パーチを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1477件
イオン光学システムは、間隔を隔てて配置された少なくとも３つの非平面電極(１４２，１４４，１４６）と、複数のアパーチャの組（１５２）とを具備し、ａ）各アパーチャの組は複数のアパーチャを含み、ｂ）アパーチャの組の各アパーチャは前記非平面電極のそれぞれによって形成され、ｃ）各アパーチャの組のアパーチャは共軸関係で５０マイクロメートル以内に位置するように構成されている。例文帳に追加
This ion-optics system comprises at least three non-flat electrodes 142, 144, 146 mounted at intervals, and plural sets of apertures 152, each set of apertures includes plural apertures, each aperture of the set of apertures is formed by the non-flat electrode, so that the apertures of each set of apertures are positioned within 50 micro meters with co-axial relationship. - 特許庁
荷電ビーム放射源から放射された荷電ビームを複数のアパーチャの開口部で成形して試料上にパターンを形成するものであって、第１アパーチャと、第２アパーチャと、第１アパーチャを通過した荷電ビームを第２アパーチャの任意の位置に照射するための偏向器を有する。例文帳に追加
The charged beam plotting device for forming a pattern on a sample by forming charged beams radiated from a charged beam radiation source on a plurality of aperture parts comprises a first aperture, a second aperture and a deflector for irradiating an optional position of the second aperture with charged beams passed through the first aperture. - 特許庁
アパーチャは、わずかな偏差だけ規則的配置から偏移した配置に従ってアパーチャアレイ手段上に配置され、粒子ビーム露光装置によって生じた歪みを調整し、アパーチャおよび対応する開口部を介してターゲット上に照射される電流を調整することができるように、アパーチャアレイのアパーチャのサイズは、アパーチャアレイに全体にわたって異なる。例文帳に追加
The apertures are arranged on an aperture arraying means in accordance with an arrangement shifted from the regular arrangement by slight deviations, thereby correcting distortion caused by the particle beam exposure device, wherein aperture sizes of the aperture array differ all over the aperture array in order to correct currents radiated on the target thorough the apertures and corresponding openings. - 特許庁
第二ダブレットのシンメトリー面に配置された第三アパーチャは、他のブランキングアパーチャとしての役割を果たす。例文帳に追加
A third aperture located at the symmetry plane of the second doublet serves as an another blanking aperture. - 特許庁
基板内にはアパーチャ１７を設け、各アパーチャ１７は、一対のストレイン感知抵抗器１６間に位置付ける。例文帳に追加
Apertures 17 are arranged in the substrate and each of them is positioned between a pair of strain sensing resistors 16. - 特許庁
その後、キャパシタ・アパーチャ内でキャパシタが形成および設置され、バイア・アパーチャ内でバイアが形成および設置される。例文帳に追加
Subsequently a capacitor is formed and located in the capacitor aperture and a via is formed and located in the via apertures. - 特許庁
トリムアパーチャＴＡは第一ブランキングアパーチャとしての役割を果たし、第一ダブレットの第一シンメトリー面に配置されている。例文帳に追加
A trim aperture element TA serving as a first blanking aperture is located at the first symmetry plane of the first doublet IL1. - 特許庁
再生時に、撮像記録時に行われているアパーチャー補正と同等なアパーチャー補正を行えるようにすること。例文帳に追加
To perform aperture correction which is equivalent to the aperture correction, which is performed in imaging and recording, when reproduction is performed. - 特許庁
試料位置とアパーチャとの間の距離は、このアパーチャを介して、光子の収集角を大きくできるほど十分に小さい。例文帳に追加
The distance between the sample position and the aperture is sufficiently small to allow a large collection angle of the photons through this aperture. - 特許庁
アパーチャグリル溶接後のねじれを減少させることができるアパーチャグリルフレーム、およびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an aperture grille frame that can reduce twisting after the welding of the aperture grille, and its manufacturing method. - 特許庁
ビーム成形アパーチャ、ビーム成形アパーチャの製造方法、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加
BEAM FORMING APERTURE, METHOD FOR FORMING BEAM FORMING APERTURE, CHARGED-PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
このマルチプレクサは、合成開口式ビーム形成に適した送波アパーチャ及び受波アパーチャを支援する。例文帳に追加
The multiplexer supports a wave transmitting aperture and a wave receiving aperture which are adapted to form a composite opening type beam. - 特許庁
本発明による導電性材料を基板のアパーチャに堆積させる方法は、前処理溶液をアパーチャに堆積させる工程を含む。例文帳に追加
A method to deposit an electrically conductive material in an aperture of a substrate 10 includes a process to deposit a pre-treatment solution 100 in the aperture. - 特許庁
アパーチャーは対向する表面に沿って広がっており、アパーチャーの内壁がこの対向表面を連結している。例文帳に追加
The aperture 16 is widened along the surfaces facing each other, and an inner wall 11 of the aperture 16 couples these surfaces facing each other. - 特許庁
アパーチャは、第１波長の放射を抑制し、かつ、第２波長の放射の少なくとも一部がアパーチャを透過できるように構成される。例文帳に追加
The apertures are structured to suppress radiation of a first wavelength and allow at least a part of radiation of a second wavelength to permeate the apertures. - 特許庁
光ビームは、アパーチャに向けられ、シャッターは、アパーチャから出たパターン形成された光ビームを形成する。例文帳に追加
A light beam is directed toward the aperture and the shutter forms a patterned light beam exiting the aperture. - 特許庁
また、第１のレンズホルダ２６の内面の一部には、アパーチャ２９を保持するアパーチャ保持部３０が設けられる。例文帳に追加
An aperture holding part 30, which holds the aperture 29, is provided in a part of the inner surface of the first lens holder 26. - 特許庁
マットシールホルダ２２は、マットシール１８，１９のアパーチャ２０，２１に位置合わせされたアパーチャ２５を備える。例文帳に追加
The mat seal holder 22 includes an aperture 25 aligned on the apertures 20, 21 of the mat seals 18, 19. - 特許庁
そして、拡散板１４にはアパーチャを通過する拡散光がアパーチャ１６の径程度となる拡散角度を持つものを使用する。例文帳に追加
For the diffusion plate 14, one having an diffusion angle whereby diffused light passing through the aperture has the almost same level as the diameter of the aperture 16 is used. - 特許庁
ホローアパーチャ、ホローアパーチャの製造方法、荷電粒子線露光装置、及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加
HOLLOW APERTURE, METHOD OF FORMING THE SAME, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
色選別機構体の製造方法、アパーチャグリルの洗浄方法、色選別機構体およびアパーチャグリル例文帳に追加
MANUFACTURING METHOD OF COLOR SELECTION MECHANISM, CLEANING METHOD OF APERTURE GRILLE, COLOR SELECTION MECHANISM AND APERTURE GRILLE - 特許庁
シャッター３３，３３Ａ，３３Ｂは、アパーチャ３０を覆う第１の位置及びアパーチャを露出する第２の位置の間を移動する。例文帳に追加
The shutters 33, 33A and 33B move between a first position covering an aperture 30 and a second position exposing the aperture. - 特許庁
第２のアパーチャーは、検出器付近に位置されて、第１のアパーチャーで受け取られた光の少なくとも一部分を検出器へ伝送する。例文帳に追加
The second aperture is positioned in proximity to the detector to transmit at least a portion of light received in the first aperture to the detector. - 特許庁
更に該アパーチャの開口部長さを開口径以上となるようにポストロッド側に延在させ、該アパーチャには負電位を印加する。例文帳に追加
Furthermore, the aperture is extended toward the post-rod side so as to make the length of the aperture to be larger than its diameter, and a negative potential is applied to the aperture. - 特許庁
第１及び第２のセクションの間にはアパーチャ８７５が延び、アパーチャ８７５を横断するようにコンジット８８６が延びている。例文帳に追加
An aperture 875 extends between the first section and the second section and a conduit 886 extends across the aperture 875. - 特許庁
アパーチャアレイの照射損傷を抑え、小型化を実現できるブランキングアパーチャアレイ装置を提供する。例文帳に追加
To provide a blanking aperture array device capable of suppressing an irradiation damage of the aperture array and realizing the miniatuarization of the device. - 特許庁
増幅器のアパーチャ１８における小孔１７の直径Ｄ２を共振器のアパーチャにおける小孔の直径よりも大きくする。例文帳に追加
The diameter D2 of a small hole 17 in the aperture 18 of the amplifier is made larger than the diameter of the small hole in the aperture of a resonator. - 特許庁
トリムアパーチャ２を透過したビームは、第２のレンズ５によりシェーピングアパーチャ３にほぼ垂直になるよう集光される。例文帳に追加
The electron beam 6 passing through the trimming aperture 2 is converged by a second lens 5 so as to be nearly perpendicular to a shaping aperture 3. - 特許庁
第１アパーチャの像を第２成形アパーチャマスク上に精度良く結像することができるＥＢ描画装置を提供すること。例文帳に追加
To provide an EB drawing device in which the image of a first aperture can be formed on a second forming aperture mask accurately. - 特許庁
酸化狭窄層１１４は、アパーチャ部１０７、およびアパーチャ部１０７の周囲に形成された酸化部１１１を含む。例文帳に追加
The layer 114 has the aperture part 107 and an oxide part 111 formed on a periphery of the part 10. - 特許庁
レーザ加工機におけるアパーチャ交換装置において、占有スペースを小さくし、また、アパーチャの位置決めを精度よく容易なものとする。例文帳に追加
To reduce exclusive space and to facilitate precise positioning of an aperture in an aperture changing device in a laser beam machine. - 特許庁
減衰目的の光線１の光軸上にアパーチャー７を配置し、アパーチャー７を移動することで光の減衰量を制御する。例文帳に追加
An aperture 7 is arranged on the optical axis of a light beam 1 for attenuation and moved to control the attenuation quantity of the light. - 特許庁
偏向器７は、アパーチャー５よりマスク側に８個が、アパーチャー５よりウェハ側に４個が設けられている。例文帳に追加
In this case, 8 deflectors 7 are arranged at the mask side of an aperture 5, and 4 deflectors 7 are arranged at the wafer side of the aperture 5. - 特許庁
アパーチャディレイをより小さくするアパーチャディレイ調整機能を有するサンプリングクロック生成回路を提供する。例文帳に追加
To provide a sampling clock generation circuit that has an aperture delay calibration function of reducing an aperture delay. - 特許庁
第１アパーチャ３と第２アパーチャ５は、吸収が少なく耐熱性を有する透明材料、あるいはガラスで構成される。例文帳に追加
The first aperture 3 and the second aperture 5 are constituted of a transparent material whose absorption is reduced and that has heat resistance or glass. - 特許庁
この細長いチャンネルは、その両端に画成された第１のアパーチャー及び第２のアパーチャーを有する。例文帳に追加
The elongated channel has a first aperture and a second aperture defined at both ends thereof. - 特許庁
このホローアパーチャを図１におけるホローアパーチャとして使用することにより、擬似的なホロービームを形成することができる。例文帳に追加
When this hollow aperture is used as the hollow aperture shown in Fig.1, a quasi-hollow aperture can be formed. - 特許庁
第１および第２のコネクタ・ハウジングは、アパーチャでコネクタを受け、アパーチャの幅は、コネクタの幅の合計に実質的に等しい。例文帳に追加
The 1st and 2nd connector housings receive connectors by apertures, whose width is substantially equal to the total of widths of connectors. - 特許庁
今日はスーパーチューズデーなので、予備選挙の投票に行ってきます。例文帳に追加
It's Super Tuesday so I'm going to vote in the preliminary election. - Weblio英語基本例文集
テネシー川に生息する巻貝を食べる体長3インチのパーチ例文帳に追加
a small snail-eating perch of the Tennessee River - 日本語WordNet
釣りの対象で食用になることで知られる大きなパーチ種例文帳に追加
a species of large perch noted for its sporting and eating qualities - 日本語WordNet
サンフィッシュ科のパーチに似たアメリカ産の脂肪の少ない魚例文帳に追加
the lean flesh of any of numerous American perch-like fishes of the family Centrarchidae - 日本語WordNet
ハイパーチャージという強い相互作用によって保存される量子数例文帳に追加
a quantum value that is maintained by strong reciprocal action, called hypercharge - EDR日英対訳辞書
ナノポアシステムはナノポアアパーチャ(34)を有する構造体(32)を含む。例文帳に追加
The nanopore system contains a structure 32 having a nanopore aperture 34. - 特許庁
干渉計のためのアパーチャコンバーター及び干渉計システム例文帳に追加
APERTURE CONVERTER FOR INTERFEROMETER AND INTERFEROMETER SYSTEM - 特許庁
アンテナアパーチャを任意に用いる統合形送信／受信アンテナ例文帳に追加
INTEGRATED TRANSMIT/RECEIVE ANTENNA WITH ARBITRARY UTILIZATION OF ANTENNA APERTURE - 特許庁
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