「"spacing S"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The fine ruggedness on the surface of the flat parts is formed so that the average spacing (S_m) of a roughness curve is ≤700 nm.例文帳に追加

めっき面平坦部の微細凹凸は、粗さ曲線の凹凸の平均間隔（Ｓ_m）が７００ｎｍ以下である。 - 特許庁

In a method for manufacturing a double shell tank, a spacing S formed between an inner tank and an outer tank, is fed with dry air that has higher dryness than that of the air previously existing in the spacing during the period of time after starting the storage of a test fluid to the inner tank 2, and then a blanket is installed in the spacing S.例文帳に追加

内槽２への試験用液体の貯留開始以降の期間で、内槽と外槽との隙間Ｓに、当該隙間に予め存在する空気よりも乾燥した乾燥空気を供給し、その後隙間Ｓにブランケットを設置する。 - 特許庁

The integrate panel 10 is arranged with a spacing S from a surface of an existing concrete 1 in a condition where the polyurethane foam 15 side is directed to the existing concrete 1 side, and a mortar or a fiber-mixed mortar 30 is filled in the spacing S.例文帳に追加

また、 既設コンクリート１の表面から間隙Ｓをおいて、一体化パネル１０を、ポリウレタンフォーム１５側を既設コンクリート１側に向けた状態で配置し、 間隙Ｓに、モルタル又は繊維混入モルタル３０を充填する、コンクリート構造物の補強方法とする。 - 特許庁

This rubber composition is obtained by compounding a diene rubber material as the rubber component with carbon black ≥60 nm in the carbon-carbon spacing (S) calculated by a specified formula.例文帳に追加

ジエン系ゴム材料をゴム成分として、これに、所定の式にて算出されるカーボン間距離（Ｓ）：６０ｎｍ以上であるカーボンブラックを配合せしめて、ゴム組成物とした。 - 特許庁

The flexure 23 with wiring is arranged through the spacing S between a pair of the hinge members 22a and 22b across the load beam 20 and the base part 17.例文帳に追加

配線付きフレキシャ２３は、一対のヒンジ部材２２ａ，２２ｂの間の隙間Ｓを通って、ロードビーム２０とベース部１７とにわたって配置されている。 - 特許庁

In the fine ruggedness, preferably, the average spacing (S) between local summits in a roughness curve is 10 to 1,000 nm, and the average roughness (Ra) is 1 to 100 nm.例文帳に追加

さらに、前記微細凹凸は、粗さ曲線の局部山頂の平均間隔（Ｓ）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることことが好ましい。 - 特許庁

The cover glass sheets 10 are provided with spacing S between the end edges of the cover glass sheets 10 adjacent to each other around scribing lines L by each of the chip substrate regions 3 cut out to the plurality.例文帳に追加

カバーガラス１０は複数枚に切り出されるチップ基板領域３毎に設けられており、互いに隣接するカバーガラス１０の端縁間にはスクライブラインＬを略中心として間隔Ｓが設けられている。 - 特許庁

The sprayed coating 3 has a surface roughness in which the average spacing S of local summits lies in the range of 50 to 150 μm, and the maximum root depth Rv and the maximum peak height Rp respectively lie in the range of 20 to 70 μm.例文帳に追加

溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁

Preferably the arithmetic mean roughness (Ra) in JIS B0601:1994 of the surface of the image accepting layer is made 0.9 μm or less and the local peak average spacing (S) thereof 60 μm or more.例文帳に追加

好ましくは、前記画像受理層の表面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．９μｍ以下、局部山頂平均間隔（Ｓ）を６０μｍ以上となるように構成する。 - 特許庁

Due to the recessed part 2, an outer design of the splashguard 1 is not deteriorated, so as to fully secure a spacing s between the splashguard 1 and a jack arm part 7a.例文帳に追加

凹形状部２により、スプラッシュガード１の外観意匠を損なわず、スプラッシュガード１とジャッキアーム部７ａとの間のスキマｓを十分に確保できる。 - 特許庁

In the top view showing the surface of the semiconductor substrate, a spacing S between the end of the floating gate 9 and the end of the barrier layer 15 is set to be not more than 2 μm.例文帳に追加

そして、半導体基板の表面を上から見たときのフローティングゲート９の端部とバリア層１５の端部との間隔Ｓを２μｍ以下とする。 - 特許庁

The coil 34 has a long, narrow opening shape of which the longitudinal direction is set to be the radial direction and is arranged in the center of the spacing S in the axial direction so that the spiral and the opening face each other.例文帳に追加

コイル３４は開口形状が細長とされて、その長手方向が上記径方向とされ、かつ上記渦巻線と開口が対向するように間隙Ｓの上記軸心方向中央に配置される。 - 特許庁

The sprayed deposit 3 has the following surface roughness: the average spacing S between local peaks is 50-150 μm; and the maximum valley depth of roughness Rv and the maximum peak height of roughness Rp are 20-70 μm, respectively.例文帳に追加

溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁

Ornament 3 are mounted at a core wire 2 consisting of a shape memory alloy formed to an annular shape of a fixed shape having a spacing S for mounting a fixture 1.例文帳に追加

また、従来の装身具において、芯線に針金等、只の金属性を用いたものでは、弾力性がないので、少しでも曲がったりすると癖が付いて元の形状に戻らなくなり、また保管時や携帯時に小さく折り畳んだりすることができない。 - 特許庁

A chute 4 for collecting foreign matters falling from the spacing S between the cylindrical pipe 6 is arranged below the cylindrical pipes 6 and a hopper 5 for storing the collected foreign matters is placed at the downstream of the chute 4.例文帳に追加

各円筒パイプ６の下方に、円筒パイプ６間の隙間Ｓから落下する異物を収集するシューター４を配置し、シューター４の下流に収集された異物を収容するホッパー５を配置する。 - 特許庁

The stationary coil 44 faces the spacing S set between the magnet 42 and the opposed yoke 43, by which the annular magnetic circuit M by the magnetic field in an axial direction is acted on the stationary coil 44 within the spacing 4.例文帳に追加

また、固定コイル４４はマグネット４２と対向ヨーク４３との間に設定した隙間Ｓに臨んでおり、これにより固定コイル４４は隙間Ｓ内で軸方向の磁界によるリング状の磁気回路Ｍが作用するようになっている。 - 特許庁

By using two electron beam biprisms in two stages in the optical axis direction, not only the Fresnel diffraction can be avoided, but also the interference fringe spacing s and the interference region width W are independently controlled by controlling the respective electrode voltage of the electron beam biprism.例文帳に追加

２つの電子線バイプリズムを光軸方向に２段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。 - 特許庁

Fine ruggedness of 0.5 to 5.0 μm by arithmetic mean surface roughness Ra is applied to the surface (3a) of the surface treatment layer, and further, the mean spacing S of the local crests of the fine ruggedness is controlled to 0.5 to 50 μm, and also, an S/Ra ratio is controlled to <10.例文帳に追加

表面処理層の表面（３ａ）には０．５μｍ〜５．０μｍの算術平均表面粗さＲａで微細凹凸を与えるとともに、微細凹凸の局部山頂の平均間隔Ｓを０．５μｍ〜５０μｍ、且つ、Ｓ／Ｒａ比を１０未満としたことを特徴とする。 - 特許庁

Gas is discharged from the center O of rotation of the wafer 2 on the rear surface side of the wafer 2 toward the diametral direction on the peripheral edge side of the wafer 2 and the intrusion of the developer 3 to the inner side through a spacing S between a knife edge ring 4 and the wafer 2 is blocked by this gaseous flow.例文帳に追加

ウェハー２の裏面側でウェハー２の回転中心Ｏからウェハー２の周縁側の径方向に向けてガスを吐出させ、そのガス流でナイフエッジリング４とウェハー２の隙間Ｓを通って現像液３が内側に入り込むのを阻止するようにしている。 - 特許庁

The vacuum deposition system 10 includes a liquid supply mechanism 30 for supplying a liquid L into a spacing S between an outer peripheral surface 20a of a can roll 20 and a rear surface Fr of the resin film F, and a liquid removing mechanism 40 for removing the liquid L from the outer peripheral surface 20a.例文帳に追加

真空成膜装置１０には、キャンロール２０の外周面２０ａと樹脂フィルムＦの裏面Ｆｒとの隙間Ｓに液体Ｌを供給する液体供給機構３０と、外周面２０ａから液体Ｌを除去する液体除去機構４０とが備えられている。 - 特許庁

Furthermore, at a point in time when the character portion C is completely printed, the printer control CPU 5 notifies the end of printing of the row data to the fiscal control CPU 3 (step ST7) and performs paper feeding thereafter to form spacing S (step ST8).例文帳に追加

また、プリンター制御用ＣＰＵ５はキャラクター部分Ｃの印刷が終了した時点で、行データの印刷終了をフィスカル制御用ＣＰＵ３に通知し（ステップＳＴ７）、しかる後に、紙送りを行って行間Ｓを形成する（ステップＳＴ８）。 - 特許庁

The nut member 4 includes a large-diameter part 40, and both axial end faces 40a, 40b of the large-diameter part 40 are inserted in the nut receiving holes 20 of the right wall and the left wall 23, and opposed to a front inner face 20a and a rear inner face 20b formed by blocking the nut receiving holes 20 at a minute spacing S.例文帳に追加

ナット部材４は、径大部４０を備え、その径大部４０の軸方向の両端面４０ａ、４０ｂ夫々がそれらの右側壁及び左側壁２３夫々のナット受容孔２０に入り込んでそのナット受容孔２０を区画形成した前内側面２０ａ、後内側面２０ｂと微小隙間Ｓを持って対向している。 - 特許庁

In the operating element unit 30, the keytop 31 is connected in free rocking in vertical direction to a case body 32 through a hinge part 35, a frame part 39 which is square in plan view and connected continuously without cut portion is formed at the top part of four wall parts 32a, and the keytop 31 is positioned with a spacing S at four directions at the inside of the frame part 39.例文帳に追加

操作子ユニット３０において、キートップ３１が、ケース体３２に対してヒンジ部３５を介して上下方向に揺動自在に接続され、４つの壁部３２ａの上部には、平面視四角形で、切れ目なく繋がった枠部３９が形成され、枠部３９の内側に、四方において隙間Ｓを保ってキートップ３１が位置している。 - 特許庁

In this shutter slat which includes a painted metal plate having a coated film 60 on a metal plate 50, an arithmetic mean roughness Ra, which is measured based on JIS B0601-1944, of a shutter slat surface is in the range of 1-10 μm; and an average spacing S between local crests is in the range of 55-200 μm.例文帳に追加

金属板５０の上に塗膜６０を有する塗装金属板を含むシャッタースラットであって、前記シャッタースラット表面のＪＩＳ Ｂ０６０１−１９４４に準じて測定された算術平均粗さＲａが、１〜１０μｍであり、局部山頂の平均間隔Ｓが、５５〜２００μｍである、シャッタースラット。 - 特許庁