Eb aとは 意味・読み方・使い方

The method also includes a step of forming a pattern by using an EB direct writing machine on this EB resist 107 while aligning by using a mark 108(F).例文帳に追加

そして、マーク１０８を用いて位置合わせを行いながら、このＥＢレジスト１０７にＥＢ直接描画機を用いてパターンを形成する（Ｆ）。 - 特許庁

Patterns for a semiconductor device are delineated by using the EB lithography system.例文帳に追加

ＥＢ描画装置を用いて半導体装置のパターンを描画する。 - 特許庁

When the difference of between a reception Eb/IO and a reference Eb/IO becomes more than a certain large value (a), it is decided that the mobile station is at fault (step 103).例文帳に追加

受信Ｅｂ／Ｉ０と基準Ｅｂ／Ｉ０の差がある大きな値ａ以上となった場合には、その移動局は故障していると判定する（ステップ１０３）。 - 特許庁

A mask defect inspecting machine obtains EB data 3 (after SUB) corresponding to OPC pattern parts by SUB-calculating the EB data 1 before OPC from the EB data 2 after optical proximity effect correction (OPC).例文帳に追加

光学近接効果補正（ＯＰＣ）後のＥＢデータ２からＯＰＣ前のＥＢデータ１をＳＵＢ演算して、ＯＰＣパターン部分に対応するＥＢデータ（ＳＵＢ後）３を得る。 - 特許庁

To provide a compound useful for treating or preventing diseases caused by EB viruses that inhibits EBNA1 function, and application thereof.例文帳に追加

EBウイルスが起因となる疾患の治療または予防に有用な、EBNA1の機能を阻害する化合物及びその用途を提供すること。 - 特許庁

The first bare chips (10) are formed using, as a chief material, a semiconductor whose value of breakdown electric field (Eb)×coefficient of thermal conductivity (λ) is larger than that of silicon.例文帳に追加

そして、第１ベアチップ（10）は、絶縁破壊電界（Eb）×熱伝導率（λ）の値が、シリコンよりも大きな半導体を主材料として形成する。 - 特許庁

An enable circuit 121 generates an enable signal EB on the basis of the 16th bit A15 of an address bus 140 and a signal value of a read-out control signal line 150.例文帳に追加

イネーブル回路１２１は、アドレスバス１４０の第１６ビットＡ15と、読出制御信号線１５０の信号値とから、イネーブル信号EBを生成する。 - 特許庁

The electron gun 2 has a filament 7 for emitting an electron beam EB.例文帳に追加

電子銃２は、電子線ＥＢを出射するフィラメント７を有する。 - 特許庁