「水研」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

積水ハウス（株）「積水ハウス総合住宅研究所」例文帳に追加

Comprehensive Housing R & D Institute, Sekisui House Ltd.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

分散安定性と研磨能力に優れ、かつ研磨傷の発生せず、化学的機械研磨による精密研磨に適した研磨用砥粒、研磨用水性分散液、及び研磨剤を提供する。例文帳に追加

To provide abrasive grains for polishing, aqueous dispersion for polishing and an abrasive material, which are excellent in dispersion stability and polishing ability and suitable for fine polishing by chemical machine polishing without generating polishing scratches. - 特許庁

研磨ヘッドに取り付けられた被研磨物を研磨パッドで研磨する化学機械研磨装置において、研磨パッドの上面より高い位置に位置する化学機械研磨装置の各構成部品の表面を、疎水処理する。例文帳に追加

In a chemical/mechanical polisher which polishes a polishing object attached to a polishing head with a polishing pad, the surfaces of the respective components of the chemical/mechanical polisher, which are placed on levels higher than the upper surface of the polishing pad, are subjected to a hydrophobic treatment. - 特許庁

レンズ研削加工装置により眼鏡レンズを研削加工する際に用いられた使用済み研削水から研削屑を分離し処理する研削水処理装置において、 研削水を冷却させる冷却部材が、研削水に接しない状態で、研削水タンク及び研削水配管の少なくとも一方に配置されている。例文帳に追加

In the grinding fluid treatment apparatus for separating grinding chips from the used grinding fluid in grinding a glass lens by the lens grinding apparatus, a cooling member for cooling the grinding fluid is arranged in at least one of a grinding fluid tank and grinding fluid piping in a non-contact state with the grinding fluid. - 特許庁

研磨スラリーは、水、研磨粒子、及び研磨促進剤から構成され、研磨スラリーの液性は酸性である。例文帳に追加

The polishing slurry is constituted of water, polishing particles and a polishing accelerator, and acidity or alkalinity of the slurry is the acidity. - 特許庁

研磨用砥粒及び該研磨用砥粒を含有する研磨用水性分散液、ならびにそれらを用いた研磨剤例文帳に追加

ABRASIVE GRAIN FOR POLISHING, AQUEOUS DISPERSION FOR POLISHING CONTAINING THE ABRASIVE GRAIN, AND ABRASIVE MATERIAL USING THEM - 特許庁

前記非研磨面の純水接触角は、前記研磨面の純水接触角よりも大きい。例文帳に追加

The pure water contact angle of the non-polishing surface is larger than that of the polishing surface. - 特許庁

被研磨体の研磨するための固定砥粒研削研磨用工具において、メカノケミカル作用を発現させるために水を添加した状態で長時間研削作業を行った場合でも、研削研磨性能が劣化しない実用性に優れた固定砥粒研削研磨用工具を提供する。例文帳に追加

To provide a stationary abrasive grain grinding and polishing tool for polishing a body to be polished, preventing deterioration of grinding and polishing performance to keep excellent practicality even in the case of performing grinding work in the state of adding water for exhibiting the mechano-chemical action for a long time. - 特許庁

研磨材、酸化剤、研磨促進剤としての有機ホスホン酸及び水を含有してなる研磨液組成物、該研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する工程を有する基板の製造方法並びに前記研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する方法。例文帳に追加

The polishing liquid composition comprising a polishing agent, an oxidizing agent, an organic phosphonic acid as a polishing accelerator and water, the method of production for the substrate having a process polishing the objective polishing substrate by using the polishing liquid composition and the method polishing the objective polishing substrate by using the polishing liquid composition are provided. - 特許庁

ウエハに設けた絶縁膜上に形成した導電膜を研磨するウエハ研磨装置及びウエハ研磨方法において、被研磨面に導電水を供給する導電水供給手段を設けて、ウエハの研磨中に被研磨面に導電水を供給しながら研磨する。例文帳に追加

In the wafer polishing device and the wafer polishing method for polishing a conducting film formed on an insulating film provided to a wafer, a conducting water supply means for supplying conducting water to a polishing surface is provided, and polishing is carried out while supplying conducting water to the polishing surface in polishing of a wafer. - 特許庁

濾過処理後の研削水が研削水タンク（研削水貯蔵槽）に戻らないようにすることにより、清澄度の高い濾過水をそのまま直接下水道へ排水することができるレンズ研削加工装置の研削水処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a grinding water processor of a lens grinding device which can discharge filtered water with high clearness directly to a sewage by preventing the grinding water after being filtered from returning to a grinding water tank (grinding water reservoir). - 特許庁

レンズ基体の表面を、水に酸化セリウム砥粒を混ぜた第１研磨液を用いて研磨する第１研磨工程と、第１研磨工程で研磨されたレンズ基体の被加工面を、非水系分散媒である第２研磨液を用いて研磨する第２研磨工程と、を施すことにより、第２研磨工程で、第１研磨工程で形成された水和層を除去することができる。例文帳に追加

By applying a first polishing process of polishing a surface of a lens base body by using a first polishing liquid of mixing a cerium oxide abrasive grain with water and a second polishing process of polishing a processing object surface of the lens base body polished in the first polishing process by using a second polishing liquid being a nonaqueous dispersion medium, a hydration layer formed in the first polishing process can be removed in the second polishing process. - 特許庁

研磨粉で汚れた研磨材を、水で洗浄することができる水溶性バフ研磨剤、及び、その平易なる製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a water-soluble buffing abrasive where the abrasive material smudged with the abrasive powder can be washed with water, and its simple manufacturing method. - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSION SOLUTION FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING, CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD, AND KIT FOR PREPARING THE AQUEOUS DISPERSION SOLUTION - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法、化学機械研磨用水系分散体の製造方法例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD, AND KIT FOR PREPARING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体および該化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット、ならびに化学機械研磨方法例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING WATER DISPERSING ELEMENT, KIT FOR PREPARING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING WATER DISPERSING ELEMENT, AND METHOD OF POLISHING CHEMICAL MACHINE - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体調製用キット例文帳に追加

CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION, CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AQUEOUS DISPERSION PREPARATION KIT - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨方法および化学機械研磨用水系分散体の製造方法例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体および化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体を調製するためのキット例文帳に追加

WATER SYSTEM DISPERSING ELEMENT FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING METHOD, AND KIT FOR PREPARING WATER SYSTEM DISPERSING ELEMENT FOR CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法例文帳に追加

AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, METHOD OF MANUFACTURING AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND METHOD FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法例文帳に追加

WATER-BASED DISPERSING SUBSTANCE FOR POLISHING CHEMICAL MACHINERY, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND CHEMICAL MACHINERY POLISHING METHOD - 特許庁

化学機械研磨用水系分散体およびそれを用いた化学機械研磨方法、ならびに化学機械研磨用水系分散体の製造方法例文帳に追加

WATER-BASED DISPERSING SUBSTANCE FOR CHEMICAL MACHINERY POLISHING, CHEMICAL MACHINERY POLISHING METHOD USING THE SAME, AND METHOD OF PREPARING WATER-BASED DISPERSING SUBSTANCE FOR CHEMICAL MACHINERY POLISHING - 特許庁

研磨液を研磨工具と被加工面の間に介在させて研磨加工を施す研磨装置において、研磨工具が研磨液に水没して浮力を発生するのを防ぐ。例文帳に追加

To prevent occurrence of buoyancy caused by a polishing tool submerged in a polishing liquid, in a polishing apparatus that performs a polishing work by interposing a polishing liquid between the polishing tool and a surface to be processed. - 特許庁

研削砥石を保護するとともに研削ホイールに付着した研削水および研削屑が床に滴下することを防止できる研削ホイールの着脱治具および研削ホイールケースを提供する。例文帳に追加

To provide a removal jig of a grinding wheel, along with a grinding wheel case, capable of protecting a grindstone and preventing the grinding water and grinding chips adhering to the grinding wheel from dropping on a floor. - 特許庁

研磨回数が多くなっても研削屑が研磨具の外周面の砥粒や不織布に絡みつき、水を掛けても研削屑を洗い流しきれず、次第に、研磨具が目詰まりを起こし、研磨効率が悪くなることを防止する。例文帳に追加

To avoid the following inconvenience: as the number of times of polishing by a polishing tool is increased, polishing chips entwine around abrasive grains and a nonwoven fabric on an external surface thereof, and the polishing chips cannot be washed out even by splashing water, resulting in progressive clogging of the polishing tool, to thereby degrade polishing efficiency of the polishing tool. - 特許庁

研磨材粒子がなかなか消耗せずに長持ちするとともに、作業中に水を使用できるので、研磨材粒子が浮遊しないで研削、研磨作業ができるような研削、研磨素材を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding/polishing material in which abrasive grains are hardly worn out and can stand long use and by which grinding/polishing work can be executed without the suspension of the abrasive grains since water can be used during the work. - 特許庁

淡水の池と湖の研究の専門家例文帳に追加

a specialist in the study of freshwater ponds and lakes  - 日本語WordNet

英国の生化学者で、炭水化物の研究の先駆者例文帳に追加

English biochemist who was a pioneer in research on carbohydrates  - 日本語WordNet

水溶液からのSonoluminescenceは若干詳細に研究されてきた。例文帳に追加

Sonoluminescence from aqueous solutions has been studied in some detail. - 英語論文検索例文集

この研究は，地表水の採取に焦点が置かれた。例文帳に追加

The study focused on sampling surface water. - 英語論文検索例文集

水溶液からのSonoluminescenceは，いくぶん詳細に研究されてきた。例文帳に追加

Sonoluminescence from aqueous solutions has been studied in some detail. - 英語論文検索例文集

多くの研究はVOCs による地下水の 汚染に集中してきた。例文帳に追加

Many studies have concentrated on groundwater contamination by VOCs. - 英語論文検索例文集

水溶液からの Sonoluminescence は，若干詳細に研究されてきた。例文帳に追加

Sonoluminescence from aqueous solutions has been studied in some detail. - 英語論文検索例文集

水産資源に関する調査及び研究例文帳に追加

Research and Study of Fishery Resources  - 日本法令外国語訳データベースシステム

附属水資源環境研究センター例文帳に追加

Water Resources Research Center, attached to the Institute  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

積水ハウス総合住宅研究所例文帳に追加

Sekisui House, Ltd.: Comprehensive Housing R&D Institute  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

水に不溶のポリビニルアルコールを含む研磨パッド。例文帳に追加

This polishing pad includes polyvinyl alcohol insoluble in water. - 特許庁

金属研磨液のろ過脱水方法及びその装置例文帳に追加

FILTRATION DEWATERING METHOD OF METAL POLISHING LIQUID AND ITS APPARATUS - 特許庁

ガリウム含有研磨屑懸濁水の処理装置例文帳に追加

TREATMENT EQUIPMENT OF GALLIUM-CONTAINED POLISHING CHIP SUSPENSION WATER - 特許庁

水性ジルコニアゾル含有研磨用組成物例文帳に追加

POLISHING COMPOSITION CONTAINING WATER ZIRCONIA SOL - 特許庁

ワイヤソー又はバンドソー用水性研削液例文帳に追加

AQUEOUS GRINDING LIQUID FOR WIRE SAW OR HANDSAW - 特許庁

化学研磨廃液の過酸化水素分解方法例文帳に追加

HYDROGEN PEROXIDE DECOMPOSING METHOD FOR CHEMICAL POLISHING WASTE LIQUID - 特許庁

水晶又はガラス研磨用スラリー及びその原料例文帳に追加

CRYSTAL OR GLASS POLISHING SLURRY AND RAW MATERIAL USED THEREFOR - 特許庁

ハードディスク用水性研削材組成物例文帳に追加

AQUEOUS GRINDING MATERIAL COMPOSITION FOR HARD DISK - 特許庁