「"Pulse energy"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A pulse energy is used that exceeds the minimum pulse energy required for ablation at the waist.例文帳に追加

くびれ部で切除するために必要な最小限のパルス・エネルギーを超えるパルス・エネルギーが使用される。 - 特許庁

LASER MACHINING APPARATUS, AND METHOD FOR SETTING THRESHOLD OF PULSE ENERGY例文帳に追加

レーザ加工装置及びパルスエネルギのしきい値設定方法 - 特許庁

A threshold storage means 18a stores the threshold of the pulse energy.例文帳に追加

しきい値記憶手段１８ａが、パルスエネルギのしきい値を記憶する。 - 特許庁

Further, transmittance T of the output attenuating mechanism 50 is controlled on the basis of a signal transmitted from an exposure device 200 and indicating the target pulse energy Pt so that output energy of the laser device 1 may reach target pulse energy Pt (<target pulse energy PL) required in the exposure device 200.例文帳に追加

また、レーザ装置１の出力エネルギを、露光装置２００で要求される目標パルスエネルギＰt（＜目標パルスエネルギＰL）に一致させるべく、露光装置２００から送信された目標パルスエネルギＰtを示す信号に基づき、出力減衰機構５０の透過率Ｔを制御する。 - 特許庁

In addition, the main controller 70 controls the transmission factor T of the output attenuating mechanism 50 based on a signal showing a target pulse energy Pt transmitted from an exposing apparatus 200, in order to accord the output energy of the laser apparatus 1 to the target pulse energy Pt (smaller than the target pulse energy PL) required by the exposing apparatus 200.例文帳に追加

また、レーザ装置１の出力エネルギを、露光装置２００で要求される目標パルスエネルギＰt（＜目標パルスエネルギＰL）に一致させるべく、露光装置２００から送信された目標パルスエネルギＰtを示す信号に基づき、出力減衰機構５０の透過率Ｔを制御する。 - 特許庁

A surface layer part of the internal layer pattern is subjected to etching by making incident the pulse laser beam in the ultraviolet range on the internal layer pattern so as to make the pulse energy density on the surface of the internal layer pattern exposed on a bottom face of the hole to become second pulse energy density which is larger than the first pulse energy density.例文帳に追加

穴の底面に露出した内層パターンの表面におけるパルスエネルギ密度が、第１のパルスエネルギ密度よりも大きな第２のパルスエネルギ密度になるように、該内層パターンに紫外域のパルスレーザビームを入射させて、該内層パターンの表層部をエッチングする。 - 特許庁

An energy measurement instrument 17 measures the pulse energy of the laser beams propagating along the measurement path.例文帳に追加

エネルギ測定器１７が、測定用経路に沿って伝搬するレーザビームのパルスエネルギを測定する。 - 特許庁

A light intensity detector 9 detects the pulse energy of a pulse laser beam L.例文帳に追加

光強度検出器９が、パルスレーザ光Ｌのパルスエネルギを検出する。 - 特許庁

To obtain a laser device which precisely controls a laser light output and laser pulse energy.例文帳に追加

レーザ光出力およびレーザパルスエネルギーの精密な制御が可能なレーザ装置を得る。 - 特許庁

RADIATION PULSE ENERGY CONTROL SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

放射線パルスエネルギー制御システム、露光装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

A lithography system and a method of equalizing pulse to pulse energy in a light beam are also provided.例文帳に追加

リソグラフィシステム、及び、光ビームのエネルギをパルス間で平準化する方法も提供される。 - 特許庁

This also includes keeping the pulse energy constant when a pulse train is emitted.例文帳に追加

これは、パルス列が出射しているときパルスエネルギーを一定に保つことを含んでいる。 - 特許庁

PULSE ENERGY CONTROLLER OF TWO-STAGE LASER AND TWO-STAGE LASER SYSTEM例文帳に追加

２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び２ステージレーザシステム - 特許庁

To provide radiation pulses suitable for the exposure in an improved radiation pulse energy density.例文帳に追加

改良された放射線パルスエネルギー濃度で露光に用いるのに適した放射線パルスを提供する。 - 特許庁

To stabilize pulse energy by performing pulse energy control of a two-stage laser achieving high output and high iteration of laser with high precision.例文帳に追加

レーザの高出力化及び高繰り返し化を実現する２ステージレーザのパルスエネルギー制御を高精度に行い、パルスエネルギーを安定化させる。 - 特許庁

To obtain stable processing by easily bringing pulse energy to a constant value even in the case that a laser oscillator has an output characteristic that the pulse energy changes depending on an oscillation duty ratio.例文帳に追加

レーザ発振器に、発振デューティ比によりパルスエネルギが変化するという出力特性がある場合でも、簡単にパルスエネルギを一定に近づけて、安定した加工を可能とする。 - 特許庁

To obtain stabilized pulse energy by suppressing the reduction of pulse energy at high repeated frequency (for example 4,000 Hz) in an excimer laser device.例文帳に追加

エキシマレーザ装置において、高繰り返し周波数（たとえば４０００Ｈz）でのパルスエネルギー低下を抑制して、安定したパルスエネルギーが得られるようにする。 - 特許庁

A main controller 70 of a laser device 1 performs charging voltage control and gas control, so that pulse energy Pin to be input to an output attenuating mechanism 50 may reach a value (target pulse energy PL) at which pulse variance becomes small.例文帳に追加

レーザ装置１のメインコントローラ７０は、出力減衰機構５０に入力される前のパルスエネルギＰinをパルスばらつきが小さくなる値（目標パルスエネルギＰL）にすべく、充電電圧制御及びガス制御を行う。 - 特許庁

A main controller 70 of a laser apparatus 1 carries out a charging voltage control and a gas control in order to make a pulse energy Pin before being input to an output attenuating mechanism 50 a value (target pulse energy PL) of little pulse variation.例文帳に追加

レーザ装置１のメインコントローラ７０は、出力減衰機構５０に入力される前のパルスエネルギＰinをパルスばらつきが小さくなる値（目標パルスエネルギＰL）にすべく、充電電圧制御及びガス制御を行う。 - 特許庁

A control device 18 compares the measured value of the pulse energy measured by the energy measurement instrument with the threshold stored in the threshold storage means to determine normality of the pulse energy.例文帳に追加

制御装置１８が、エネルギ測定器で測定されたパルスエネルギの測定値と、しきい値記憶手段に記憶されているしきい値とを比較し、パルスエネルギの正常性を判定する。 - 特許庁

The performance index of a lithographic system with respect to a pulse radiation source is based on the moving average MA and moving standard deviation MSD of the error of actual pulse energy from target pulse energy.例文帳に追加

リソグラフィ装置でのパルス放射源に関する性能指標が、目標パルス・エネルギーと実際のパルス・エネルギーとの誤差の移動平均ＭＡおよび移動標準偏差ＭＳＤに基づいている。 - 特許庁

This smart laser uses a feedback signal from a wavemeter for automatically controlling pulse energy, wavelength, and bandwidth by a computer.例文帳に追加

波長計からのフィードバック信号を用いてパルスエネルギ、波長、バンド幅の自動コンピュータ制御を持つスマートレーザ。 - 特許庁

important reform is performed for the pulse power unit for making out shorter start up time and reformed pulse energy control.例文帳に追加

重要な改良が、より早い立ち上がり時間及び改良されたパルスエネルギ制御を作り出すためのパルスパワーユニットに提供されている。 - 特許庁

The pulse duration and pulse energy of the laser beam are selected to cause ablation to occur in front of the waist.例文帳に追加

レーザ光線のパルス持続時間とパルス・エネルギーは、くびれ部の前方で切除が行われるように選択される。 - 特許庁

To provide a fluorine molecule (F2) laser system which can be controlled, based on the detection of a single pulse energy of 157 nm.例文帳に追加

１５７ｎｍの単一パルスエネルギーを検出し、それに基づいて動作制御可能なフッ素分子（Ｆ_2）レーザシステムを提供する。 - 特許庁

The excitation of the optical fiber amplifier 302 is so controlled that the mean pulse energy of the optically amplified light pulses becomes constant.例文帳に追加

光増幅された光パルスの平均パルスエネルギーが一定になるように、光ファイバ増幅器３０２の励起を制御する。 - 特許庁

An energy regulator emits the pulse laser beam to a machining route after lowering the pulse energy of an incident pulse laser beam.例文帳に追加

エネルギ調整器が、入射するパルスレーザビームのパルスエネルギを低下させて、加工用経路に出射させる。 - 特許庁

Further, a clear linear spectrum can be obtained even in pulse energy of several mJ and the damage to the surface of the solid is reduced.例文帳に追加

また、パルスエネルギーは数mJでも明確な線スペクトルを得ることができるため、固体表面に与えるダメージも少ない。 - 特許庁

By means of this laser, it is not necessary to increase the pulse energy, so that cutting of tissues can be performed more efficiently.例文帳に追加

このレーザにより、パルスエネルギを増加させる必要なく組織の切断をより効率的に行なうことができる。 - 特許庁

Also, the excimer laser system makes possible the operation of a laser which is performed at its substantially maximum efficiency over the wide range of the pulse energy outputs of the laser.例文帳に追加

本発明は、パルスエネルギ出力の広範囲に亘って、実質的に最大効率のレーザの操作を可能にする。 - 特許庁

A laser emitting means emits pulse laser beams in which pulse energy is changed for each laser pulse while being controlled from the outside.例文帳に追加

レーザ出射手段が、外部から制御されて、レーザパルスごとにパルスエネルギを変化させたパルスレーザビームを出射する。 - 特許庁

Each pulse energy of the second split laser pulses has a size with which the first metallic film is not melted.例文帳に追加

第２の分割レーザパルスの各々のパルスエネルギは、第１の金属膜を溶融させない大きさである。 - 特許庁

To change the pulse energy and the repetition frequency of laser light while maintaining superior processing accuracy by using a single laser light source apparatus.例文帳に追加

同じレーザ光源装置を用いて、加工精度を良好に保ちつつ、レーザ光のパルスエネルギーおよび繰返し周波数を変化させる。 - 特許庁

To provide a breaking-in operating method of a laser oscillator which can stabilize pulse energy and profile of a pulse laser beam in a short period.例文帳に追加

パルスレーザ光のパルスエネルギ及びプロファイルを短期間で安定化させることができるレーザ発振器のならし運転方法を提供する。 - 特許庁

The distance between a certain point to be machined and the point to be machined where is next machined is calculated and the physical quantity by which the lowering quantity of the pulse energy is stipulated is calculated.例文帳に追加

ある被加工点から、次に加工する被加工点までの距離を算出し、パルスエネルギの低下量を規定する物理量を算出する。 - 特許庁

The sweep treatment is specified as a treatment which stepwise changes the frequency of Q-SW oscillation and in which, as the frequency is getting shorter, the Q-SW pulse energy and a peak power are stepwise decreased.例文帳に追加

スイープ処理は、Ｑスイッチ発振の周波数を変化させ、Ｑスイッチのピークパワーとパルスエネルギーを制御する処理である。 - 特許庁

To generate plural pulses of X-rays while restraining pulse energy from being lowered.例文帳に追加

パルスエネルギの低下を抑制しつつ、複数パルスのＸ線を発生することが可能な短パルスＸ線発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser oscillator that allows desired adjustment of pulse energy by a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成でパルスエネルギーを所望のように調整することのできるレーザ発振装置を提供すること。 - 特許庁

Further, The correspondence relation between a distance between the points to be machined and physical quantity by which the lowering quantity of the pulse energy with the energy regulator is stipulated are stored.例文帳に追加

さらに、被加工点間の距離と、エネルギ調整器によるパルスエネルギの低下量を規定する物理量との対応関係を記憶する。 - 特許庁

To generate high quality pulsed laser beams at a pulse rate of about 4,000 Hz or greater and at a pulse energy of about 5 mJ or greater.例文帳に追加

約4,000Hz又はそれを超えるパルス速度及び約5mJ又はそれを超えるパルスエネルギーで高品質パルスレーザビームを生成する。 - 特許庁

A second pulse laser beam which has a second pulse width larger than the first pulse width is made incident on the semiconductor substrate on condition that it has second pulse energy density lower than the first pulse energy density on the surface of the semiconductor substrate, thereby activating mainly first impurities.例文帳に追加

第１のパルス幅よりも長い第２のパルス幅を持つ第２のパルスレーザビームを、半導体基板の表面において第１のパルスエネルギ密度よりも低い第２のパルスエネルギ密度となる条件で、半導体基板に入射させ、主として第１の不純物を活性化させる。 - 特許庁

A hole 60 penetrating the insulating film is formed by making incident a pulse laser beam in the ultraviolet range on the position overlapping the internal layer pattern 51 of the insulating film 52 so as to make pulse energy density on the surface of the insulating film to become first pulse energy density.例文帳に追加

絶縁膜５２の、内層パターン５１と重なる位置に、該絶縁膜の表面におけるパルスエネルギ密度が第１のパルスエネルギ密度になるように紫外域のパルスレーザビームを入射させて、該絶縁膜を貫通する穴６０を形成する。 - 特許庁

A first signal μ in proportion to pulse power p(t) or pulse energy averaged over a resonator cycle is measured for the laser emission.例文帳に追加

共鳴器サイクルにわたって平均化されたパルスパワーｐ（ｔ）又はパルスエネルギーに比例した第一信号μが、レーザー発光に対して測定される。 - 特許庁

The excimer laser can generate a high-quality pulsed laser beam at a pulse rate of about 4,000 Hz with pulse energy of about ≥5 mJ.例文帳に追加

本発明は、パルス速度約４，０００Ｈｚ、パルスエネルギー約５ｍＪ以上で高品質パルスレーザービームを発生させることができるエキシマレーザーを提供する。 - 特許庁

An improved wavemeter provided with special software maintains the wavelength and pulse energy of the laser beam within prescribed limits by controlling a high-speed PZT driving tuning mirror and a pulse power charging voltage.例文帳に追加

特別なソフトウェアを備えた改良型波長計は出力ビームパラメータを監視し、高速ＰＺＴ駆動チューニングミラー及びパルスパワー充電電圧を制御して、波長及びパルスエネルギーを所定限度内に維持する。 - 特許庁