data as the processing object of waveform processing simulation, differentiated data of the waveform data, edge candidate position, each line mark position, relationship between each line mark position and edge candidate position, mark detecting position, error information, and template pattern or the like are displayed corresponding to the waveform data. - 特許庁

長光は焦点距離が長く、短長光は焦点距離が短いので、アライメントマーク5a、5bの反射光の中の長長光と、アライメントマーク6a、6bの反射光の中の短長光とは、同時にカメラのセンサに結像し、同時に観察できる。例文帳に追加

Since long-wavelength light has long focal distance and short-wavelength light has short focal distance, the long-wavelength light in reflected light by the alignment marks 5a and 5b and the short-wavelength light in the reflected light by the alignment marks 6a and 6b can simultaneously form an image on the sensor of the camera and can be observed simultaneously. - 特許庁

超音画像と、超音で走査された被検体の部位と当該部位に超音探触子を当接した様子を示す第1のボディマークと、撮影対象そのものを示す第2のボディマークと、を1フレームに合成しモニタに同時に表示することを特徴とする超音画像診断装置。例文帳に追加

This ultrasonic image diagnostic equipment is characterized by composing an ultrasonic image, a first body mark showing the position of a subject scanned by ultrasonic wave and the abutting state of an ultrasonic probe to this position, and a second body mark showing the photographic subject itself into one frame, and simultaneously displaying them on a monitor. - 特許庁

プロセッサは、検出器と通信し、アライメント信号を受信し、アライメント信号の信号品質を決定し、アライメント信号の整列位置を決定し、信号品質、整列位置、及び整列位置を長範囲とマーク深さ及びマーク非対称性を含むマーク特性とに関連付けるモデルに基づいてアライメントマークの位置を計算する。例文帳に追加

A processor, in communication with the detector, receives the alignment signals, determines signal qualities of the alignment signals, determines aligned positions of the alignment signals, and calculates a position of the alignment mark based on the signal qualities, aligned positions, and a model relating the aligned position to the range of wavelengths and mark characteristics, including mark depth and mark asymmetry. - 特許庁

アライメントマークP1から基準マークG91、G93、G96上へとアライメントビームを回折することによってもたらされたサブビームを偏向するためにブレーズ型サブ長格子10を使用する。例文帳に追加

A brazed sub-wavelength grating 10 is used to deflect sub-beams created by diffracting the alignment beam from the alignment mark P1 onto the reference marks G91, G93, and G96. - 特許庁

ゼロクロス検出部3は、ピッチ信号が立ち上がってゼロクロスするタイミングを特定し、ピッチマーク付加部5は、形信号に当該タイミングを示すピッチマークを付加する。例文帳に追加

A zero-cross detection part 3 specifies the timing where the pitch signal raises to cross zero and a pitch mark addition part 5 adds a pitch mark indicating the timing to the waveform signal. - 特許庁

超音診断装置において、シネメモリから受信データを読み出して、画像を再生する場合に、ボディマーク70及びプローブマーク72が自動的にかつ適切に表示されるようにする。例文帳に追加

To automatically and appropriately display a body mark 70 and a probe mark 72 in reading received data from a cine memory and reproducing images in an ultrasonic diagnostic apparatus. - 特許庁

その際、レンズ板46のアライメントマークと基板42のアライメントマークとが一致した状態で超音をバンプ44に伝播させて基板42の金属膜42bに接続する。例文帳に追加

At this point, ultrasonic waves are propagated to the bumps 44 as the alignment mark of the lens plate 46 is kept coincident with that of the substrate 42 to connect the bumps 44 to the metal film 42b of the board 42. - 特許庁

例文

プリアライメントマークAM1は、プリアライメントセンサPAから発せられる、長が248nmの紫外線で検出され、ファインアライメントマークAM2は、ウェハステージ上の空間像センサで検出される。例文帳に追加

The pre-alignment mark AM1 is detected by ultraviolet rays having a wavelength of 248 nm which is emitted from a pre-alignment sensor PA, while the fine alignment mark AM2 is detected by a space image sensor on a wafer stage. - 特許庁

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