ga mとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 (人間の)脚、(特に女性の)すらりとした脚
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「ga m」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 33件
M is at least one kind of elements chosen from among the group of Al (aluminum), Ga (gallium), Ti (titanium), Ge (germanium) and Sn (tin), and is an element different from A.例文帳に追加
前記Mは、Al(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、Ti(チタン)、Ge(ゲルマニウム)、及びSn(スズ)のグループから選択される少なくとも1種類の元素であり、かつ、前記Aとは異なる元素である。 - 特許庁
In In-M-Zn-O, M means Ga, Al and Fe, and it may contain them.例文帳に追加
但し、In−M−Zn−Oにおいて、MはGa,Al,Feであり、これらを含んでいてもよいことを示す。 - 特許庁
As the metal ion M, ions of one or more metals among Mg, Ca, Zn, Al, and Ga are preferable.例文帳に追加
金属イオンMとしては、Mg,Ca,Zn,Al,Gaのうち1以上の金属のイオンが好ましい。 - 特許庁
To provide a method of forming an (Al, Ga, In)N thin film on a Ga-face c-plane (Al, Ga, In)N substrate using a c-plane surface with a miscut toward the m-direction at least 0.35°.例文帳に追加
m方向に向かうミスカットが少なくとも0.35度であるc面表面を用いて、Ga面c面(Al、Ga、In)N基板上に(Al、Ga、In)N薄膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁
In preparing a catalyst comprising a combination represented by general formula Cu/Zn/M (wherein, M is at least one kind of a metal selected from the group consisting of Al, Cr, Ga, Fe, Mn, Ce, Pd and Au), the spherical fine particle catalyst precursor is prepared using a precipitative sedimentation method.例文帳に追加
一般式:Cu/Zn/M(但し、M は任意成分であり、Al, Cr, Ga, Fe, Mn, Ce, Pd及びAuからなる群から選ばれた少なくとも一種の金属)からなる組み合わせの触媒を調製するに当たり、尿素を用いた析出沈殿法による球状微粒子触媒前駆体を調製する。 - 特許庁
In this case, the concentration of Zn is lower than those of In and M (M is one or a plurality of elements selected from Fe, Ga, Ni, and Al).例文帳に追加
この場合において、Znの濃度がIn及びM(M=Fe、Ga、Ni及びAlから選ばれた一又は複数の元素)よりも低くする。 - 特許庁
The oxide semiconductor is expressed by InMO_3(ZnO)_m (M= one or a plurality of element(s) selected from Ga, Fe, Ni, Mn, Co and Al; and m is a non-integer of at least 1 and less than 50).例文帳に追加
InMO_3(ZnO)_m(M=Ga、Fe、Ni、Mn、Co及びAlから選ばれた一又は複数の元素、mは1以上50未満の非整数)である。 - 特許庁
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「ga m」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 33件
The M^2 may be also at least one selected from rare-earth elements In, Pd, Sb, Ti, As, Al and Ga, and the M^3 may be also at least one selected from Si, Ge, Ti, Mo, W, Pt and Zr.例文帳に追加
M^2は希土類元素、In,Pd,Sb,Ti,As,Al,Gaの中から選ばれる少なくとも一種、M^3はSi,Ge,Ti,Mo,W,Pt,Zrの中から選ばれる少なくとも一種からなるものであってもよい。 - 特許庁
Out of these, the positive electrode active material 153 is LiFe_(1-x)M_xPO_4(M is at least one of Mn, Cr, Co, Cu, Ni, V, Mo, Ti, Zn, Al, Ga, Mg, B, and Nb, 0≤x≤0.5).例文帳に追加
このうち、正極活物質153は、LiFe_(1-X)M_XPO_4(Mは、Mn,Cr,Co,Cu,Ni,V,Mo,Ti,Zn,Al,Ga,Mg,B,Nbのうち少なくともいずれかであり、0≦X≦0.5)である。 - 特許庁
In chemical formula (1), M is at least one element selected from Al, Ga, In, Mg, Zn, Li, Na, K, Gd, Y and La; and x meets the relationship: 0≤x≤1.例文帳に追加
ここで、MはAl、Ga、In、Mg、Zn、Li、Na、K、Gd、Y、およびLaから選ばれた少なくとも1つの元素であり、0≦x≦1である。 - 特許庁
Ln are elements comprising one or two or more of La, Y, Gd and Lu; and M are elements comprising one or two of Al and Ga.例文帳に追加
ここで、Lnは、La、Y、GdおよびLuのうちの1種または2種以上からなる元素であり、Mは、AlおよびGaのうちの1種または2種からなる元素である。 - 特許庁
In this manufacturing method of the ferromagnetic particles, an M_2(CO)_8 (in this case, M is a magnetic metal or alloy) gas is introduced, and a Ga^+ ion beam is applied to the gas by scanning, thus manufacturing the particles made of M.例文帳に追加
チェンバー内にM_2(CO)_8(Mは磁性金属または合金)ガスを導入し、該ガスにGa^+イオンビームをスキャンしながら照射することによりMからなるパーティクルを作製することを特徴とする強磁性パーティクルの作製方法。 - 特許庁
The conductive material has transparency to visible light, is represented by chemical formula Ga_2-xM_xO_3(ZnO)_m (wherein m is a natural number; and M is an element capable of being substituted for Ga), and has a crystal structure shown in Fig.1.例文帳に追加
発明1は、可視光の透過性を有する導電性材料であって、化学式Ga_2−xM_xO_3(ZnO)_m(mは自然数。M:Gaに代替可能な元素)であらわされ、図1に示す結晶構造を有することを特徴とする。 - 特許庁
The oxide semiconductor is InMO_3(ZnO)_n (M is one or plurality of elements selected from Ga, Fe, Ni, Mn, Co, and Al, n is a non-integer number greater than or equal to 1 and less than 50) and further contains hydrogen.例文帳に追加
InMO_3(ZnO)_n(M=Ga、Fe、Ni、Mn、Co及びAlから選ばれた一又は複数の元素、nは1以上50未満の非整数)でありさらに水素を含む。 - 特許庁
R=one or two kinds of Lu and Yb, M=one or two kinds of Ga and Al, 0.25≤w≤0.7, 0≤x≤0.05, and 0≤y≤0.24.例文帳に追加
化学式:(Bi_wR_1-wーxPb_x)_3(M_yFe_1-y)_5O_12 ただし、 R=Lu、Ybから選ばれる1種または2種 M=Ga、Alから選ばれる1種または2種 0.25≦w≦0.7、 0≦x≦0.05、 0≦y≦0.24 - 特許庁
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