印刷のために写真をプレートにする写真製版の方法を使用する技術例文帳に追加

the technique of using photomechanical methods to make photographs into plates for printing発音を聞く  - 日本語WordNet

半導体装置、写真製版用マスク、半導体装置の製造方法、および写真製版用マスクの製造方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

ＥＢ描画装置、半導体装置、写真製版用マスク、半導体装置の製造方法、および写真製版用マスクの製造方法例文帳に追加

EB LITHOGRAPHY SYSTEM, SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY, METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

ハーフトーンという,写真製版での明暗の階調の表現方法例文帳に追加

an expression of gradation in a phototype process called a half tone発音を聞く  - EDR日英対訳辞書

感光性の面上に物体の写像を作り出す写真製版法例文帳に追加

the process of producing images of objects on photosensitive surfaces発音を聞く  - 日本語WordNet

モニタマークを備える写真製版用マスクおよびその製造方法例文帳に追加

PHOTOGRAPHIC PLATE MAKING MASK HAVING MONITOR MARK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法例文帳に追加

SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL FOR PRINTING PLATE AND ITS MANUFACTURE - 特許庁

半導体装置の製造方法、並びに写真製版用マスクおよびその製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ウェハパターン誤差の要因解析方法および写真製版用マスクの製造装置例文帳に追加

METHOD OF FACTOR ANALYSIS FOR WATER PATTERN ERROR AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOGRAPHIC PLATE MAKING MASK - 特許庁

写真製版用スクリーン、スクリーン枠、スクリーン版及びスクリーン枠の作成方法例文帳に追加

SCREEN FOR PHOTOMECHANICAL PROCESS, SCREEN FRAME, SCREEN PLATE AND PREPARATION OF SCREEN FRAME - 特許庁

複製される画像をもたらすゼラチン面のあるガラスのプレートを使用する写真製版法の印画法例文帳に追加

a photomechanical printing process that uses a glass plate with a gelatin surface that carries the image to be reproduced発音を聞く  - 日本語WordNet

半導体ウェハの処理装置およびその処理装置を用いた写真製版工程を有する半導体装置の製造方法例文帳に追加

TREATMENT EQUIPMENT FOR SEMICONDUCTOR WAFER, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING PHOTOENGRAVING PROCESS USING THE EQUIPMENT - 特許庁

写真製版装置の解像限界よりも小さなパターンを有する半導体装置の製造方法を提供することを主要な目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having a pattern smaller than resolution limit of a photolithography device. - 特許庁

特に写真製版に適したスキャナー、イメージセッター用の熱現像感光材料の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a heat-developable photosensitive material for a scanner or an image setter suitable particularly for a photomechanical process. - 特許庁

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、ロール状形態で保存されてもブロッキングが小さく、支持体にキズが発生しにくい写真用支持体およびその製造方法並びに多版印刷に好適な印刷製版用熱現像写真感光材料を提供する。例文帳に追加

To produce a photographic substrate excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development, less liable to blocking even in the case of being preserved in a rolled state and less liable to scuffing and to obtain a heat developable photographic sensitive material for producing a printing plate suitable for polychromic printing. - 特許庁

写真製版等の工程数や半導体材料の無駄を低減すると共に、被加工膜の仕上がり寸法を均一性良くする半導体装置の製造方法を得る。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing semiconductor device, by which the number of steps in a photomechanical process, etc., and the wasteful use of a semiconductor material can be reduced, and at the same time, the finished size of a film to be worked can be made uniform. - 特許庁

１回の写真製版で、透過表示領域の柱状スペーサの高さと、反射表示領域の柱状スペーサの高さとを同じにすることが可能な液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing liquid crystal display panels which makes the height of columnar spacers in a transmission area equal to the height of columnar spacers in a reflection display area with onetime photoengraving. - 特許庁

メモリ領域とロジック領域でのＳＴＩの突き出し量のバラツキを低減するのと共に、ゲート写真製版のフォーカスマージンを向上し得る半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。例文帳に追加

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device in which dispersion in the protruding amounts of STI in a memory region and a logic region can be reduced and a focus margin of a gate photoengraving process can be improved. - 特許庁

パターン寸法をモニタするためのモニタマークを備える写真製版用マスクに関し、描画グリッドの違いに起因するパターン長の差のモニタを可能とすることを目的とする。例文帳に追加

To monitor the differences in pattern lengths occurring in differences in drawing grids relating to a photographic plate making mask having monitor marks for monitoring pattern dimensions. - 特許庁

感光材料を大量処理した後でも、超硬調で、かつ、銀汚れの問題のない印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法の提供。例文帳に追加

To obtain a silver halide photographic sensitive material for printing plate making having ultrahigh contrast and free from the problem of silver stain even after processing in large quantities and to provide a processing method for the sensitive material. - 特許庁

金属抵抗素子の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時にレジスト膜中に定在波が発生するのを防止して金属抵抗素子の寸法バラツキを低減する。例文帳に追加

To reduce fluctuation in size of a metal resistance element by preventing generation of standing waves within a resist film, during exposure in the photomechanical process technology for defining a forming position of the metal resistance element. - 特許庁

コンタクトホール形成時の写真製版およびエッチングのマージンを確保することができ、配線層がコンタクトホール内において露出することがなく、良好な配線を行なうことのできる半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can ensure a photolithography and etching margin during contact hole formation and can carry out good wiring without exposing a wiring layer inside a contact hole. - 特許庁

ダイヤフラムに圧力検出素子が設けられている圧力センサにおいて、ダイヤフラムの歪みに起因する写真製版のピントずれを回避して、圧力検出素子を高精細に形成する圧力センサの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a production method of pressure sensors forming pressure detector elements with high fineness by avoiding focus gap on photo engraving caused by distortion of diaphragms in the pressure sensors where pressure detector elements are prepared in a diaphragm. - 特許庁

写真製版におけるフォトマスクの重ね合わせズレが生じた場合にもエアギャップと上層配線層のビアホールとが接続することを防止できる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device wherein connection between an air gap and a via hole of an upper layer interconnection layer can be prevented when there occurs an alignment deviation between photo masks in photoengraving, and also to provide its manufacturing method. - 特許庁

高濃度、超硬調、高精細やＦＭスクリーニング適性に優れ、黒ポツの少ない印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料、及びその処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material for plate making having a high density, ultrahigh contrast, high definition, excellent suitability to FM screening and few black spots and to provide a processing method for the material. - 特許庁

写真製版法によって、ゲート構造１５の端部上、及び該端部に隣接するフォトダイオード１８の形成予定領域上が開口したパターンを有するフォトレジスト３０を形成する。例文帳に追加

By a photoengraving method, a photoresist 30 having a pattern in which the end of a gate structure 15 and the formation scheduled region of the photodiode 18 adjacent to the end are opened is formed. - 特許庁

写真製版工程等における精度の良好な重ね合わせを実現するアライメントマークを備えた半導体装置及びその製造方法を得ること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device having an alignment mark for realizing overlay excellent in accuracy in a photoengraving process or the like, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

本発明は層間絶縁膜を貫通する微細なホールを有する半導体装置の製造方法に関し、写真製版の限界を超える小さなホールを形成することを目的とする。例文帳に追加

To form a small hole exceeding the limit in a photoengraving on an antireflection film in a manufacturing method of a semiconductor device which has a microscopic hole penetrating an interlayer insulating film. - 特許庁

低補充・大量・迅速処理において汚れ付着が少なく、処理安定性に優れ、膜強度に優れた印刷製版用のハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a silver halide photographic sensitive material for plate making less liable to adhesion of dirt in low-replenishment bulk rapid processing and excellent in processing stability and in film strength and to provide a processing method for the material. - 特許庁

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用として、生産性に優れ、かつ、環境面・コスト面で有利な水系塗布可能な熱現像画像記録材料の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a heat developable image recording material excellent in productivity as a material particularly for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter and producible by environmentally and cost-wise advantageous waterborne coating. - 特許庁

本発明の写真染色方法は、カラーポジフィルム１から少なくとも三原色に色分解された印刷版６を写真製版し、この印刷版６を用いて昇華性染料を転写紙１６に印刷して転写紙１６を製作し、この転写紙１６を布地１８に加熱装置１９で加熱転写するよう構成した。例文帳に追加

This photographic printing method is characterized by photomechanically forming at least three printing plates 6 having separated at least three primary colors, respectively, from a color positive film 1, printing transfer paper sheets 16 with sublimable dyes by the use of the printing plates 6 to make the transfer-printed paper sheets 16, and then thermally transferring the dyes of the transfer paper sheets 16 to a fabric 18 with a heater 19. - 特許庁

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、ロール状形態で提供されても巻き癖カールが少ない、多版印刷に好適な印刷製版用熱現像感光材料およびその処理方法並びに感光材料を構成する写真用支持体及びその調整方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material for plate making excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development, less liable to curl even when provided in a roll shape and suitable for multi-plate printing, a processing method for the photosensitive material, a photographic substrate constituting the photosensitive material and a method for adjusting the substrate. - 特許庁

信頼性向上のためのGate-Overlapped LDD(GOLD)構造の製造方法において、ゲート電極形成時の写真製版工程で、重ね合わせ精度に起因して左右のLDD領域に非対称性が発生することによって、特性のばらつきが発生することを抑制する。例文帳に追加

To prevent occurrence of variations of property of a Gate-Overlapped LDD (GOLD) structure caused by generation of asymmetry of left and right LDD regions resulting from overlapping accuracy, in a photoengraving process at the time of gate electrode formation, in the manufacturing method of the GOLD structure for improving reliability. - 特許庁

この方法によれば、従来、保護膜形成のために行っていたレジスト塗布、露光及び現像等の写真製版工程とレジスト除去工程を削減することができ、液晶表示装置製造のスループットが向上し、製造コストの低減が図られる。例文帳に追加

Following this method, steps of the photomechanical process such as resist coating, exposure, developing or the like conventionally conducted for protective film forming and a resist-stripping step can be reduced. - 特許庁

本発明の目的は、印刷製版用のスキャナー、イメージセッター用として、超硬調で且つ高感度であり、未処理感材の保存安定性及び熱現像後の画像保存性に優れた銀塩光熱写真ドライイメージング材料及びそれを用いた画像形成方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having an ultrahigh contrast and high sensitivity as a material for a scanner or an image setter for printing plate making, and excellent in storage stability of the unprocessed photosensitive material and in image preservability after heat development, and to provide an image forming method using the same. - 特許庁

本発明は、フィールドプレート構造とリサーフ形成構造とを有する半導体装置の製造プロセスにおいて、レジスト塗布ムラ発生を防止し、かつ写真製版時のフォーカスマージン向上を図ることができる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device allowing for preventing an unevenness of resist coating and improving a focus margin in a photoengraving process, in a process of manufacturing the semiconductor device having a field plate structure and a RESURF formation structure; and to provide a method of manufacturing the same. - 特許庁

導電性ペーストの充填により貫通穴の無くなった基板に対し、電気配線回路パターンを形成し、次いでエアブリッジ橋脚用の液体フォトレジストをスピンコーティング法により基板上に均一に塗布し、フォトレジスト写真製版などによりエアブリッジを形成した。例文帳に追加

An electric wiring circuit pattern is formed on the board which now has no through-hole since it is filled with the conductive paste, and then a liquid photo resist for bridge footing of the air bridge is applied evenly on the board by spin coating and the air bridge is formed by photoengraving of the photo resist, etc. - 特許庁

写真製版プロセスのマージンを大幅に拡大でき、かつマイクロローディング効果を低減することによって「開口不良」を抑制できるとともに「ショート」のプロセス裕度を確保しやすくし、かつコンタクト抵抗を低減できる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of enlarging the margin of a photoengraving process markedly, restraining "poor openings" from occurring by reducing a micro loading effect, ensuring a "short" process tolerance easily, and reducing a contact resistance. - 特許庁

医療画像用または写真製版用などに用いるための感光材料であって、熱現像時間の短縮を目的とする高感で低カブリ、生保存性の良い熱現像感光材料とそれを用いる画像形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a thermally developable photosensitive material used for a medical image or for photomechanical engraving and having such high sensitivity as to shorten thermal development time, low fog and good raw stock preservability and to provide an image forming method using the material. - 特許庁

印刷製版用のスキャナー、イメージセッター用として、超硬調で写真性能及び画像保存性が良好で且つ環境的にも負荷が小さく作業環境に悪影響を及ぼさない熱現像感光材料及びその画像形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a heat developable photosensitive material having ultrahigh contrast, good photographic performance and image preservability, being environment-friendly and having no adverse effect on the work environment as a material for a scanner or an image setter for printing plate making, and to provide an image forming method for the same. - 特許庁

カラー製版・印刷工程において色分解及び網点画像を変換して得られる複数の白黒網点画像から校正用カラー画像を作成するのに好適なカラープルーフ作成用のハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成方法において、ランニング処理した際の濃度安定性に優れたカラー画像形成方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a color image forming method excellent in density stability in a running process with respect to an image forming method for a silver halide color photographic sensitive material for creating a color proof suitable for forming a color image for proof reading from a plurality of black-and-white halftone dot images obtained by color separation and conversion of a halftone dot image in a color plate making-printing process. - 特許庁

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。例文帳に追加

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5. - 特許庁

絶縁性基板上に少なくとも第１の導電膜、絶縁膜、半導体層、第２の導電膜および第３の導電膜（または反射膜）を有するＴＦＴアレイ基板の製造方法において、第２の導電膜、半導体層および絶縁膜を１回の写真製版工程でパターニングするとともに、第２の導電膜をオーバーエッチする。例文帳に追加

In the method for manufacturing the TFT array substrate provided with at least a first conductive film, an insulation layer, a semiconductor layer, a second conductive film and a third conductive film (or a reflector film) on an insulation substrate, the second conductive film, the semiconductor layer and the insulation layer are patterned with one photoengraving step and the second conductive film is over-etched. - 特許庁

複数種類の薄膜パターンを形成する領域に、同一の写真製版工程で中間的な露光を行う場合、中間レジスト膜厚のばらつきを小さくして、中間レジスト膜厚を形成して加工するプロセスのマージンを拡大して歩留りを上げ、低コストなアレイ基板、表示装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an array substrate, a display device and a method for manufacturing the substrate, which contribute to reduction in cost, increase in yield and expansion of the process margin of forming and processing an intermediate resist film thickness by reducing variation in the intermediate resist film thickness when intermediate exposure is performed on a region where a plurality of types of thin film patterns are formed at the same photo lithography step. - 特許庁