「精密修正」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

光学素子本体あるいは転写型の凹凸形状を追加工で精密且つ容易に修正できるようにする。例文帳に追加

To precisely and easily correct a projecting and recessed shape of an optical element body or a transfer die by additional work. - 特許庁

修正補間データは補間周期毎に求められるものであるから、精密な負荷一定の速度制御ができる。例文帳に追加

The corrected interpolation data are calculated in each interpolation cycle so that it is possible to carry out precise speed control for making the loads constant. - 特許庁

微細パターンの修正、ワークとフォトマスクの精密な位置あわせ、露光など、多目的に利用できる装置を提供する。例文帳に追加

To provide a versatile device which can be utilized for micropatten modification, accurate alignment between a work and a photomask, exposure, or the like. - 特許庁

製品歩留りも向上し、金型の大がかりな修正や高価な精密成形機が不要となり、安価で信頼性の高い製品を供給できる。例文帳に追加

Product yield is also enhanced and the large correction of a mold or an expensive presise molding machine is dispensed with and an inexpensive and highly reliable product can be supplied. - 特許庁

ＧＰＳ信号の取得に使用される局部発振器の出力が、精密搬送周波数信号から生成された基準信号によって修正されるよう、この精密搬送周波数信号を使用して局部発振器を較正する。例文帳に追加

A local oscillator is calibrated using a precision carrier frequency signal such that the output of the local oscillator used to acquire GPS signals is modified by a reference signal generated from the precision carrier frequency signal. - 特許庁

半導体基板に対して光学的な検査と電気的な検査を組み合わせ、μ単位の非常に精密な故障発生位置を検出する半導体基板の検査装置を提供すると共に、修正機構と組み合わせることによって、切り離す面積を最小にして効率の良い修正を実施することができる欠陥修正機構を具備した検査装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for inspecting a semiconductor substrate which detects an extremely precise defective occurrence position in microns through a combination of optical inspection and electrical inspection on a semiconductor substrate, and has a defective correcting mechanism capable of carrying out effective correction with a minimum area to be separated in combination with a correcting mechanism. - 特許庁

本発明の精密フェーズシフト発生装置は、「圧力スキャニング」原理に基づいてデザインされた「キャビティ長さ可変式」のエタロンとフレキシブルヒンジマイクロ変移プラットホームとの一体化装置であり、また、「キャビティ長さ可変式」エタロンのデザインによって、精密変移センサーの自己修正難題が解決されており、精密フェーズシフト発生装置のフェーズシフト測定の正確度を保証することができる。例文帳に追加

The precise phase shift generator is an integral device of a "cavity length variable" etalon designed based on a "pressure scanning" principle and the flexible hinge micro transition platform. - 特許庁

形状が複雑な非球面レンズの形状修正を高精度に行うのに最適な精密加工方法を提供し、さらに表面の平滑性に優れかつ複雑な形状を有する高精度レンズを提供する。例文帳に追加

To provide a precision processing method optimum for accurately correcting the shape of an aspherical lens whose shape is complicated, and further to provide a highly accurate lens having excellent surface smoothness and complicated shape. - 特許庁

ＯＰＣ補正ルールのプログラムミス（バグ）を容易に検出してプログラムを修正することができる精密で信頼度の高いフォトマスク検証方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for verifying a photomask with precision and high reliability for easily detecting a program error (bug) of an OPC (optical proximity correction) rule and correcting the program. - 特許庁

必要な修正マッピングのマトリックスの数とサイズを最小化しながら、排気ガスの中のＮｏｘ濃度と粒子状物質の量を精密に制御する。例文帳に追加

To precisely control concentration of Nox and amount of particulate matter in exhaust gas by minimizing the number and size of matrices in required correction mapping. - 特許庁

可動金型１２の固定金型１１に対する芯ずれ修正は、３枚の調心面板３１０，３２０，３３０を上記それぞれの方向に微調整してから固定することによって、精密、かつ、容易に行うことができる。例文帳に追加

The axial misalignment of the movable mold 12 to the fixed mold 11 can be precisely and easily corrected by finely adjusting three aligning surface plates in respective directions to fix them. - 特許庁

精密な引出しのスライドの耐久性と“はめ合い”及び感触並に負荷を増加させる潜在能力を改良し低いスライドの弓形のボールトラックの伝統的な“くり拡げ”を修正する。例文帳に追加

To improve the durability, the fitness, the touch and the latent ability of increasing a load of a fine drawer slide and to correct the traditional unfolding of the arched ball track of a low slide. - 特許庁

本発明が解決しようとする問題点は、ＦＩＢ照射のダメージもなく、削り屑が出ることもない微細加工によって、半導体マスクの黒欠陥を精密に修正できる新たな方法を提示し、それを実行する装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide a new method capable of preciously correcting black defects in a semiconductor mask through micro machining that does not cause damage due to FIB irradiation and does not produce shavings and the equipment for implementing the new method. - 特許庁

露光条件を考慮することで、半導体の原デザインと半導体の修正デザインとの間の差異点及び光学近接効果補正の正確度を正確かつ精密に検査できるレイアウト対レイアウト検査方法を用いた光学近接効果補正の検証方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for verifying optical proximity effect correction using a layout-to-layout inspection method that enables accurate and precise inspection of differences between an original design of a semiconductor device and a revised design of the semiconductor device and verification of accuracy of the optical proximity effect correction by considering exposure conditions. - 特許庁

アルミハードディスク、ガラスハードディスク及びシリコンウエハ等を超精密にポリシングする工具、例えば、ポリシングパッド、不織布等の修正に要する時間を短縮し、被加工物のポリシングレイトの安定化と高品位な仕上げ面を得る。例文帳に追加

To shorten the time required for correcting tools for polishing an aluminum hard disc, a glass hard disc and a silicon wafer, etc., with super-high precision such as a polishing pad and nonwoven fabric, to stabilize a polishing rate of a workpiece, and to provide a high grade finished surface. - 特許庁

修正研磨の回数を削減しつつ精密な光学面成形面を作業効率よく、かつ、確実に得ることができる成形金型の加工方法、その加工方法を用いて製造された成形金型、及びその成形金型により成形された光学素子を提供すること。例文帳に追加

To provide a working method of a molding die, wherein a fine molding surface for an optical surface is efficiently and certainly obtained, while the number of corrective polishing works is reduced, and also to provide a molding die manufactured by the working method and an optical element molded with the molding die. - 特許庁

よって、各要素レンズ２４ａの厚み等を含む形状を無理に修正することなく、これらの境界を段差のないものとすることができ、第２レンズアレイ２４の成形を簡易に精密にすることができ、均一化光学系２０による液晶ライトバルブ４０ａ，４０ｂ，４０ｃの照明を損失の少ない明るいものとすることができる。例文帳に追加

Therefore, the boundary between them is made to have no level difference without forcibly correcting the shape including thickness or the like of the element lens 24a, and the second lens array 24 is easily and precisely molded, and the illumination of liquid crystal light valves 40a, 40b and 40c by the uniformizing optical system 20 is made bright with little loss. - 特許庁

東電福島第一原発の労働者の被ばく線量について、250ミリシーベルトを超えるおそれのある者が新たに6名（その後4名に修正）いるとの報告を東京電力より受けたことから、東京電力に対し、暫定値が200ミリシーベルトを超える者を、直ちに緊急作業から外すよう指導（平成23年6月13日）するとともに、内部被ばく暫定値が100ミリシーベルトを超える者について、精密測定の結果が出るまでの間、内部被ばくのおそれのある作業に就かせないよう指導（平成23年6月14日）例文帳に追加

Regarding the radiation dose of workers at the TEPCO's Fukushima No. 1 Nuclear Power Plant, upon receiving the TEPCO's report that another 6 workers (later corrected to 4 workers) had possibly exceeded the radiation dose limit of 250 mSv at the plant, TEPCO was instructed to immediately remove workers exceeding the provisional limit of radiation dose of 200 mSv from emergency tasks (June 13, 2011). - 厚生労働省