「"Pulse energy"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A system for equalizing pulse to pulse energy of a light beam includes a group of optical devices including an optical device having third order nonlinear properties.例文帳に追加

光ビームのエネルギをパルス間で平準化するシステムは、３次の非線形特性を有する光学デバイスを含む一群の光学デバイスを備える。 - 特許庁

To provide a laser beam irradiation reaction device capable of enlarging the rate of reaction region in the volume of a reaction vessel without raising the output pulse energy of a laser beam generator.例文帳に追加

レーザ光発生装置の出力パルスエネルギーを高めることなく反応容器の容積に占める反応領域の割合を大きくすることができるレーザ光照射反応装置を提供する。 - 特許庁

This apparatus for shock wave emission has a metal foil 5 and an energy source for impressing an absorbable short-pulse energy to transpire the metal to form a plasma on one face 5a of the metal foil.例文帳に追加

衝撃波発生装置が金属箔５とその一方の面５ａにその金属の蒸散・プラズマ化を行う吸収性の短パルスエネルギーを印加するエネルギー源とを有する。 - 特許庁

To provide excimer laser device which can minimize variations in the exposure by eliminating a spike-like pattern of pulse energy, and perform exposure with a less number of pulses than a conventional laser.例文帳に追加

パルスエネルギーのスパイク状パターンを消去し、露光量のバラツキを最少限にすると共に従来より少ないパルス数での露光を可能とするエキシマレーザ装置を得る。 - 特許庁

The two discharge chambers can be separately controlled, and enable the system to optimize a wavelength parameter in the master oscillator and a pulse energy parameter in an amplifying chamber.例文帳に追加

２つの放電室は別個に制御することができ、主発振器内の波長パラメータの最適化及び増幅室内のパルスエネルギーパラメータの最適化を可能にする。 - 特許庁

To provide a laser machining apparatus capable of setting the threshold of the pulse energy with excellent precision even when an optical apparatus to fluctuate the mean power of pulse laser beams is inserted in a beam path.例文帳に追加

パルスレーザビームの平均パワーを変動させるような光学装置がビーム経路内に挿入されている場合でも、パルスエネルギのしきい値を精度良く決定できるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light source device outputting short pulse light having high pulse energy or pulse peak compared favorably with that of a Q switch laser light source.例文帳に追加

Ｑスイッチレーザ光源の場合と比べて遜色無い程度に高いパルスエネルギまたはパルスピークを有する短パルス光を出力することができる光源装置を提供する。 - 特許庁

The extended pulse laser beam is approached to the time width that has to be met with the electric discharge time of an optical output amplifier 18 in view of the band narrowing of pulse energy and spectrum.例文帳に追加

この拡張後のパルスレーザ光は、光出力増幅器１８の放電時間との整合性、パルスエネルギ、スペクトル狭帯域化といった点から、満足しなければならないパルスの時間的な幅に近づく。 - 特許庁

The hole is formed on the insulating layer exposed on a bottom surface of the hole formed on the metal layer by enlarging a beam spot so that pulse energy density on the surface of the work object becomes less than the threshold for etching the metal layer.例文帳に追加

加工対象物の表面におけるパルスエネルギ密度が、金属層をエッチングするための閾値未満になるように、ビームスポットを大きくし、金属層に形成された穴の底面に露出している絶縁層に穴を形成する。 - 特許庁

Based on the estimated changes in transmittance, a coefficient of correlation α(t) between the energy information about illumination light IL measured at the measurement point and the pulse energy density on the image plane is renewed at intervals Δt.例文帳に追加

予測された前記各透過率変動量に基づいて、計測点で計測される照明光ＩＬのエネルギ情報と像面におけるパルスエネルギ密度との相関係数α（ｔ）が、Δｔ間隔で更新される。 - 特許庁

A charge voltage Vamp to the main capacitor C0 disposed in an amplification high voltage pulse generator 32 of an amplification laser 300 is controlled, and the pulse energy Pamp of the amplification laser 300 is set to target energy Patgt.例文帳に追加

そして、増幅用レーザ３００の増幅用高電圧パルス発生器３２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖampを制御し、増幅用レーザ３００のパルスエネルギーＰampを目標エネルギーＰatgtにする。 - 特許庁

To generate peak intensity and pulse energy larger than those achieved with a single mode (SM) fiber, by increasing capacity for accumulating energy in an optical fiber amplifier before undesirable non-linearity and gain saturation start.例文帳に追加

好ましくない非線形性と利得飽和とが始まる前に、光ファイバー増幅器にエネルギーを蓄積する能力を大きくし、単一モード（ＳＭ）ファイバーで達成できるより大きいピーク強度およびパルスエネルギーを発生させること。 - 特許庁

To provide an optical frequency comb-stabilizing light source which achieves communication wavelength band CEO locking by using a laser pulse light source of pulse energy, requires no fiber laser amplifier stage, and is miniaturized.例文帳に追加

パルスエネルギーのレーザーパルス光源を用いて通信波長帯ＣＥＯロックを実現し、ファイバレーザーアンプ段を必要としない小型化を実現した光周波数コム安定化光源を提供する。 - 特許庁

The circuit is used to control the gain of the high-power fiber amplifier system such that each amplified output pulse has a predetermined pulse energy when the pulse width and repetition rate of an oscillator are changed.例文帳に追加

発振器のパルス幅と繰り返し率とが変えられるとき、増幅された出力パルスが所定のパルスエネルギーを持つように、高パワーファイバ増幅器システムの利得を制御するために、回路は使用される。 - 特許庁

Pulse energy E per shot is calculated from E=(P/f)×{T1/(T1+T 2)}, where P indicates the output power of an oscillator 10, f indicates oscillation frequency, T1 indicates oscillation time, and T2 indicates pause time.例文帳に追加

１ショット当たりのパルスエネルギＥを、発振器１０の出力パワーＰ、発振周波数ｆ、発振時間Ｔ１、休止時間Ｔ２から、次式 Ｅ＝（Ｐ／ｆ）×｛Ｔ１／（Ｔ１＋Ｔ２）｝ により計算する。 - 特許庁

To provide a picture-drawing method for glass which method, in drawing a three-dimensional image by coloring the inside of glass by scanning with a laser beam, hardly causes cracks due to pulse energy, i.e. the energy of the laser beam, in a picture-drawing part.例文帳に追加

レーザビームを走査してガラスの内部を着色させて立体像を描画する場合に、レーザビームのエネルギーであるパルスエネルギーによって描画部にクラックを発生させ難いガラスの描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a seeded light injection module gas discharge laser system capable of generating a high quality-pulse laser beam with about 4,000 Hz of pulse repetition rate or more and pulse energy of about 5 mJ or more.例文帳に追加

約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率及び約５ｍＪ以上のパルスエネルギーで高品質パルスレーザ光を生成することができるシード光注入モジュール放電ガスレーザシステムを提供する。 - 特許庁

Sweep treatment is preferably a treatment which continuously and gradually shortens pulse intervals of Q-SW oscillation and gradually reduces Q-SW pulse energy.例文帳に追加

Ｎｄ：ＹＡＧなどのＱスイッチ発振が可能な基本波レーザ発振器または非線形結晶を用い、波長変換された高調波レーザを用い、スリープ処理を行ってブラインドビアホールの穴あけ加工を行う。 - 特許庁

In an information-recording apparatus which forms a recording mark, by irradiating a recording medium with a multi-pulse energy beam, the mean power of the intermediate pulse is measured and set at a prescribed value.例文帳に追加

エネルギービームをマルチパルス化して記録媒体に照射する事により記録マークを形成する情報記録装置において、中間パルスの平均パワーを測定し、これを所定の値に設定する。 - 特許庁

To provide a seed light injection module gas discharge laser system capable of generating a high quality-pulse laser beam with about 4,000 Hz of pulse repetition rate or more and a pulse energy of about 5 mJ or more.例文帳に追加

約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率及び約５ｍＪ以上のパルスエネルギーで高品質パルスレーザ光を生成することができるシード光注入モジュール放電ガスレーザシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a laser system which can enlarge a dynamic range of a laser output without deteriorating each pulse energy stability, and to provide a laser exposing system.例文帳に追加

毎パルスエネルギ安定性を悪化させることなく、レーザ出力のダイナミックレンジを大きくできるレーザシステムまたはレーザ露光システムを提供すること。 - 特許庁

First, a variation degree as the guide of the degree of variation is measured for each of a plurality of repetition frequencies between pulses in pulse energy of a pulse laser beam to be emitted from a laser oscillator.例文帳に追加

まず、複数の繰り返し周波数の各々について、レーザ発振器から出射されるパルスレーザ光のパルスエネルギの、パルス間でのばらつきの度合いの目安となるばらつき度を計測する。 - 特許庁

This apparatus for gene transfer has an arrangement part of fine particles 9 to which genes 8 are attached on a face 5b at the other side of the face 5a on which the short- pulse energy is impressed.例文帳に追加

遺伝子導入装置が、短パルスエネルギーを印加する一方の面５ａと反対側の面５ｂに、遺伝子８を付着させた微粒子９の配置部を有する。 - 特許庁

To provide a laser machining method capable of preventing the shape of a via hole from being degraded even when the number of shots of pulse laser beams, the pulse energy density on a surface of irradiation or the like becomes excessive.例文帳に追加

パルスレーザ光のショット数や照射面におけるパルスエネルギ密度等が過大になった場合でも、ビアホールの形状が悪化してしまうことを防止する。 - 特許庁

To provide an apparatus for laser processing capable of processing at a high speed and in a high quality by keeping high a pulse energy density on a surface of an object to be processed.例文帳に追加

加工対象物表面におけるパルスエネルギ密度を高く維持し、高速かつ高品質な加工を行うことが可能なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

The laser beam pulse generator is constituted so as to provide the laser beam pulse having larger energy than the most suitable laser beam pulse energy corresponding to the maximum output of the radiation of a prescribed wavelength with respect to prescribed discharge energy.例文帳に追加

レーザビームパルスジェネレータは、所定放電エネルギに対する所定波長の放射の最大出力に対応する最適レーザビームパルスエネルギよりも大きいエネルギを有するレーザビームパルスを提供するように構成される。 - 特許庁

To generate a pulse energy having a peak intensity larger than those achieved with a single mode (SM) fiber, by increasing a capacity for accumulating energy in an optical fiber amplifier before starting undesirable non-linearity and gain saturation.例文帳に追加

好ましくない非線形性と利得飽和とが始まる前に、光ファイバー増幅器にエネルギーを蓄積する能力を大きくし、単一モード（ＳＭ）ファイバーで達成できるより大きいピーク強度およびパルスエネルギーを発生させること。 - 特許庁

To provide a wavelength conversion laser device which can generate wavelength conversion pulse laser beam of high pulse energy stably for a long time without damaging an optical element and provide a laser processing device which carries out higher wavelength conversion highly effectively and enables rapid processing.例文帳に追加

高パルスエネルギーの波長変換パルスレーザビームを光学素子の損傷なく、長時間安定に発生可能である波長変換レーザ装置を提供し、また、より高次の波長変換を高効率に行い、更に、高速加工可能なレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

An optical pulse outputted from the pulse generator 12 is amplified with the pulse amplifier 14, and in the pulse amplifier 14 the gain is controlled so as to make output pulse energy constant irrespective of the pulse repetition frequency of the input pulse.例文帳に追加

パルス発生器１２から出力された光パルスは、パルス増幅器１４により増幅され、このパルス増幅器１４では、入力パルスの繰返し周波数に依らず、出力パルスエネルギーが一定となるようにその利得が制御される。 - 特許庁

The pulse energy is controlled by controlling a discharge voltage, the wavelength is controlled by controlling the position of an RMAX mirror, and the bandwidth is controlled by adjusting curvature in a diffraction grating to a shape that is more complicated than a simple projection or recess surface.例文帳に追加

パルスエネルギは、放電電圧を制御することにより制御され、波長は、Ｒ_MAXミラーの位置を制御することにより制御され、帯域幅は、回折格子の湾曲を単純な凸面又は凹面よりも更に複雑な形状に調節することにより制御される。 - 特許庁

A charge voltage Vosc to a main capacitor C0 arranged in an oscillation high voltage pulse generator 12 of the oscillation laser 100 is constantly controlled so that the pulse energy Posc of the oscillation laser 100 becomes not less than lower the limit energy Es0 of an amplification saturation region.例文帳に追加

発振用レーザ１００のパルスエネルギーＰoscが増幅飽和領域の下限エネルギーＥs0以上になるように、発振用レーザ１００の発振用高電圧パルス発生器１２に設けられた主コンデンサＣ0への充電電圧Ｖoscを一定制御する。 - 特許庁

A controller controls the laser emitting means and the beam scanner in such a manner that the pulse energy of the laser pulses emitted from the laser emitting means is changed on the basis of the positions of the incident points of the pulse laser beams scanned by the beam scanner.例文帳に追加

制御装置が、ビーム走査器によって走査されたパルスレーザビームの入射点の位置に基づいて、レーザ出射手段から出射されるレーザパルスのパルスエネルギを変化させるように、レーザ出射手段とビーム走査器とを制御する。 - 特許庁

(a) In a first and a second laser pulse which are made incident on a first and a second machining region respectively, the pulse energy of the first and the second laser pulse divided from the original pulse laser beam along the time-axis is detected using one detector.例文帳に追加

（ａ）第１の加工領域、第２の加工領域にそれぞれ入射する第１のレーザパルス、及び、第２のレーザパルスであって、原パルスレーザビームから時間軸に沿って分割された第１及び第２のレーザパルスのパルスエネルギを、同一の検出器を用いて検出する。 - 特許庁

A more superior machining surface is obtained by performing double laser beam machining and cascade machining, with an ultrashort pulse having a pulse width from 10 pico to 100 nano seconds and using a solid-state laser having a pulse energy from 1 mj to 500 J.例文帳に追加

１０ピコ秒から１００ナノ秒のパルス幅を持った超短パルスで、１ｍＪから５００Ｊのパルスエネルギーを持った固体レーザを用いて二重レーザ加工、カスケード加工を行うことで、さらに良好な加工面が得られる。 - 特許庁

To provide an optical trigger type parallel/serial conversion circuit in which a serial electric pulse, which is hardly affected by variation in circuit parameter (in other words, a production error) or variation in optical pulse energy, having a fixed pulse width is outputted onto a transmission line and its operation is further accelerated.例文帳に追加

回路パラメータのばらつき（すなわち、作製誤差）や、光パルスエネルギーの変動に影響されにくい一定なパルス幅を有するシリアル電気パルスを伝送線路上に出力すること、及びその動作のさらなる高速化を実現する光トリガ型パラレル−シリアル変換回路を提供する。 - 特許庁

Then, pulse energy on the wafer 14 is detected through an integrator sensor 25, and the impressed voltage of the eximer laser light source 1 at the time of the next pulse emission is set based on the detected result, and the eximer laser light source 1 is made to perform pulse emission based on this target value.例文帳に追加

インテグレータセンサ２５を介してウエハ１４上でのパルスエネルギーを検出し、この検出結果に基づいて次のパルス発光時のエキシマレーザ光源１の印加電圧を設定し、この目標値に基づいてエキシマレーザ光源１にパルス発光を行わせる。 - 特許庁

In the control using a computer controlling system, ΔE/ΔV, i.e., the change of a laser-pulse energy to a gas-discharge voltage is determined by monitoring laser parameters, and based on the ΔE/ΔV, the fluorine-concentration is controlled automatically and precisely without requiring any actual measurement.例文帳に追加

前記制御は、コンピュータ制御システムを用いて行われ、それは、レーザパラメータを監視し、ΔＥ／ΔＶを決定し、パルスエネルギの電圧に対する変化を決定し、及び、実際にフッ素濃度を測定する必要なしに、ΔＥ/ ΔＶに基づいてフッ素濃度を自動的、且つ正確に制御する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a rigid flex multilayer substrate or a multilayer flexible wiring board, laser processing conditions for forming a via hole 32 used for interlaminar connection are prepared such that pulse energy is 1 to 20 mJ, a pulse width is 1 to 30 μs and the number of shots is 1 to 10.例文帳に追加

層間接続に用いられるビアホール３２を作製する際のレーザ加工条件が、パルスエネルギー１〜２０ｍＪ、パルス幅が１〜３０μｓ、ショット数が１〜１０回の条件であることを特徴とするリジッドフレックス多層基板又は多層フレキシブル配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse light source which can emit ultrashort pulses having constant output pulse characteristics (pulse energy and pulse width) even when the repetition frequency of an input light pulse train is varied and is improved in convenience, and a control method of the pulse light source.例文帳に追加

入力する光パルス列の繰り返し周波数を変えても、出力パルス特性（パルスエネルギーとパルス幅）が一定の超短パルスを発生することができ、利便性の向上を図ったパルス光源およびパルス光源の制御方法を提供する。 - 特許庁

The extreme ultraviolet light forming device burst-outputs extreme ultraviolet light based on laser light output from a driver laser, and is equipped with an energy control part to energy-control the top side pulse energy of one pulse or more to include at least a first pulse out of the extreme ultraviolet light burst-output, on the basis of a parameter log of the extreme ultraviolet light burst-output in the past.例文帳に追加

ドライバレーザから出力されたレーザ光をもとに極端紫外光をバースト出力する極端紫外光生成装置であって、過去にバースト出力された極端紫外光のパラメータログをもとに、バースト出力される極端紫外光の少なくとも１パルス目を含む１パルス以上の先頭側パルスエネルギーのエネルギー制御を行うエネルギー制御部を備えてもよい。 - 特許庁

Especially, new controlling characteristics suitable for the two chamber gas discharge laser system include (1) pulse energy controlling with timing accuracy of nanosecond, (2) precise wavelength controlling between pulses by means of quick or ultra-quick wavelength adjustment, (3) quick responding gas temperature controlling, and (4) F_2 injection controlling by a new learning algorithm.例文帳に追加

特に２室放電ガスレーザシステムに適する新規な制御上の特徴としては、（１）ナノ秒のタイミング精度をもつパルスエネルギー制御、（２）高速及び極速度波長調整による精密なパルス間波長制御、（３）高速応答ガス温度制御、及び（４）新規な学習アルゴリズムによるＦ_2注入制御が含まれる。 - 特許庁

In the laser beam machining method for performing the laser beam machining of a surface of a work or a part in the vicinity thereof by using laser beams, the laser beam machining of the work 2 along the surface shape is performed by controlling the beam intensity distribution 4 in the vicinity of a laser beam condensing position 3 by controlling the laser pulse energy or the numerical aperture of a condensing lens.例文帳に追加

レーザビームを用いて被加工物の表面またはその近傍にレーザ加工を施すレーザ加工法において、レーザビームの集光位置３近傍の光強度分布４を、レーザパルスエネルギもしくは集光レンズの開口数の制御により被加工物２の表面形状に沿って制御することで、被加工物２の表面形状に沿ったレーザ加工を行う。 - 特許庁

Then, an energy average and a laser output average are obtained per constant time Ta based on the cumulative value of one pulse energy and displayed, and also a lamp power average QM and a lamp power induction rate KM are obtained by a computation based on the cumulative value of the lamp powers (SV, SI) of one pulse (a step J5).例文帳に追加

そして、一定時間Ｔa 毎にパルス１個分のエネルギーの累積値を基にエネルギー平均値およびレーザ出力平均値を求めて表示するとともに、パルス１個分のランプ電力（ＳV ・ＳI ）の累積値を基にランプ電力平均値ＱM およびランプ電力投入率ＫM を演算で求める（ステップＪ5 ）。 - 特許庁

To provide a method and a unit for stabilizing an output average of radiation emitted from a pulsed radioactive source (1) which enables a reliable regulation even when there is no sufficiently reliable operation variable for influencing an emitted pulse energy.例文帳に追加

本発明は放射線源の放出される放射線の平均出力を安定化するための方法及び装置に関しており、その課題は、放出パルスエネルギに影響を与える為の十分に信頼できる操作変数がない場合でも信頼できる調整が出来る、パルス放射線源（１）の平均放出放射線出力を安定化させる為の新たな可能性を見出すことである。 - 特許庁

The device 1 includes the sensor 2, a screen 4 and a mirror 6, wherein the sensor measures an amounts such as a dosage or pulse energy of the radiation emitted from a radiation source SO, the screen protects the sensor from the incoming particles emitted from the radiation source which emits extreme ultraviolet rays, and the mirror redirects the extreme ultraviolet rays emitted by the radiation source to the sensor passing over the screen.例文帳に追加

デバイス１は、放射源ＳＯから放出される放射のドーズ量またはパルスエネルギーといった量を測定するセンサ２、極端紫外線を放出する放射源から放出されて入射する粒子からセンサを保護するスクリーン４、および放射源により放出された極端紫外線を、スクリーンを通り越してセンサへ向かうよう向け直すミラー６を備える。 - 特許庁