To improve the vaporizing rate of urea water solution when adding it into an exhaust gas flow.例文帳に追加

排気ガス流に添加する際の尿素水溶液の気化率を改善する。 - 特許庁

To improve the detection rate of a true optimum solution for a real-valued vector optimization problem in which the true optimum solution exists near a local optimum solution.例文帳に追加

局所最適解の近くに真の最適解の存在する実数値ベクトル最適化問題に対して、真の最適解の発見率を向上させる。 - 特許庁

A resin substrate is treated with a first ozone solution having the high activation rate, and after that, the resin substrate is treated with a second ozone solution having the activation rate lower than that of the first ozone solution.例文帳に追加

樹脂基板を活性化速度の大きい第１のオゾン溶液で処理した後に、第１のオゾン溶液より活性化速度の小さい第２のオゾン溶液で処理する。 - 特許庁

The etching solution for metal contains a base etching solution and a retardant, and is characterized in that the etching rate is independent of or reverse dependent on the stirring rate of the etching solution.例文帳に追加

ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 - 特許庁

To precisely control the flow rates of an aqueous silver nitrate solution and an aqueous halogen salt solution added to a protective colloidal solution in wide flow rate ranges when the aqueous solutions are fed into a precipitation vessel in which the colloidal solution is present.例文帳に追加

硝酸銀水溶液とハロゲン塩水溶液を、保護コロイド溶液の存在する沈殿容器内へ送液して添加する際に、添加流量を精密に制御し、且つ広範な流量範囲に対応可能とする。 - 特許庁

To provide a method for modifying solution capable of controlling the rate of oxidation reaction by modifying a aq. solution and the reforming device.例文帳に追加

水溶液を改質することにより酸化反応速度を制御することの可能な溶液の改質方法及び改質装置を提供する。 - 特許庁

The refrigerant solution returning device for returning the condensed refrigerant solution is equipped whereby a heat transfer rate at the refrigerant side in the treating air cooler is increased remarkably.例文帳に追加

凝縮した冷媒液を戻す冷媒液戻し装置を備えるので、処理空気冷却器内の冷媒側の熱伝達率が著しく高くなる。 - 特許庁

To enable silicon compound to be removed from waste etching solution at a high removal rate and waste etching solution to be recycled without disposing it.例文帳に追加

エッチング液から高い除去率でケイ素化合物を除去することができ、エッチング液を処分することなく再利用する。 - 特許庁

The feeding rate of the chlorine based aqueous solution by a chlorine based aqueous solution pump 36B is controlled in accordance with the value of the pH obtained from the pH sensor 42.例文帳に追加

このｐＨセンサー４２のｐＨ値の値に応じて塩素系水溶液ポンプ３６Ｂによる塩素系水溶液の供給速度が制御される。 - 特許庁

To provide a flame-resistant polymer solution which has a high flame-resisting progress rate, excellent productivity and good solution stability.例文帳に追加

耐炎化進行度が高く、生産性に優れ、溶液安定性の良好な耐炎ポリマー溶液を提供する。 - 特許庁

To keep the whole flow rate const. even when the mixing ratio of blood and a medicinal solution is changed during delivery of a solution.例文帳に追加

送液中に血液と薬液の混合比率を変更した場合にも、総流量を一定に維持することができるようにする。 - 特許庁

To provide an infusion pump with which medicinal solution can be sent in good accuracy in a wide setting range of the infusion rate of the medicinal solution, and electricity is reduced.例文帳に追加

幅広い薬液の注入速度の設定範囲で、精度良く薬液を送ることができ、電力を低減することができる輸液ポンプを提供する。 - 特許庁

The transfusion apparatus comprising a setting part for setting the quantity and flow rate of transfusion solution etc. and a display part for displaying the quantity and flow rate of transfusion solution etc. is characterized by increasing/decreasing the inputted numeric value by one as synchronized with buzzer sound whenever a key of 100 figures is pressed for inputting the flow rate of the transfusion solution (mL/h) by the setting part.例文帳に追加

輸液量、輸液流量等を設定する設定部、該輸液量、該輸液流量等を表示するための表示部を備えた輸液装置であって、設定部で輸液流量(ｍＬ/ｈ)を入力する時、１００ケタのキーを押す毎に、ブザー音と同期して１ずつ増減することを特徴とする輸液装置。 - 特許庁

Since a high flow rate or a low flow rate of a solution flows out through the outflow port 72 according to the position of the liquid level, by controlling operation of the solution pump according to a flow rate of a solution, the position of the liquid level can be held in a given range.例文帳に追加

液面の位置に応じて流出口７２から大流量又は小流量の溶液が流出するので、溶液の流量に応じて溶液ポンプの作動を制御することにより、液面の位置を所定の範囲内に保持できることになる。 - 特許庁

The solution of pressure and a flow rate component is set by using an eigenvalue and generalized coordinates (step S3).例文帳に追加

圧力と流速成分の解を、固有値と一般化座標を用いて設定する（ステップＳ３）。 - 特許庁

To increase a plating rate in electroless plating, and to prolong the lifetime of a plating solution.例文帳に追加

無電解めっきにおいてめっき速度を上げると共に、めっき液の長寿命化を図る。 - 特許庁

Even after the inorganic fibers have a heat history, the dissolution rate in physiological saline solution is kept ≥1%.例文帳に追加

無機繊維が熱履歴を持った後も、生理食塩水溶解率が１％以上である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing electrolytic solution realizing a battery excellent in rate characteristic and production efficiency.例文帳に追加

レート特性および生産効率に優れた電池を実現する電解液の製造方法を提供する。 - 特許庁

According to this method, capacity lowering due to fall of liquid utilization rate of the electrolyte solution can be detected.例文帳に追加

この方法によれば、電解液の液利用率の低下による容量低下を検出できる。 - 特許庁

The poly(arylene ether) solution is mixed with the poor solvent at a shear rate greater than 50,000 s^-1.例文帳に追加

ポリ（アリーレンエーテル）溶液を５００００ｓ^−１を超える剪断速度で貧溶媒と混合する。 - 特許庁

To recover ions from an aqueous ion-containing solution (waste water and the like) at a high recovery rate and with high efficiency.例文帳に追加

イオン含有水溶液(廃水等)からイオンを高い回収率で、かつ、効率的に回収する。 - 特許庁

To improve high-rate discharge performance of a nonaqueous electrolyte cell with a little electrolyte solution.例文帳に追加

電解液量の少ない非水電解質電池の高率放電性能を改善する。 - 特許庁

To provide a method for producing an SiC single crystal improved in crystal growth rate by a solution process.例文帳に追加

結晶成長速度を向上させた溶液法によるＳｉＣ単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further after addition of each aqueous solution, dilution reaction rate is raised gradually or by stages.例文帳に追加

また、各水溶液を添加した後、徐々に若しくは段階的に希釈反応速度を速める。 - 特許庁

CONTROL DEVICE FOR FLOW RATE IN SUPPLYING ELECTROLYTIC SOLUTION, AND METHOD FOR MANUFACTURING STARTING SHEET USING THE DEVICE例文帳に追加

電解液給液流量制御装置およびその装置を使用した種板製造方法 - 特許庁

The selective separation membrane increases the water permeating rate in physiological salt solution by 1.07 or more times the water permeating rate in pure water.例文帳に追加

生理食塩水中の透水速度が純水中の透水速度より１．０７倍以上増加する選択分離膜。 - 特許庁

A solution x in which f(x) indicating the currency options (x is spot rate (spot exchange rate)) is set to 0 is determined.例文帳に追加

通貨オプション料を示すf(x)（ただし、xはスポットレート（直物（じきもの）為替レート））が０となるようなx（解）を決定する。 - 特許庁

To provide a polishing solution which keeps a preferable polishing rate and forming a buried pattern composed of a metal film that has sufficiently low etching rate.例文帳に追加

研磨速度を維持しつつ、エッチング速度が十分に低い金属膜の埋め込みパターンを形成する研磨液を提供する。 - 特許庁

A heat flow rate is obtained from the resistance, an application voltage, and the surface area of the heating means, and the concentration of the mixture solution is obtained from the heat flow rate and the surface temperature.例文帳に追加

抵抗値と印加電圧、加熱手段の表面積から熱流束を求め、熱流束と表面温度から混合溶液の濃度を求める。 - 特許庁

To provide a low cost fire extinguishing agent flow rate regulating device for stabilizing mixing concentration irrespective of the flow rate of water supply and a fire extinguishing agent stock solution.例文帳に追加

コストが安く、送水及び消火剤原液の流量にかかわらず混合濃度を安定化させる消火剤流量調整器を提供する。 - 特許庁

To change a set flow rate with a simple and inexpensive constitution while supplying a treating solution with a set constant flow rate.例文帳に追加

設定された一定の流量で処理液を供給する一方で、この設定流量を、シンプル、かつ安価な構成で変更可能とする。 - 特許庁

To provide a hemodialysis apparatus for calculating a target clearance with a simple work, while suppressing a cost, and obtaining the flow rate of a dialysis solution or a blood flow rate required for attaining the target clearance, based on a set blood flow rate or the set flow rate of dialysis solution.例文帳に追加

コストを低く抑えつつ、簡単な作業で目標クリアランスを算出し、設定された血流量または透析液流量から、この目標クリアランスを達成するために必要な透析液流量または血流量を求めることの出来る血液透析装置を提供する。 - 特許庁

A rate θp located 20% from the top of the rate θ calculated for past 100 seconds up to the time tn and lined in an increasing order is computed and an electrolytic solution gravity d is computed by substituting the rate θp into a corresponding expression between the preset rate θp and the electrolytic solution gravity (S112, 114).例文帳に追加

時刻ｔｎまでの過去１００秒間に算出した割合θを小さい順に並べたときの先頭から２０％の位置の割合θｐを演算し、予め設定された割合θｐと電解液比重との対応式に割合θｐを代入して電解液比重ｄを演算する（Ｓ１１２、１１４）。 - 特許庁

The method for neutralizing a hydrochloric acid solution of Rh to obtain a neutralized substance capable of being filtered at a high rate includes adding the alkali to the aqueous hydrochloric acid solution of Rh or the aqueous hydrochloric acid solution of Rh containing the heavy metal so that the neutralized solution produces a yellow neutralized precipitate, when neutralizing and precipitating Rh and other components contained in the aqueous solution.例文帳に追加

Rhの塩酸水溶液、及び重金属を含むRh塩酸水溶液において、アルカリを添加しRh及びその他の成分を中和沈殿させる際に、アルカリ添加を黄色の中和沈殿物を生成させるように添加することにより、ろ過速度の大きい中和物を得るRh塩酸溶液の中和方法。 - 特許庁

When a compound obtained from the reaction of magnesium sulfate with ammonium hydrogenfluoride at a molar rate of 1:1 is mixed with an aqueous solution containing hydrofluoric acid at an optional rate, the viscosity of the solution is gradually increased and it is gelatinized.例文帳に追加

硫酸マグネシウムと弗化水素アンモニウムを１：１モルにて反応させた化合物に、任意の割合で弗化水素酸を含む水溶液に混ぜると、次第に溶液の濃度が増し、ゲル化する。 - 特許庁

A coating solution having a property in which viscosity is reduced when shear rate is increased (thixotropy) is used, and the viscosity of the coating solution is reduced, when applied to a substrate, by applying a large shear rate to thereby prevent the coating unevenness.例文帳に追加

剪断速度が大きいと粘度が小さくなる性質（チクソトロピー性）を有するコーティング液を用い、基板に塗布するとき大きな剪断速度を加えてコーティング液の粘度を小さくし、塗布ムラを防ぐ。 - 特許庁

The coating width-die gap map selecting section 1630 selects a coating width-die gap map used for calculation of the die gap based on the measurement values of flow rate and viscosity, and a coating solution flow rate-coating solution viscosity map.例文帳に追加

塗工幅−ダイギャップマップ選択部１６３０は，流量と粘度の測定値と，塗工液流量−塗工液粘度マップに基づいて，ダイギャップを算出するのに用いる塗工幅−ダイギャップマップを選択する。 - 特許庁

To provide an etching solution which is improved in etching performance of a poor liquid contact portion by controlling an etching rate of the etching solution and is reduced in the difference in the etching rate due to a difference in the liquid contact.例文帳に追加

エッチング液のエッチング速度をコントロールし、液あたりの悪い部分のエッチング性を向上させ、液あたりの差によるエッチング速度差の少ないエッチング液を提供する。 - 特許庁

The injection nozzle 18 is used wherein a flow rate suppressing member 53 that has the inner diameter ϕ2 in which a liquid film is not formed by surface tension of the organic electrolytic solution and which sets the flow rate of the organic electrolytic solution adaptable to an impregnation speed to an electrode plate group 30 of the organic electrolytic solution is installed.例文帳に追加

注液ノズル１８として、有機電解液の表面張力による液膜が生じない内径φ２を有し、且つ有機電解液の極板群３０への含浸速度に適応する有機電解液の流量を設定する流量抑制部材５３が内壁面に設けられたものを用いる。 - 特許庁

The producing apparatus 1 comprises an aqueous silver nitrate solution tank 11, an aqueous halogen salt solution tank 12, a precipitation vessel 13, solution feeding lines 16 and 17 and a flow rate controller 31.例文帳に追加

製造装置１は、硝酸銀水溶液タンク１１、及びハロゲン塩水溶液タンク１２と、沈殿容器１３と、送液する送液ライン１６、及び１７と、流量制御装置３１とから構成される。 - 特許庁

Subsequently, the remaining tungsten film and a portion of the silicon oxide film are polished using a third polishing solution generated by mixing the first polishing solution and a second polishing solution exhibiting higher polishing rate for the silicon oxide film 3 than for the tungsten film 5b.例文帳に追加

その後、第１研磨液と、タングステン膜５ｂの研磨速度に対して酸化シリコン膜３の研磨速度が速い第２研磨液とを混合した第３研磨液を用いて、残りのタングステン膜と酸化シリコン膜の一部を研磨する。 - 特許庁

To provide a cleaning solution compounding device and a cleaning solution supply method in a CMP (chemical-mechanical polishing) apparatus for stabilizing the concentration and flow rate of a cleaning solution supplied to a cleaner.例文帳に追加

ＣＭＰ装置の洗浄機に供給される洗浄液の濃度と流量を安定させるＣＭＰ装置における洗浄液調合装置及び洗浄液供給方法を提供する。 - 特許庁

The etching rate equal to or above the attained by the industrially applied caustic soda solution having high concentration is attained with the caustic soda solution having low concentration by pressurizing the caustic soda solution and as a result, the crystallization is performed under a concentration condition at which the crystallization is facilitated.例文帳に追加

苛性ソーダ溶液を加圧することにより低濃度の苛性ソーダ溶液で工業的に使用できる高濃度以上のエッチング速度が得られ、それにより、容易に晶析できる濃度条件とすることができる。 - 特許庁

The developing solution discharging nozzle 30 is provided with a slit whose discharging width is bigger than the diameter of the substrate W, while the width of the treatment solution discharged out of the slit is changed in accordance with the flow rate of the developing solution supplied to the slit.例文帳に追加

現像液吐出ノズル３０は基板Ｗの直径以上の吐出幅のスリットを有し、そのスリットに供給される現像液の流量に応じて該スリットから吐出される処理液の幅が変化する。 - 特許庁