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プロセス配管の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 40



例文

プロセスガス搬送用配管及び成膜装置例文帳に追加

PROCESS GAS TRANSFER PIPING, AND FILM DEPOSITION SYSTEM - 特許庁

プロセス配管試験装置および方法例文帳に追加

PROCESS PIPE TESTING DEVICE AND METHOD - 特許庁

プロセスガス用配管の連結部構造例文帳に追加

STRUCTURE OF CONNECTION PART OF PIPE FOR PROCESS GAS - 特許庁

プロセスガス用配管の連結部構造。例文帳に追加

STRUCTURE OF CONNECTION PART OF PIPE FOR PROCESS GAS - 特許庁

例文

プロセス排気配管2を分解することなく、短時間で配管清掃が可能となる。例文帳に追加

The piping can be cleaned in a short time without disassembling the process exhaust piping 2. - 特許庁


例文

制御対象であるプロセス機器や配管類をシンボルメニューとして画面表示し、希望のプロセス機器や配管類を順次選択して、定められたグリッド上の所定の位置に配置し、各プロセス機器間を配管類によって接続して、プロセス機器の配置関係及び物流経路を表すプロセスフロー図を生成する。例文帳に追加

A process flowchart showing the arrangement of processing apparatuses and the flow is created by showing the processing apparatuses, pipes and the like to be controlled on a screen as a symbol menu, selecting desired processing apparatuses, and pipes and the like sequentially, arranging them on a predetermined location of the prescribed grid, and connecting each of the processing apparatuses by the pipes and the like. - 特許庁

ガス導入配管20は、処理室3にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。例文帳に追加

Gas introduction piping 20 introduces process gas for plasma generation into a processing chamber 3. - 特許庁

チャンバ3と、原料ガス8をガス供給部11に導入するプロセス配管5と、プロセス配管5の少なくとも一部を加熱するテープヒータ21とを備える。例文帳に追加

The CVD system includes a chamber 3, process piping 5 for introducing a raw material gas 8 into a gas supply part 11, and a tape heater 21 for heating at least a portion of the process piping 5. - 特許庁

配管の減肉状態になったことを報知することでプロセス配管の破損を予防することができる流量計を提供する。例文帳に追加

To provide a flowmeter for informing a user of a state where a thickness of piping is reduced, and preventing the process piping from being damaged. - 特許庁

例文

配管の内部を流れるプロセスガスを所定の温度に均一に加熱制御でき、しかもメンテナンスが容易であるばかりでなく、配管系を容易に変更できるようにしたプロセスガス搬送用配管及び成膜装置を提供する。例文帳に追加

To provide a process gas transfer piping capable of uniformly controlling the heating of process gas flowing through the inner part of piping to a prescribed temperature and also capable of easily changing a piping system as well as facilitating maintenance, and a film deposition system. - 特許庁

例文

MOCVD装置において、排気配管を取り外すことなく、排気配管の生成物をプロセスの影響のない領域まで移動させ、排気配管の有効な断面積を常に一定に保持する配管清掃機構を提供する。例文帳に追加

To provide a pipe-cleaning mechanism for an MOCVD apparatus to keep an effective cross-sectional area of exhaust piping constant at all times, by transferring a product produced in the exhaust piping to an area which is not affected by a process, without the need for removing the exhaust piping. - 特許庁

その後、ガス導入配管8に設置された励起用電源9により励起されたN_2、Ar、Heなどの不活性ガスでプロセスおよびエッチングに関係のないガスをプロセスチャンバ4内に導入する。例文帳に追加

Thereafter, a gas having no relation with processes nor etching is introduced into the chamber 4 by using an inert gas of N2, Ar, He, etc., excited by means of a power source 9 for excitation installed to a gas introducing pipeline 8. - 特許庁

マスフローコントローラ2は、ガス導入配管20に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。例文帳に追加

A mass flow controller 2 is provided at the gas introduction piping 20 and regulates the flow rate of the process gas. - 特許庁

供給系の配管閉塞が生じることなく、プロセスガスの安定供給が可能な薄膜製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thin-film manufacturing device capable of stably supplying a process gas without causing piping choking of a supply system. - 特許庁

給気配管を閉塞した状態で排気配管の開放状態を調節することにより、容器本体内部を定圧保持する定圧保持プロセスと、容器本体内部を減圧する減圧プロセスと、の1回以上の繰り返しを行う緊急プログラムを備える。例文帳に追加

The autoclave is provided with such an emergency program that both of the constant pressure keeping process for keeping the inside of the vessel body under constant pressure and the decompression process for decompressing the inside of the vessel body are repeated once or more while keeping the air intake pipeline in a closed state and the air discharge pipeline in an opened state. - 特許庁

ガス供給配管プロセスチューブと液化ガスボンベ間)に真空ポンプを設け、液化ガスボンベから強制的にガスを送引することで、ガス供給配管内やプロセスチューブ内における液化ガスの流量を一定に安定して供給する。例文帳に追加

The gas supplying pipeline (between a process tube and a liquified gas cylinder) is provided with a vacuum pump to forcibly send out and draw in gas from and into the liquified gas cylinder, resulting in supplying liquified gas in the gas-supplying pipeline and in the process tube stably at a constant flow rate. - 特許庁

熱媒体側の圧力がプロセス側の圧力より低く、二基以上の熱交換器を含み、各熱交換器で使用された熱媒体は各熱交換器の出口配管(1)を経て共通の配管(2)に合一されるシステムであって、出口配管(1)及び共通の配管(2)に熱媒体中のプロセス流体を検出する手段を有する熱交換システム。例文帳に追加

This heat exchange system has lower pressure on the heat medium side than pressure on the process side, includes two heat exchangers or more, joins heat medium used in each heat exchanger with the common pipe 2 through the outlet pipe 1 of each heat exchanger, and has a means for detecting process fluid in heat medium in the outlet pipe 1 and the common pipe 2. - 特許庁

熱媒体側の圧力がプロセス側の圧力より低く、二基以上の熱交換器を含み、各熱交換器で使用された熱媒体は各熱交換器の出口配管(1)を経て共通の配管(2)に合一されるシステムであって、共通の配管(2)に熱媒体中のプロセス流体を検出する手段を有する熱交換システム。例文帳に追加

This heat exchange system has lower pressure on the heat medium side than pressure on the process side, includes two heat exchangers or more, joins heat medium used in each heat exchanger with the common pipe 2 through the outlet pipe 1 of each heat exchanger, and has a means for detecting process fluid in heat medium in the common pipe 2. - 特許庁

多孔質母材1を脱水焼結するための脱水焼結炉の内圧測定用配管10に、残留ガス除去手段を設け、内圧測定用配管内10に残留するプロセスガスを除去する。例文帳に追加

A residual gas removing means is attached to a pipe 10 for internal pressure measurement in a dehydrating-sintering furnace for dehydrating and sintering a porous preform 1 to remove a process gas remaining in the pipe 10 for internal pressure measurement. - 特許庁

ECRプラズマエッチング装置D1の場合、可動式隔壁110を上昇させウェハ処理槽100aをプロセスガス排気口106から遮断し、切り替えバルブ108によりガス導入口103を高圧ガス導入配管105と導通させプロセスガス導入配管104から遮断する機構を備えている。例文帳に追加

For an ECR plasma etching device D1, a mechanism is provided where a movable diaphragm 110 is lifted for a wafer processing vessel 100a to be shielded from a process gas exhaust port 106, and a switching valve 108 allows a gas inlet port 103 to communicate with a high-pressure gas inlet piping 105, while being shielded from a process gas inlet piping 104. - 特許庁

半導体製造プロセスの排ガスに含まれるモノシランの燃焼分解生成物であるシリカ粉が、搬送過程中に配管に付着することを防止する燃焼式半導体排ガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a combustion type semiconductor exhaust gas treatment apparatus preventing the adhesion of a silica powder, which is a combustion decomposed product of a monosilane contained in the exhaust gas of a semiconductor manufactur process, to piping during a feed process. - 特許庁

本発明は、化学プロセスに使用する強酸などの腐食性液体の容器や反応器又は配管に使用する、非常に信頼性の高い金属ベースの耐食性材料を提供することである。例文帳に追加

To provide a metal based corrosion resistant material which has extremely high reliability and is used for a vessel, a reactor or piping for a corrosive liquid such as strong acid used for a chemical process. - 特許庁

排気管14は、接続継ぎ手20を介してプロセスチャンバ12に接続され、APC16は配管継ぎ手22を介して排気管14に接続されている。例文帳に追加

The exhaust pipe 14 is connected to the process chamber 12 via a connecting joint 20, and the APC 16 is connected to the exhaust pipe 14 via a piping joint 22. - 特許庁

自動サンプリング装置4は、再処理施設のプロセス配管中の溶液をサンプリングして気送子10内に自動封入するともに分析建屋にある分析装置6に接続されている。例文帳に追加

The device 4 samples solution in a process pipe of a reprocessing facility and seals it in the element 10 automatically and is connected to an analyzing device 6 in an analyzing building. - 特許庁

遠隔処理用シール装置は、非圧縮性の充填液が充填された接続配管を経由してプロセス圧力発信器に接続された少なくとも1つの遠隔処理用シール体を備える。例文帳に追加

This sealing system for the remote processing is provided with at least one remote-processing sealing body, connected to a process pressure transmitter via a connection pipe filled with a noncompressive filling fluid. - 特許庁

製造プロセス系、用水系、排水系などにおける配管や熱交換器などのスケール障害を効果的に防止することができ、特に炭酸カルシウムスケールに対して有効なスケール防止方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scale prevention method which is capable of effectively preventing scale hindrance of piping, heat exchanger, and the like, in a production process system, an irrigation system and a waste water system, and the like, and, particularly, is available for calcium carbonate scale. - 特許庁

処理容器に接続されたプロセスガスの配管内に微量なパージガスを流す手法において、各パージガスの流量を高精度に制御することが出来るとともに、配管内のガス置換を素早く行うことが出来る半導体製造装置及び半導体製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor manufacturing apparatus and a semiconductor manufacturing method, capable of controlling a flow of each purge gas with high accuracy, in a method of delivering a trace of the purge gases to pipes of process gasses connected to a processing package and quickly replacing the gases in the pipes. - 特許庁

流量計の配管内に混入する気泡を適切に検出して、流量プロセスの異常をアラームとして出力するとともに、流量の測定精度が低下する状態での流量測定にもアラームを出力できる配管内気泡検出装置を実現すること。例文帳に追加

To realize a device for detecting a bubble in piping, which appropriately detects the bubble mixed in the piping of a flowmeter, outputs an abnormality of a flow process as an alarm and can output the alarm even in the case where a flow rate measurement is carried out in such the state that the accuracy in measuring the flow rate is lowered. - 特許庁

半導体製造プロセス等に用いられている既存のガス配管系に何ら配管等の設計変更を行うことなく安価に導入することができ、短時間で、正確な基準容積に基づいたマスフローコントローラの検定を行うことができる検定システムを提供する例文帳に追加

To provide a inspection system inexpensively available without making any design change of piping and the like to an existing gas piping system used in semiconductor manufacturing processes and the like, and inspecting a mass flow controller in a short period of time, based on an exact reference volume. - 特許庁

高圧流体を扱うプロセス配管に設けられた仕切弁を制御する方法であって、その仕切弁を開にするタイミングをその仕切弁の前後の差圧を検出する差圧計の出力に基づいて制御することを特徴とする、高圧流体を扱うプロセスにおける仕切弁の制御方法。例文帳に追加

In the control method for the sluice valve in the process of treating the high pressure fluid, the method for controlling the sluice valve provided on a pipe in the process of treating the high pressure fluid is characterized in that the timing for opening the sluice valve is controlled based on an output of a differential pressure gauge for detecting the differential pressure at front and rear sides of the sluice valve. - 特許庁

半導体製造分野で使用される特にプロセスガス中の微小パーティクルを除去するプロセスガス用濾過部材の改良に関するものであって、ロウ付け加工の採用と例えば配管の継手部内にも直接装着できるコンパクト化とによって、濾過特性に優れながらも従来のような太径のハウジング部材との併用を無くすることを可能として、配管密度の向上を図るとともに、これまで使用時に必要とされてきた高圧ガス容器としての許認可問題を解消し得る濾過部材に関係するものである。例文帳に追加

To provide a method for fixing a filter member capable of preventing the deterioration of filtration performance due to brazing connection and capable of making the member compact and to provide the filter member obtained by using the method. - 特許庁

界面縮重合法によりポリカーボネートを製造するに当たり、ポリカーボネート有機溶媒溶液及びプロセス機器・配管の効率的な洗浄方法並びに機器、特に回転機器の効果的なシール方法を開発することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide an effective washing method for polycarbonate solution in an organic solvent and process unit/piping in producing polycarbonate by an interfacial polycondensation method, and to provide an effective sealing method for the system, especially for rotating machine. - 特許庁

チャンバー1の上部のガスボックスプレート2のガス通過部分にガス通過部材13を嵌合し、このガス通過部材13を介して上部ガス配管4から供給されるプロセスガスをチャンバー1に導入するようにした。例文帳に追加

A gas passing member 13 is fitted into a gas passing section of a gas box plate 2 in an upper part of a chamber 1, process gas supplied from an upper gas piping 4 through the gas passing member 13 is introduced into the chamber 1. - 特許庁

チャンバ内に配置されるプロセス配管に副生成物を付着しにくくすることにより、チャンバ内のパーティクル量を減少させて、製品の品質および歩留まりの向上を図ることができる、プラズマCVD装置を提供する。例文帳に追加

To provide a CVD system which makes it hard for a by-product to stick onto process piping arranged in a chamber, and thereby reduces the amount of particles in the chamber, and enhances the quality and yield of a product. - 特許庁

下水処理場敷地内の汚泥処理プロセスを行う消化槽と、前記消化槽から発生し、前記下水処理場敷地とは異なる需要家敷地へ配管を通して輸送された消化ガスを利用して発電する、前記需要家敷地内にある消化ガス発電設備とを有する消化ガス発電システム。例文帳に追加

As for the hot water, the loss of heat is great, and it is not suitable for transport, but the digestion gas can be transported with reduced loss, and energy saving of the digestion gas can be realized. - 特許庁

窒素ガスを輸送するN_2ガス配管5を燃焼室2の外周に巻き付け、燃焼室2の発熱により加熱された窒素ガスを真空ポンプ3の希釈ガスとして真空ポンプ3内に送るとともに、プロセスガス排気管7内に送る。例文帳に追加

The nitrogen gas heated by generation of heat of a combustion chamber 2 is sent to a vacuum pump 3 as the reduction gas of the vacuum pump 3 and it is also sent to a process gas exhaust pipe 7 by winding a nitrogen (N_2 ) gas pipe 5 for transferring the nitrogen gas around the external circumference of the combustion chamber 2. - 特許庁

更に詳しくは、本発明は、最外部に板金を有する断熱材で被覆された計装導圧配管の肉厚管理方法であって、運転中においてプロセスに影響を与えず安全に作業でき、さらに正確な測定を行うことができ、よって実用的観点から特に優れた断熱された計装導圧配管の肉厚管理方法を提供する。例文帳に追加

The method which manages the wall thickness of the instrumentation connecting piping covered by the insulating material having the sheet metal at the outside, projects radioactive rays emitted by a radiation transmitting apparatus from the outside of the sheet metal toward a section to be measured. - 特許庁

組成が単純で、作業者及び環境に有害な有機溶媒を含有せず、且つ、半導体集積回路又は液晶ディスプレイのフォトプロセスに使用されるフォトレジスト、或いはフォトレジストコーティング装置及び現像液配管系統のフォトレジスト残渣に対して優れた溶解能を有する水性フォトレジスト洗浄組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an aqueous alkali photoresist cleaning composition having a simple composition, not containing an organic solvent harmful to a worker and the environment, and having excellent solvent power to photoresist used in a photo process of a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display or photoresist residue in a photoresist coating device and a developer piping system. - 特許庁

炭素を含む固体燃料をガス化した粗製ガス中のH_2SとCO_2を同時に除去する処理プロセスにてH_2S共存下でCOをCO_2に転換する耐硫黄性COシフト触媒の硫化処理を特別な機器を設置せずに簡単な配管構成によって可能にしたガス精製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a gas purification method by which sulfurization of a sulfur resistant CO shift catalyst converting CO into CO_2 under coexistence of H_2S is made possible with simple piping without providing a special device in a treatment process for simultaneously removing H_2S and CO_2 in a crude gas formed by gasifying a solid fuel containing carbon. - 特許庁

例文

界面縮重合法によりポリカーボネートを製造するに当たり、重合に使用する有機溶媒を水に溶解させて有機溶媒溶解水とし、該有機溶媒溶解水を、重合後のポリカーボネート有機溶媒溶液及び/又はプロセス機器・配管の水性洗浄用液として、並びに回転機器の水性シール液として用いることを特徴とするポリカーボネートの製造方法である。例文帳に追加

The method for producing polycarbonate uses of an aqueous solution of organic solvent obtained by dissolving the organic solvent which is used in the polymerization, into water, in production of the polycarbonate by the interfacial polycondensation method, wherein the solution of the organic solvent is used as an aqueous washing liquid for washing the organic solution of the polycarbonate after polymerization and/or process unit/piping and an aqueous sealing liquid for the rotating machine. - 特許庁

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