「削 そぐ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

有機樹脂膜からなる層間絶縁膜１０を成膜し、フォトリソグラフィ技術を用いてドレインコンタクトホール１２等の層間絶縁膜１０の不要部分を削除する。例文帳に追加

An interlayer insulating film 10 consisting of an organic resin film is deposited and the unnecessary segments of the interlayer insulating film 10, such as drain contact holes 12, are removed by using a photolithographic technique. - 特許庁

我が国の製造業が、国内外の消費者の要望に応える付加価値の高い製品を常に開発していくために、創意工夫の意欲を削ぐような取引慣行は、今後改善を図っていくべきであろう。例文帳に追加

Going forward, Japan's manufacturing industry should improve trade practices that dampen the drive for creating original ideas so that it can continually develop high value-added products that meet the demands of consumers both inside and outside Japan. - 経済産業省

アクティブマトリクス型の液晶表示装置に代表される電気光学装置において、逆スタガ型の薄膜トランジスタを有する画素部及び端子部を作製する工程数を削減して、具体的にはフォトリソグラフィー工程で使用するフォトマスクの枚数を削減して、電気光学装置の生産性、歩留まりを向上させ、製造コストの低減を実現することを課題とする。例文帳に追加

To reduce manufacturing cost by improving productivity and a yield of an electrooptical device by reducing the number of processes of manufacturing a pixel part having a reverse stagger type thin-film transistor, and a terminal part, and specifically reducing the number of photomasks used in a photolithography process, in an electrooptical device typified by an active matrix type liquid crystal display device. - 特許庁

本発明では、印刷モードに応じて、特定種類のインクドットが形成される画素群からなる特定の画像領域の輪郭部を形成するインクドットのインク量を削減する方法が決定されるので、印刷環境に適した方法で印刷画像の輪郭部におけるインク量を削減することができる。例文帳に追加

As a method of reducing an amount of ink of an ink dot for forming a contour portion of a specific image region consisting of a pixel group formed by ink dots in a specific kind is determined corresponding to a printing mode, it is possible to reduce the amount of ink at the contour portion of an image to be printed by a method suitable for a printing environment. - 特許庁

家康が秀吉死後（厳密には前田利家死後）すぐに豊臣家の勢力を削ぐことに傾注し、また、世情がそれに従い関ヶ原の戦いにおいて豊臣恩顧の多くの大名たちが家康側についたことも、当時既にそうした疑念が広まっていた傍証であるという考え方もある。例文帳に追加

There is a view that Ieyasu endeavored to decrease the power of the Toyotomi family immediately after Hideyoshi's death (more precisely, after the death of Toshiie MAEDA) and the general public accepted this and many daimyo who enjoyed the kind favors of the Toyotomi family joined the Ieyasu's side is evidence that such double dealing had gone around already at that time.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

その後、に上町台地を開削して大和川を直接大阪湾に注ぐ工事を行ったが失敗している（大阪市天王寺区の茶臼山古墳(大阪市)にある河底池はその名残りとされ、「和気橋」という名称の橋がある）。例文帳に追加

After that he also carried out the work to level the Uemachi Plateau and construct a channel in order to make Yamato-gawa River flow directly into the Osaka Bay, but his attempt failed (it is said that Kawazoko-ike Pond situated in the premise of Chausuyama Tumulus (Osaka), in Tennoji Ward, Osaka City is a remain of this failed project and there is a bridge called 'Wake-bashi Bridge.')  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

半導体装置の２層以上の異なる層のフォトリソグラフィ工程に対応した複数のマスクパターンを１枚のフォトマスク内に領域を分けて形成する場合であれ、パターン精度を高く維持して且つ、製造コストも削減することのできる半導体装置用フォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask for a semiconductor device which can maintain high pattern precision and lower manufacture costs even when a plurality of mask patterns corresponding to photolithography processes of two or more different layers of the semiconductor device are formed in one photomask in different areas. - 特許庁

半透過部のフォトレジスト層の膜厚を均一に形成できる露光マスクを提供し、それを用いてＴＦＴ基板を製造するために必要なフォトリソグラフィ工程の回数（マスク枚数）を削減した半導体装置の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a light exposure mask capable of forming a photoresist layer in a semi-transmissive portion with uniform thickness and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the number of photolithographic steps (the number of masks) necessary for manufacturing a TFT substrate is reduced by using the exposure mask. - 特許庁

ＦＦＳモードの液晶表示装置において、半透過マスクを用いることなくフォトリソグラフィー工程数を削減することができ、さらに断線を防止することができる薄膜トランジスタアレイ基板、その製造方法、及び液晶表示装置を提供すること例文帳に追加

To provide a thin film transistor array substrate, a manufacturing method of the same and a fringe field switching (FFS) mode liquid crystal display device, which can reduce the number of photolithography processes without using a semi-transparent mask and prevent disconnection. - 特許庁

レジスト保護膜形成用組成物に要求される基本性能に加え、レジスト保護膜形成用組成物の塗布性能を改善し、リソグラフィー性能を向上させ、さらに薬液の使用量の削減による低コスト化が可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a composition for forming a resist protective film having basic performances required for a composition for forming a resist protective film as well as having improved coating performance of the composition and improved lithographic performance, and reducing cost by reducing the consumption of a chemical liquid. - 特許庁

透明電極基板に、スペーサをフォトリソグラフィーにより形成し、かつシール部を形成する液晶表示素子用基板の製造において、タクトアップを回避するために、工程数を削減し得る液晶表示素子用基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a substrate for a liquid crystal display device which can reduce the number of processes to avoide to improve takt time in manufacturing the substrate for the liquid crystal display device by forming a spacer formed by photolithography on a transparent electrode substrate, and a seal part. - 特許庁

学習をする生徒等が問題等を自主的に選択でき、かつ、その問題等が含まれる単元等の修了可否を自動的に判定することで、生徒等の自主性や積極性を削ぐことなく、同時に指導者等の負担も軽減することができる学習進捗管理装置等を提供すること。例文帳に追加

To provide a learning progress management device and the like enabling a learning student to autonomously select a question or the like and to automatically determine whether a unit or the like including the question is completed, thereby reducing an instructor's burden at the same time without spoiling the student's autonomy and positiveness. - 特許庁

液晶表示層の積層構造を備えながらも、フォトリソグラフィ工程等を可能な限り削減した簡略な工程で製造でき、各画素電極と駆動素子とを確実に接続させた信頼性が高い液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display which can be manufactured in a simple stage where stages, e.g. a photolithography stage, etc., are reduced as much as possible, even though the liquid crystal display device is provided with a liquid crystal display layer having a laminated structure and has high reliability by connecting each pixel electrode surely and driving element to each other. - 特許庁

筒状の金属材からなり、筒体１１の外面または内面の表面を軸線方向に薄肉に削ぐことにより、基端部が筒体１１と連通して自由端部が筒体１１から離間した放熱フィン１３〜１８が複数枚形成された筒状放熱器。例文帳に追加

A cylindrical radiator comprises a plurality of radiating fins 13-18 each made of a cylindrical metal and having base ends for communicating with a cylinder 11, so that free ends are separated from the cylinder 11 by axially thinly cutting an outer surface or a front surface of an inner surface of the cylinder 11. - 特許庁

また、ロック機構８のロックレバー２１で、施錠状態に切換えられたラック板５が解錠方向へ移動するのを物理的に阻止して、ロックバー７の抉じ開けをさらに困難化し、不正解錠を試みる者の意欲を削ぐ。例文帳に追加

In addition, the will of a person trying the unauthorized unlocking of this locking system is cut down by making the picking of the lock bar 7 more difficult by physically inhibiting the movement of the rack plates 5 switched to a locked state in the unlocking direction by means of the lock lever 21 of the locking mechanism 8. - 特許庁

このとき、Ｐ型不純物拡散層６が形成される領域はフォトレジストで覆われているためＮ型不純物は注入されず、フォトリソグラフィ工程を削減できるとともに、コンタクトを取るのに十分なＰ型不純物拡散層６の不純物濃度を得られる。例文帳に追加

Then, since the region formed of a P-type impurity diffused layer 6 is covered with the photoresist, the N-type impurity is not implanted, a photolithographic step can be reduced, and the impurity concentration of the layer 6 sufficient to take the contact is obtained. - 特許庁

フォトリソグラフィ技術により樹脂膜１０４を選択的に除去して凸パターン１０４ａを形成した後、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）法により、凸パターン１０４ａの層間膜１０２表面上に突出している部分を研削研磨し、層間膜１０２上を平坦化する。例文帳に追加

After a resin film 104 is removed selectively by photolithography and a protrusion pattern 104a is formed, the part of the protrusion pattern 104a projecting above the surface of an interlayer film 102 is ground and polished in chemical mechanical polishing(CMP) to planarize the interlayer film 102. - 特許庁

特にサーベンス・オクスレー（Sarbanes-Oxley：SOX）法や、国際決済銀行（BIS）の新しい規制である「バーゼルⅡ」に対応するための米国独自の枠組、外国企業に対する米国会計基準への調和（reconcili-ation）の要求等は米国市場の競争力を削ぐものとして批判されている。例文帳に追加

In particular, the original framework of the United States225 in response to the Sarbanes-Oxley Act (SOX) and Basel II Capital Accord, which contains the new regulations of the Bank for International Settlements (BIS), and reconciliation with the US accounting standards required of non-US companies have been criticized as being detrimental to competitiveness. - 経済産業省

エッチングマスクに球状の微粒子を用いることで、リソグラフィ工程を削減し、簡易な工程でマスクの形成ができ、微粒子の粒径で周期間隔を高精度に制御することが可能になるとともに、微粒子の材料により基材との選択比を自由に制御でき、格子高さを高精度に制御することができる製造方法としたものである。例文帳に追加

In the production method, by using spherical particulates for an etching mask, a lithography stage is reduced, mask formation is possible in a simple process, and periodic spacing can be controlled at a high precision in accordance with the particle diameter of the particulates, and further, the selection ratio with a base material can be freely controlled and lattice height can be controlled to a high precision in accordance with the material of the particulates. - 特許庁

着色感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターンを形成する際に、前記パターンの端部側面に残存する未硬化の着色感光性樹脂組成物を除去し、整形することに加え、パターンの端部から削り取ることで精細化するカラーフィルタの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a color filter in which when a pattern is formed by photolithography using a colored photosensitive resin composition, the side faces of the edges of the pattern are shaped by removing an uncured colored photosensitive resin composition remaining on the side faces and the edges of the pattern are shaved to make the pattern fine. - 特許庁

本発明は、ＴＦＴ装置及びその製造方法、並びにそれを備えたＴＦＴ基板及び表示装置に関し、フォトリソグラフィ工程を削減でき、生産性の向上及び製造コストの低減が可能なＴＦＴ装置及びその製造方法、並びにそれを備えたＴＦＴ基板及び表示装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a TFT device and its manufacturing method in which a photolithographic step can be reduced, productivity is improved and a manufacturing cost can be reduced, and to provide a TFT substrate having the same and a display device. - 特許庁

金属板１０に陥没形成した凹部２内に電子部品５を収納するパッケージ１であって、金属板１０の少なくとも他方面１０ｂには、金属板１０の表面を肉薄に削ぐことによって起立した複数枚の放熱フィン２０ａを一体形成し、パッケージ１に放熱器２０を一体に形成する。例文帳に追加

This package is a package 1 which stores an electronic component 5 in a recessed part 2 formed in a metal plate 10, a plurality of radiation fins 20a stood up by skiving thin the surface of the plate 10 are formed integrally with at least the other surface 10b on one side of the surfaces of the plate 10 and a radiator 20 is formed in one body with the package 1. - 特許庁