reduce Rとは 意味・読み方・使い方

In order to reduce the degree of asymmetry, the value of at least one of a left bending coefficient c_L+, a left stretching coefficient _cL-, a right bending coefficient c_R+, and a right stretching coefficient c_R- is adjusted.例文帳に追加

そして、非対称度ｓを低下させるように、左屈曲係数ｃ_L+、左伸展係数ｃ_L-、右屈曲係数ｃ_R+及び右伸展係数ｃ_R-のうち少なくとも１つの値が調節される。 - 特許庁

To reduce an overhead when accessing to a static class such as Java(R) VM from a dynamic script language such as PHP.例文帳に追加

ＰＨＰのような動的スクリプト言語処理系から、Ｊａｖａ(R)ＶＭのような静的クラスにアクセスする際のオーバーヘッドを減らす。 - 特許庁

To reduce the production cost by r educing the number of expensive photoetching processes at the time of manufacturing a solar battery.例文帳に追加

太陽電池を製造する時の高価な写真エッチング工程数を減らし，生産費用を低減する。 - 特許庁

The ranging area setting part 15b sets the size of the ranging area R so as to expand the ranging area R when the number of reception of the ranging codes increases and to reduce the ranging area R when the number of reception of the ranging codes decreases.例文帳に追加

レンジング領域設定部１５ｂは、レンジングコードの受信数が増加すると、レンジング領域Ｒを拡張し、レンジングコードの受信数が減少すると、レンジング領域Ｒを縮小するようにレンジング領域Ｒの大きさを設定する - 特許庁

To provide a method of manufacturing an R-T-B based sintered magnet which can reduce occurrence of deposition between an R-T-B based sintered magnet and a support body, and also achieves an efficient supply of a heavy rare earth element RH from RH supply sources to R-T-B based sintered magnet bodies.例文帳に追加

Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石と支持体との溶着の発生を減少させるとともに、ＲＨ供給源からＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石体へ重希土類元素ＲＨの供給を効率よくすることができる、Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This manufacturing method includes quenching the outer circumferential surface 74 of a ring gear (R) before machining the inner circumferential surface 75 of the ring gear (R) to improve the rigidity of the outer circumferential surface 74 and to reduce the deformation of the outer circumferential surface 74 of the ring gear (R) due to machining even when the outer circumferential surface 74 is machined.例文帳に追加

リングギヤＲの内周面７５に機械加工を施す前に、リングギヤＲの外周面７４を焼入れすることで、その外周面７４の剛性が向上し、機械加工を行ってもリングギヤＲの外周面７４への加工歪を抑制させることができる。 - 特許庁

A substrate radius vector component v_r of a two-fluid nozzle moving speed (v) is set in inverse proportion to the distance (r) from the substrate center and then variance in washing scan time per unit area in the substrate surface is reduced in the substrate treatment to reduce washing variance.例文帳に追加

その基板処理において、２流体ノズル移動速度ｖの基板動径成分ｖ_rが、基板中心からの距離ｒに反比例するように設定することで、基板面内において、単位面積あたりの洗浄走査時間のばらつきを低減し、洗浄ばらつきを低減する。 - 特許庁