「薄面化」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

ａ‐Ｓi膜３の表面を薄膜酸化し、形成された薄膜酸化膜４の膜上および膜中に高濃度のニッケルを移動させる。例文帳に追加

The surface of the film 3 is oxidized into a thin film and the high-concentration nickels are moved on and in the film of the formed thin film oxide film 4. - 特許庁

絶縁膜５３がIII族窒化物薄膜の構造であるので、絶縁膜５３とIII族窒化物薄膜５２、５４の界面が乱れず、欠陥が生じない。例文帳に追加

The insulating film 53 is of III nitride thin film structure, so that an interface between the insulating film 53 and the III nitride thin films 52 and 54 is never disordered, and no defect is induced. - 特許庁

この後、サファイア基板１の裏面１１を研磨して薄肉化させ、１００μｍ厚の薄肉化ウエハ１０を得た。例文帳に追加

Subsequently, rear surface 11 of a sapphire substrate 1 is made thin by polishing to produce a thinned wafer 10 having a thickness of 100 μm. - 特許庁

歯部表面では窒化層が厚くなり、板厚が非常に薄い胴部３１、ダイヤフラム３３では窒化層が薄く形成される。例文帳に追加

A thick nitrided layer is formed on the surface of the tooth area, and a thin nitrided layer is formed on a body 31 and a diaphragm 33 with extremely small sheet thickness. - 特許庁

薄型平面型画像表示装置の薄型化と軽量化を維持しつつ、分解性に優れ、かつ低コストを実現する。例文帳に追加

To provide a thin type plane image display device which provides excellent disassembling properties and cost reduction while maintaining the thickness and weight reduction thereof. - 特許庁

光を反射させる壁面が必要なため、従来の薄膜化、超薄型化に対し、本発明の光発電素子は厚みがある素子である。例文帳に追加

Because the side wall is required for light reflection, this photovoltaic element has a certain thickness against the conventional thin-film and very low-profile demands. - 特許庁

大面積の誘電体化合物薄膜を低コストで作製できる製造方法および誘電体化合物薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a dielectric compound thin film having a large area at low cost, and also to provide a dielectric compound thin film. - 特許庁

上記樹脂組成物を用いて薄膜を形成する工程、形成された薄膜を紫外線により硬化する工程、紫外線硬化された薄膜に押し型を使用して賦形する工程および賦形された薄膜を熱により硬化する工程からなる表面賦形薄膜成形物の製造方法。例文帳に追加

The method of producing for the surface shaped thin film comprises a step for forming the thin film by using the resin composition, a step for curing the formed thin film with an ultraviolet light, a step for shaping the thin film cured in the former step by using dies and a step for thermally curing the shaped thin film. - 特許庁

シリコン基板５の表面および裏面に、窒化シリコンの光学薄膜６を設ける。例文帳に追加

The optical thin film 6 of silicon nitride is provided on the surface and the back of a silicon substrate 5. - 特許庁

水素が添加された窒化アルミニウム薄膜４内の化学的安定性及び窒化アルミニウム薄膜４の表面平坦度を向上させるために水素が添加された窒化アルミニウム薄膜４をプラズマ７で処理することにある。例文帳に追加

The thin aluminum nitride film 4 to which hydrogen is added in order to improve the chemical stability in the thin aluminum nitride film 4 to which the hydrogen is added and the surface flatness of the thin aluminum nitride film 4 is subjected to the plasma treatment. - 特許庁

仮面を付けずに白塗りの厚化粧をするのが原則であるが、素顔のままや薄化粧の場合もある。例文帳に追加

Principally, dancers wear heavy white makeup but no masks, insteading having a natural face or light makeup.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

固体表面に有機ジテルリド化合物を用いて作製されるテルル酸化物を含む超薄膜である。例文帳に追加

The ultrathin film comprising tellurium oxide is formed on a solid surface using an organic ditelluride compound. - 特許庁

金属・有機化学気相成長によって成長した非極性ａ平面窒化ガリウム薄膜例文帳に追加

NON-POLAR a-PLANE GALLIUM NITRIDE THIN FILM GROWN BY METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

小型化、薄型化に適した光学系を有する背面投射型のプロジェクタを提供する。例文帳に追加

To provide a rear projection type projector having an optical system suitable for miniaturization and thickness reduction. - 特許庁

このため、トランスの投影面積が小さくなり、小型化、薄型化を図ることができる。例文帳に追加

Accordingly, the projected area of the transformer is reduced, and miniaturization and thinning can be attained. - 特許庁

Ｓｉ基板１の表面を熱酸化して極薄の酸化膜２を形成する（図(a) 及び(b) 参照）。例文帳に追加

An extremely thin oxide film 2 is formed by subjecting a surface of an Si substrate 1 to thermal oxidation (refer to Fig.(a) and (b)). - 特許庁

紫外線硬化／熱硬化型樹脂組成物、および表面賦形薄膜成形物とその製造方法例文帳に追加

ULTRAVIOLET CURABLE/HEAT CURABLE RESIN COMPOSITION, AND SURFACE SHAPED THIN FILM MOLDING AND METHOD OF PRODUCTION FOR THE SAME - 特許庁

広い面の全体で均一の光取り出し効率を向上させ、小型化、薄型化を図る。例文帳に追加

To improve the efficiency of uniform light extraction at a wide surface as a whole, and to achieve miniaturization and thinning. - 特許庁

光学部品の裏面に経時硬化型あるいは熱硬化型の接着剤を薄く均一に塗布する。例文帳に追加

An adhesive of a time curing type or a heat curing type is thinly and uniformly applied to the backsides of the optical components. - 特許庁

シリコン基板表面に形成されたゲート酸化膜は、ソース領域上が薄膜化されている。例文帳に追加

In a gate oxide film formed on a surface of a silicon substrate, a film on a source region is thinned. - 特許庁

所定の剛性又は強度を確保した上で、断面の小型化又は鋼板の薄肉化を図る。例文帳に追加

To ensure predetermined rigidity or strength first and then reduce a cross section or wall thickness of a steel plate. - 特許庁

発光面の輝度を均一化するとともに、薄型化が可能なバックライト装置を提供する。例文帳に追加

To provide a backlight device capable of uniforming luminance of a light emitting surface and thinning. - 特許庁

画像の高精細化と薄型化との両立が可能な平面撮像装置を提供する。例文帳に追加

To provide a flat-surface imaging device which can reconcile high definition image with thinning. - 特許庁

また、プレ酸化膜１６は、面内均一性向上のため制御し得る程度で薄膜化される。例文帳に追加

Moreover, the thickness of a preliminary oxide film 16 is made thin in a controllable degree for improvement of the in-plane uniformity. - 特許庁

小型化、特に薄型化が図られた平面型放電管を収容したランプユニットを提供する。例文帳に追加

To provide a lamp unit housing a flat discharge tube downsized, especially, thinned. - 特許庁

薄物の化粧シートを用いて、仕上がりの鏡面平滑性が高い化粧パネルを提供する。例文帳に追加

To provide a decorative panel having high finish mirror surface smoothness using a thin decorative sheet. - 特許庁

面状光源装置を採用した場合において、薄型化と発光輝度の均一化の両立を図る。例文帳に追加

To aim at both thinning and uniformalization of emission luminance of a plane light source device. - 特許庁

薄型化、小型化を図るとともに、照射面の明るさを均一にした照明器具を提供する。例文帳に追加

To provide a lighting fixture of a thin and small size, and with an irradiation surface of uniform brightness. - 特許庁

平面サイズの小型化と、薄型化とをはかった撮像装置および携帯電話機を提供する。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus and a mobile phone whose planar size is made small and thin in its profile. - 特許庁

この電圧の変化により、有機薄膜の表面側の酸化／還元状態が変化し、それに応じてその表面のぬれ性が変化する。例文帳に追加

By the change of the voltage, the oxidation/reduction state on the side of the surface in the organic thin film changes, and, in accordance with the same, the wettability of the surface changes. - 特許庁

配向金属基板１上に酸化物薄膜（たとえば中間層２）を形成する酸化物薄膜の製造方法であって、酸化物薄膜形成の直前に配向金属基板１の表面の酸化層１ｂを切削する工程を有する酸化物薄膜の製造方法。例文帳に追加

This is the manufacturing method of the oxide thin film to form the oxide thin film (for example, interlayer 2) on the oriented metal substrate 1, having a process of cutting the oxide layer 1b of the surface of the oriented metal substrate 1 just before oxide thin film formation. - 特許庁

ｐ型 III族窒化物半導体表面に金単体からなる薄膜を形成し、該金薄膜の表面を二酸化珪素薄膜で保護した構造の光透過性ｐ型電極とする。例文帳に追加

A thin film of gold simple substance is formed on a p-type group III nitride semiconductor surface and the surface of the gold thin film is protected with a silicon dioxide thin film to form a light-transmitting p-type electrode. - 特許庁

基板１０の上層に形成された、非結晶または非結晶を含む薄膜（蛍光体層３）の表面を凹凸化し、該薄膜表面にレーザ光４０を照射して該薄膜を結晶化する。例文帳に追加

The surface of a thin film (phosphor layer 3) of non-crystal or including non-crystal formed on the upper layer of a substrate 10 is made concavo-convex and laser beams 40 are irradiated to crystallize the thin film. - 特許庁

負極活物質薄膜の表面近傍の酸化層及び／又は負極活物質薄膜と集電体との界面近傍の酸化層を薄くする。例文帳に追加

An oxide layer in the neighborhood of the surface of a cathode active material thin film and/or an oxide layer in the neighborhood of the boundary surface between the cathode active material thin film and a collector are thinned. - 特許庁

本発明の薄片化黒鉛の製造方法は、黒鉛化合物を電気化学反応によって黒鉛層間化合物とし、この黒鉛層間化合物をその層面間において剥離して薄片化することを特徴とするので、層面の面方向に沿って大きな面積を有し且つ厚みが極めて薄い薄片化黒鉛を容易に製造することができ、機能性フィラーとして様々な用途に用いることができる。例文帳に追加

In the method for producing the flaky graphite, a graphite compound is converted to a graphite intercalation compound with an electrochemical reaction, and the graphite intercalation compound is exfoliated between the layer faces so as to produce the flaky graphite, and consequently the flaky graphite having a large area along the surface direction of the layer faces and having extremely thin thickness is produced with ease, and can be used for various applications as a functional filler. - 特許庁

第２酸化物超電導体薄膜４に、第１絶縁体薄膜３に対して鈍角をなす斜面を形成すると共に、第２絶縁体薄膜５に、第２酸化物超電導体薄膜４の斜面に略連続する斜面を形成する。例文帳に追加

A bevel making an obtuse angle against the first insulator thin film 3 is formed in the second oxide superconductor thin film 4, and a bevel substantially continuous to the bevel of the second oxide superconductor thin film 4 is formed in the second insulator thin film 5. - 特許庁

アルミニウムを主成分とする金属箔４１表面に、金属チタン薄膜から成る金属薄膜４２ａが配置され、該金属薄膜４２ａ表面に、ＩＴＯ薄膜から成る導電性酸化物薄膜４３ａが配置されている。例文帳に追加

A metal thin film 42a composed of a metal titanium thin film is formed on the surface of metal foil 41 whose principal constituent is aluminum while a conductive oxide thin film 43a composed of an ITO thin film is formed on the surface of the metal thin film 42a. - 特許庁

合成樹脂製基材の少なくとも片面にプラズマＣＶＤ法によるガスバリア性の薄膜が形成された包装材料において、薄膜が基材面上に形成された炭素薄膜と、この炭素薄膜上に形成されたケイ素酸化物薄膜からなる積層状とする。例文帳に追加

In the packaging material having a gas barrier film formed by the plasma CVD method on at least one of surfaces of a synthetic resin base, the film is a laminate consisting of a carbon film formed on the base surface and a silicon oxide film formed on the carbon film. - 特許庁

ｐ型のシリコン基板の少なくとも一主面表面のシリコン元素が水素と結合する水素安定化処理がなされ、マスク薄膜形成工程において薄膜が形成され、マスク薄膜部分除去工程において薄膜のうち一部領域にある薄膜部分が除去される。例文帳に追加

In the method for processing the silicon substrate, a hydrogen stabilization treatment in which silicon elements on at least one main surface of a p-type silicon substrate are coupled with hydrogen, is applied, a thin film is formed a mask thin film formation step, and the thin film in a partial area of the thin film is removed in a mask thin film partial removal step. - 特許庁

長尺のフィルム基板Ｆの両面に金属薄膜を真空成膜により成膜したのち、該金属薄膜の少なくとも一方の金属薄膜の表面に金属酸化物の薄膜を形成し、その後金属薄膜積層基板Ｆをロール状に巻き取ることを特徴とする。例文帳に追加

In a method for manufacturing a metal thin film-layered substrate, a metal thin film is deposited by vacuum film formation on both sides of a long film substrate F, then a metal oxide thin film is formed on at least one surface of the metal thin film, and after that the metal thin film-layered substrate F is wound into a roll shape. - 特許庁

有機絶縁膜の表面処理と、下部薄膜電極の表面の酸化膜の除去を同時に行うことが可能で、有機絶縁膜と上部薄膜電極の密着強度及び上部薄膜電極と下部薄膜電極の導通信頼性に優れた薄膜回路基板を効率よく製造する。例文帳に追加

To efficiently manufacture a thin-film circuit board which makes it possible to process the surface of an organic insulating film and remove an oxide film on the top surface of a lower thin-film electrode at the same time and has superior adhesive strength between the organic insulating film and upper thin-film electrode and superior conduction reliability between an upper thin-film electrode and the lower thin-film electrode. - 特許庁

機能性薄膜３表面に、酸化チタン薄膜３１が露出する部分と親水性薄膜４１が露出する部分とが混在するので、両方の薄膜の機能を得ることができる。例文帳に追加

Since portions in which the titanium oxide thin film dots 31 expose and a portion in which the hydrophilicity thin film dots 41 expose are intermingled in the functional thin film 3 surface, functions of both of thin films can be exhibited. - 特許庁

バリア薄膜１２表面に酸化チタン薄膜３１を点在させ、その間に親水性薄膜４１を形成し、機能性薄膜３を構成させる。例文帳に追加

Titanium oxide thin films 31 are made to exist at intervals on the surface of a barrier thin film 12, hydrophilic thin films 41 are formed between the titanium thin films to constitute a functional thin film 3. - 特許庁

機能性薄膜３表面に、酸化チタン薄膜３１が露出する部分と親水性薄膜４１が露出する部分とが混在するので、両方の薄膜の機能を得ることができる。例文帳に追加

Since both parts to which the titanium oxide thin films 31 are exposed and parts to which the hydrophilic thin films 41 are exposed exist together on the surface of the functional thin film 31, functions of both the thin films can be obtained. - 特許庁

バリア薄膜１２表面に酸化チタン薄膜３１を点在させ、その間に親水性薄膜４１を形成し、機能性薄膜３を構成させる。例文帳に追加

Titanium oxide thin film dots 31 are sprinkled on the surface of a barrier thin film 12, and a hydrophilic thin film dots 41 are formed between the dots of the oxide, to thereby form a functional thin film 3. - 特許庁