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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 酸化窒化アルミニウムに関連した英語例文

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酸化窒化アルミニウムの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 341



例文

弾性表面波デバイス1は、C面を主面11とするサファイア基板10と、サファイア基板10の主面11に形成されるアルミニウム膜30と、アルミニウム膜30の表面に形成される櫛歯電極21,22と、櫛歯電極21,22及びアルミニウム膜30の表面を覆う二酸化シリコン膜40と、を有する。例文帳に追加

The surface acoustic wave device 1 includes, a sapphire substrate 10 having a C-plane as a main surface 11, an aluminum nitride film 30 formed on the main surface 11 of the sapphire substrate 10, comb-like electrodes 21, 22 formed on the surface of the aluminum nitride film 30, and a silicon dioxide film 40 for covering the surfaces of the comb-like electrodes 21, 22 and the aluminum nitride film 30. - 特許庁

本発明に係るアルミニウム単結晶の製造方法は、 原料供給部に配置した原料ガス発生源を原料ガス発生温度T_1に加熱して、原料ガスであるアルミニウムガスまたはアルミニウム酸化物ガスを生成し、 アルミニウム単結晶成長用基板を配置した析出部に該原料ガスおよび素ガスを供給して、該基板上にアルミニウム単結晶を製造する方法において、 該原料ガスおよび素ガスからの単結晶アルミニウムの析出開始温度T_2と、前記原料ガス発生温度T_1と析出部温度T_Sとが、下記条件を満たす条件下でアルミニウム単結晶を成長させることを特徴としている。例文帳に追加

The method for producing an aluminum nitride single crystal comprises heating a raw material gas generation source arranged in a raw material supply part to a raw material gas generation temperature T_1 so as to generate aluminum gas or aluminum oxide gas being a raw material gas, then supplying the raw material gas and nitrogen gas to the deposition part where a substrate for growing the aluminum nitride single crystal is arranged, and producing the aluminum nitride single crystal on the substrate. - 特許庁

ハフニウムプリカーサおよびアルミニウムプリカーサを用いることによって、この方法は、水素終端処理されたシリコン表面上に、ゲート誘電体またはキャパシタ誘電体に用いるHigh−k酸化ハフニウム/酸化アルミニウムナノラミネート誘電体を堆積することによく適している。例文帳に追加

By using a hafnium nitride precursor and an aluminum precursor, the method is suited for depositing a High-k oxidation hafnium/aluminum oxide nanolaminate dielectric, used for a gate dielectric or a capacitor dielectric on a silicon surface which is subjected to hydrogen terminal treatment. - 特許庁

アルミニウム基板を、酸素分圧が10^−4気圧以下である雰囲気中で、好ましくは1150〜1500℃で5時間以上加熱して酸化することにより表面から3〜15μm程度の厚さの酸化アルミニウム層を形成する。例文帳に追加

The aluminum nitride substrate is heated and oxidized, in an atmosphere in which the partial pressure of oxygen is 10^-4 atmosphere or lower, preferably at 1,150 to 1,500°C for five hours and longer, to form an aluminum oxide layer of about 3 to 15 μm in thickness, from the surface. - 特許庁

例文

基体21は、珪素を主成分としており、希土類成分を酸化物換算で4〜25質量%、クロムの珪物をクロムシリサイド換算で1〜8質量%含有するとともに、アルミニウム成分をアルミニウム換算で0.02〜1.0質量%含有している。例文帳に追加

The base substrate 21 comprises silicon nitride as a principal component, rare earth component in an amount of 4 to 25% by mass, calculated as an oxide equivalent, chromium component in an amount of 1 to 8% by mass, calculated as a chromium silicide equivalent and aluminum component in an amount of 0.02 to 1.0% by mass, calculated as a nitride aluminum equivalent. - 特許庁


例文

アルミニウム焼結体の製造工程において、有機合物を含有するアルミニウム成形体を非酸化性雰囲気中にて脱脂して得られた脱脂中間体であって、JIS Z 8721に規定する明度がN6以下、好ましくはN4以下である。例文帳に追加

The degreased intermediate whose lightness is designated as N6 or less in JIS Z 8721, favorably N4 or less, is obtained by degreasing an aluminum nitride formed body containing an organic compound under a non-oxidized atmosphere in the manufacturing process of the aluminum nitride sintered compact. - 特許庁

酸化合物、焼結助剤およびアルミニウム粉を含有してなるスラリー水溶液をスプレードライヤーでスプレー乾燥し、更に1400〜2100℃で焼成することを特徴とする、平均粒子径が10〜200μmであるアルミニウム焼結粉の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the aluminum nitride sintered powder having an average particle diameter of 10-200 μm includes: drying slurry aqueous solution prepared by containing a phosphate compound with a spray dryer, a sintering assistant and aluminum nitride powder in the spray dryer and firing it at 1,400-2,100°C. - 特許庁

亜鉛を含む酸化物からなる透明導電膜において、アルミニウム及び素を含ませ、亜鉛及びアルミニウムを含む導電性酸物からなる透明導電膜を形成することで、該透明導電膜の抵抗率を低減することができる。例文帳に追加

The resistivity of the electroconductive film can be reduced by forming the electroconductive film formed of the electroconductive oxynitride containing zinc and aluminum by making an electroconductive film formed of an oxide containing zinc contain aluminum and nitrogen. - 特許庁

基板11上に厚い膜厚の第1のアルミニウム膜12を成膜し、第1のアルミニウム膜12の表面に酸素や素等の吸着分子15を吸着させ、薄いAlの酸化物や物の膜をAlの粒界エッチングを緩和するエッチング緩和層13として形成する。例文帳に追加

A first aluminum film 12 with large thickness is formed on a substrate 11, and adsorbing molecules such as oxygen or nitrogen is made to adsorb in the surface of the first aluminum film 12, and a thin oxide or nitride film is formed as an etching relaxation layer 13 that relaxes the grain- boundary etching of aluminum. - 特許庁

例文

望ましい実施例においては、保護被覆10は、アルミニウム酸化物若しくはアルミニウムのようなアルミニウム合物を備え、そしてウエハ50をウエハサポート40へクランプするために要する静電荷を干渉することがないように、1から30ミクロンの範囲にあるが誘電材20の厚さの50%を越えないような厚さを有する。例文帳に追加

A protective coating 10 is made of aluminum compound, such as aluminum oxide or aluminum nitride and is set to have a thickness in a range of 1 to 30 microns which does not exceed 50% of the thickness of a dielectric material 20, so that the coating will not interfere with electrostatic charge necessary for clamping of a wafer 50 to a wafer support 40. - 特許庁

例文

熱伝導性を有するポリイミド樹脂110中に複数の不動態されたアルミニウム粒子120を実質的に均一に分散させることにより、該複合材料に約0.4W/mK〜約2.5W/mKの熱伝導率を付与するとともに、該複数の不動態されたアルミニウム粒子の各々はアルミニウム粒子コア上に配設した不動態層を含んでアルミニウム粒子コアの表面の酸化および熱劣を阻止する。例文帳に追加

Thermal conductivity of about 0.4-2.5 W/mK is imparted to the composite material by substantially uniformly dispersing a plurality of passivated aluminum nitride particles 120 in a polyimide resin 110 having thermal conductivity, wherein each of the plurality of passivated aluminum nitride particles can include a passivation layer disposed over an aluminum nitride particle core to inhibit oxidation and thermal degradation of a surface of the aluminum nitride particle core. - 特許庁

所定のセラミックスが、マグネシウムおよびリチウムを実質的に含有していないアルミニウム質セラミックスであり、他のセラミックスが、マグネシウムを酸化物に換算して0.5重量%以上含有するアルミニウム質セラミックスであるか、または、所定のセラミックスが、マグネシウムおよびリチウムを実質的に含有していないアルミニウム質セラミックスであり、他のセラミックスが、リチウムを100ppm以上、500ppm以下含有するアルミニウム質セラミックスである。例文帳に追加

The predetermined ceramics is an aluminum nitride ceramics which does not substantially contain magnesium and lithium, the other ceramics is an aluminum nitride ceramics which contains magnesium converted into an oxide of 0.5 wt.% or more, or the predetermined ceramics is an aluminum nitride ceramics which does not substantially contain magnesium and lithium, and the other ceramics is an aluminum nitride ceramics which contains lithium of 100ppm or more and 500ppm or less. - 特許庁

ガラス、金属、或いは酸化珪素、珪素、酸化アルミニウム酸化錫、酸化チタン、又はインジウム−スズ酸化物等の無機合物の薄膜等に対する密着性が良好な活性エネルギー線硬型樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an active energy ray-curable resin composition having good adhesiveness to a thin film of glass, metals, or inorganic compounds such as silicon oxide, silicon nitride, aluminium oxide, tin oxide, titanium oxide, or indium-tin oxide. - 特許庁

ガラス、金属、或いは酸化珪素、珪素、酸化アルミニウム酸化錫、酸化チタン又はインジウム−錫酸化物等の無機合物の薄膜等に対する接着性が良好な光カチオン系紫外線硬型樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a cationic ultraviolet-curing resin composition having good adhesion to a thin film, etc., of an inorganic compound, such as glass, metal, silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, tin oxide, titanium oxide, or indium-tin oxide. - 特許庁

単結晶基板1上にアルミニウム層を形成し、そのアルミニウム層の表面を陽極酸化して得られる多孔質アルミナ層2上にIII 族物結晶層3を成長させるという簡単な方法により、低欠陥の半導体が得られる。例文帳に追加

The semiconductor having the low defective rate is obtained by a simple method for forming an aluminum layer on a single-crystal substrate 1 and growing a group III nitride crystal layer 3 on a porous alumina layer 2 obtained by anode-oxidizing the surface of the aluminum layer. - 特許庁

アルミニウム焼結体同士のセラミックス接合体であって、YAGと酸化アルミニウムを含む接合層を有し、前記接合層のイットリウム成分が島型に拡散した拡散層を備えることを特徴とするセラミックス接合体。例文帳に追加

The ceramic joined body of aluminum nitride sintered compact includes: a joining layer including YAG and aluminum oxide; and a diffusion layer in which a yttrium component in the joining layer is diffused in an insular shape. - 特許庁

好ましくは、このセラミックスは、炭ケイ素、アルミナ、アルミニウム、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム、炭酸バリウム、珪酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、ホウ素およびケイ素からなる群から選択される。例文帳に追加

The ceramics is preferably selected among silicon carbide, alumina, aluminum nitride, silica, titanium oxide, zinc oxide, magnesium hydroxide, barium carbonate, calcium silicate, talc, clay, mica, boron nitride, and silicon nitride. - 特許庁

エキソ電子放出物質4は、酸化アルミニウム酸化マグネシウム、バリウム酸物、酸化鉛、酸化亜鉛および酸化ベリリウムのグループから選択された一種または複数種である。例文帳に追加

The exoelectron emitting substance 4 is one kind or plural kinds selected from a group of aluminum oxide, magnesium oxide, barium oxide nitride, lead oxide, zinc oxide and beryllium oxide. - 特許庁

初期電子放出物質6としては、たとえば、酸化亜鉛、酸化アルミニウム酸化マグネシウム、バリウム酸物、酸化鉛および酸化ベリリウムなどのグループからその一種または複数種を選択して用いることができる。例文帳に追加

One kind or plural kinds of material are selected from a group including zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, barium oxynitride, lead oxide, and beryllium oxide, and can be used as the initial electron emitting substance 6. - 特許庁

研磨液に、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム酸化セリウム、酸化チタン、ケイ素および酸化ジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種類の研磨材砥粒を含ませるとさらに好適である。例文帳に追加

It is more preferable to add to the abrasive liquid at least one kind of abrasive grains selected from a group composed of silicon oxide, alumina, cerium oxide, titanium oxide, silicon nitride, and zirconium oxide. - 特許庁

アルミニウム、マグネシウム及びロジウムが担体に担持されている触媒、亜鉛、鉄、マンガン及びニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属と、アルミニウム及びロジウムが担体に担持されている触媒、等を用いて亜酸化素を分解する。例文帳に追加

Nitrous oxide is decomposed by using a catalyst where aluminum, magnesium, and rhodium are carried on a carrier, a catalyst where at least one metal selected from the group consisting of zinc, iron, manganese, and nickel, and a catalyst wherein aluminum, and rhodium are carried on a carrier, or the like. - 特許庁

酸化ストロンチウム、水酸化ストロンチウム、珪ストロンチウム、およびストロンチウムから選択される1種以上のストロンチウム合物と、珪素と、アルミニウムと、酸化アルミニウムと、酸化ユーロピウムとを含む蛍光体原料混合物を、N_2含有ガス雰囲気下、1400℃〜2200℃で焼成して蛍光体を得る焼成工程を有する蛍光体の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing a phosphor includes a calcinating step which calcinates a phosphor material mixture containing one or more sorts of strontium compounds chosen from strontium oxide, strontium hydroxide, strontium silicate and strontium nitride, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, and europium oxide under the N_2-containing gas atmosphere at 1,400°C-2,200°C to obtain the phosphor. - 特許庁

研磨材としては、二酸化珪素、酸化アルミニウム酸化セリウム、珪素及び酸化ジルコニウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属合物であることが好ましい。例文帳に追加

The abrasives are preferably at least one kind of metal compound selected from a group of silicon dioxide, aluminum oxide, cerium oxide, silicon nitride, and zirconium oxide. - 特許庁

ガスバリア層は、無機酸化物又は無機物(好ましくはケイ素酸化物、ケイ素物又はアルミニウム酸化物)の蒸着膜から形成するとよい。例文帳に追加

The gas barrier layer may be formed of a vapor deposition film of an inorganic oxide or an inorganic nitride (preferably silicon oxide, silicon nitride or aluminum oxide). - 特許庁

あるいは、接合材5A、5Bが、希土類元素とアルミニウムと珪素とを含む酸化物または酸物からなり、酸化物または酸物における珪素の比率が二酸化珪素に換算して3mol%以上、10mol%以下である。例文帳に追加

Or, the joining members 5A, 5B are composed of oxide or oxynitride containing rare earth element, aluminum, and silicon, and the ratio of the silicon in the oxide or the oxynitride is 3 mol% or more and 10 mol% or less converted into silicon dioxide. - 特許庁

フィラー21は、マンガン物、タングステン酸ジルコニウム、ならびにリチウム酸化粒、アルミニウム酸化物およびシリコン酸化物からなる三元系酸化物からなる群より選ばれた少なくとも一種の物質を含む。例文帳に追加

The filler 21 contains at least one kind of substance selected from a group consisting of manganese nitride, zirconium tungstate, and ternary oxide consistiong of lithium oxide particles, aluminum oxide and silicon oxide. - 特許庁

光反射性絶縁粒子は、酸化チタン、ホウ素、酸化亜鉛、酸化ケイ素又は酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機粒子である。例文帳に追加

The light-reflective insulation particle is at least one inorganic particle selected from the group consisting of titanium oxide, boron nitride, zinc oxide, silicon oxide, and aluminum oxide. - 特許庁

金属水酸化物としては水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、またはそれらの混合物が好ましく、素含有合物としては硝酸及び/またはアンモニアが好ましく、無機組成物としてはケイ素の酸化物を含み、さらにアルミニウム酸化物を含むものが好ましく、樹脂としては有機酸基及び/または有機酸エステル基を含む熱可塑性樹脂が好ましい。例文帳に追加

The metal hydroxide is preferably magnesium hydroxide, aluminum hydroxide or a mixture thereof; the nitrogen-containing compound is preferably nitric acid and/or ammonia; the inorganic composition contains an oxide of silicon and further preferably contains an oxide of aluminum; and the resin is preferably a thermoplastic resin including an organic acid group and/or an organic acid ester group. - 特許庁

耐摩耗性部材は、ケイ素粉末に、希土類合物を酸化物に換算して0.5〜10質量%、チタン合物をチタンに換算して0.1〜5質量%、酸化アルミニウムを0.1〜5質量%、およびアルミニウムを5質量%以下の範囲で添加した混合原料粉末を成形、焼結してなるケイ素焼結体を具備する。例文帳に追加

The wear-resistant member includes the silicon nitride sintered body which is composed by forming and sintering a mixed raw material powder prepared by adding, to silicon nitride powders: 0.5 to 10 mass% of rare earth element in terms of an oxide; 0.1 to 5 mass% of titanium compound in terms of a titanium nitride; 0.1 to 5 mass% of aluminum oxide; and 5 mass% or less of aluminum nitride. - 特許庁

カーボン粉末の存在下にアルミナ粉末の還元を行う還元工程より得られるアルミニウム粉末を、反応後の残存カーボンを含んだ状態で、無機酸化物皮膜形成用の表面処理剤と接触させ、さらに加熱処理して、無機酸化物被膜の形成とカーボン粉末の除去を行うことにより、表面処理されたアルミニウム粉末を得る。例文帳に追加

The surface processed aluminum nitride powder is obtained by bringing aluminum nitride powder obtained by a reduction nitriding process in which alumina powder is reduced and nitrided in the presence of carbon powder into contact with a surface treatment agent for inorganic oxide coating formation in a state of including carbon remaining after the reaction, and by forming inorganic oxide coating and removing the carbon powder via heat treatment. - 特許庁

酸化ストロンチウムおよび炭酸ストロンチウムの少なくとも1種を含むストロンチウム合物と、珪素と、アルミニウムと、酸化アルミニウムと、酸化ユーロピウムとを含む蛍光体原料混合物を、50MPa〜200MPaの不活性ガス雰囲気下で、1400℃〜2200℃で焼成する蛍光体の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a phosphor includes: a step of firing a strontium compound containing at least one of strontium oxide and strontium carbonate, and a raw material mixture of a phosphor containing silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, and europium oxide at 1,400-2,200°C in an inert gas atmosphere of 50-200 MPa. - 特許庁

剥離紙重量に対してセルロース繊維を主体とする繊維分を5〜30重量%、酸化アルミニウム酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、炭ケイ素、ケイ素、アルミニウムの中から選ばれた少なくとも1種類からなる無機粉体を65〜90重量%、粘土鉱物を5〜30重量%含有することを特徴とする。例文帳に追加

This release paper contains, by the weight of the release paper, 5 to 30 wt.% fiber component mainly composed of cellulose fibers, 65 to 90 wt.% inorganic powder consisting of at least one kind selected from aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, silicon carbide, silicon nitride, and aluminum nitride and 5 to 30 wt.% clay minerals. - 特許庁

酸化物固体電解質の母材としての安定ジルコニア粉末もしくはランタンガレート系酸化物中に、熱伝導経路を形成するケイ素単結晶粒子群またはアルミニウム粒子群を添加した。例文帳に追加

A group of silicon nitride monocrystal particles or a group of aluminum nitride particles, that forms a heat conductive passage, is added in the stabilized zirconia powder or lanthane gallate system oxide as a base material of the oxide solid electrolyte. - 特許庁

排ガス中の酸化物をアルコールを還元剤に用いて浄する触媒であって、アルミナ、硫酸アルミニウムおよび銀を主成分として含有する酸化物浄用触媒。例文帳に追加

The catalyst is used to remove nitrogen oxides in exhaust gas with an alcohol as a reducing agent and based on alumina, aluminum sulfate and silver. - 特許庁

強誘電体は上下部電極の他に、シリコン膜、シリコン酸化膜、酸化アルミニウムのいずれかを含む水素を透過し難い第2絶縁膜によっても囲まれる。例文帳に追加

The ferroelectric may also be surrounded by, in addition to the upper and lower electrodes, a second hydrogen impenetrable insulation film including any of silicon nitride film, silicon oxide nitride film, or aluminum oxide. - 特許庁

極性ゴムを主成分とするベースゴム100質量部に対して、酸化アルミニウム酸化マグネシウム、ホウ素、アルミニウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムからなる群から選ばれた少なくとも1種のフィラーを900質量部以上2000質量部以下含み、更にチタネート系カップリング剤またはシラン系カップリング剤を0.2〜2質量%含むことを特徴とする熱伝導性ゴム組成物である。例文帳に追加

This thermally conductive rubber composition includes 900-2,000 pts.mass of at least one filler selected from the group consisting of aluminum oxide, magnesium oxide, boron nitride, aluminum nitride, aluminum hydroxide and magnesium hydroxide based on 100 pts.mass of base rubber mainly comprising polar rubber, and further 0.2-2 mass% of a titanate-based coupling agent or a silane-based coupling agent. - 特許庁

アルミニウムの素材を素ガス雰囲気中で1100乃至1200℃の温度に昇温した後、雰囲気を酸化性雰囲気に変更して前記素材の表面に酸化膜を生成する。例文帳に追加

An oxide film is formed on the surface of a base material of aluminum nitride by heating the base material of aluminum nitride to 1,100-1,200°C under a gaseous nitrogen atmosphere and after that, changing the atmosphere to an oxidative atmosphere. - 特許庁

又は、アルミニウムの素材を素ガス雰囲気中で1100℃以上の温度に昇温した後、雰囲気を酸化性雰囲気に変更して1100乃至1200℃の温度で前記素材の表面に酸化膜を生成する。例文帳に追加

Or the oxide film is formed on the surface of the base material of the aluminum nitride by heating the base material of the aluminum nitride to ≥1,100°C under the gaseous nitrogen atmosphere and after that, changing the atmosphere to the oxidative atmosphere and treating at 1,100-1,200°C. - 特許庁

太陽電池モジュールの裏面保護に用いられるシートであって、金属箔の両面に熱伝導性フィラーを含むプラスチックフィルムが積層された積層体を用いて、熱伝導性フィラーが少なくとも、酸化ケイ素、酸化アルミニウムホウ素、ケイ素、アルミニウムのいずれかである太陽電池バックシート。例文帳に追加

The solar cell back sheet as a sheet used to protect the rear surface of a solar cell module comprises a laminate formed by laminating plastic films containing heat-conductive fillers on both surfaces of metal foil, wherein the heat-conductive filler is at least one selected from a silicon oxide, an aluminum oxide, a boron nitride, a silicon nitride and an aluminum nitride. - 特許庁

半導体装置(102)内の水素拡散から強誘電体キャパシタ(C_FE)を保護するための水素障壁は、強誘電体キャパシタ(C_FE)上に酸化アルミニウム物(N−AlOx)が形成され、そして酸化アルミニウム物(N−AlOx)上に1つ又はそれ以上のシリコン層(112、117)が形成される。例文帳に追加

For the hydrogen barrier to protect the ferroelectric capacitor (C_FE) from the hydrogen diffusion in the semiconductor device (102), nitride-aluminum oxide (N-AlOx) is formed on the ferroelectric capacitor (C_FE), and one or more silicon nitride layers (112, 117) are formed on the nitride-aluminum oxide (N-AlOx). - 特許庁

金属箔の両面にプラスチックフィルムが積層された積層体であって、該プラスチックフィルムが熱伝導性フィラーを含むフィルムであることを特徴とする、太陽電池バックシートであって、熱伝導性フィラーが少なくとも、酸化ケイ素、酸化アルミニウムホウ素、ケイ素、アルミニウムのいずれかである太陽電池バックシート。例文帳に追加

The solar cell back sheet is a laminate having plastic films laminated on both surfaces of metal foil and the plastic film contains a heat-conductive filler, wherein the heat-conductive filler is one selected from a silicon oxide, an aluminum oxide, a boron nitride, a silicon nitride and an aluminum nitride. - 特許庁

(A)平均粒径0.5〜5μmの水酸化アルミニウム粉末αと、平均粒径6〜20μmの水酸化アルミニウム粉末βを、α/(α+β)=0.1〜0.9の割合で混合し、混合後の平均粒径が1〜15μmとなる水酸化アルミニウム粉末混合物:20〜95質量%、(B)R^1_aSiO_(4-a)/2 (1)〔R^1は炭素数1〜18の飽和又は不飽和の一価炭水素基、1.8≦a≦2.2〕で表される25℃の動粘度が10〜500,000mm^2/sのオルガノポリシロキサン:5〜30質量%、(C)平均粒径0.5〜100μmのアルミニウム粉末、酸化亜鉛粉末、アルミナ粉末、ホウ素粉末及びアルミニウム粉末の中から選ばれる無機合物粉末:0〜60質量%。例文帳に追加

and having kinematic viscosity at 25°C of 10-500,000 mm^2/s: 5-30 mass%, and (C) an inorganic compound powder selected from an aluminum powder having an average particle diameter of 0.5-100 μm, a zinc oxide powder, an alumina powder, a boron nitride powder and an aluminum nitride powder: 0-60 mass%. - 特許庁

吸湿材108としては、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、珪素、アルミニウムホウ素、ゼオライト、アルカリ土類金属の酸化物、硫酸塩、または高吸水性ポリマーの粒子で形成される。例文帳に追加

The material 108 is formed of particles of fused silica, crystal silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, zeolite, oxide of alkali earth metal, sulfate, or highly water absorbing polymer. - 特許庁

導電性ダイヤモンド粒子1と炭珪素、酸化珪素、珪素、酸化アルミニウムアルミニウム、および樹脂のいずれか一種からなる絶縁保護相2とからなるダイヤモンド多結晶体を導電性ロウ材3によって導電性基板4の少なくとも一つの面に接合してダイヤモンド電極とする。例文帳に追加

A diamond polycrystal body composed of electrically conductive diamond particles 1 and an insulating protective phase 2 composed of any one kind selected from among silicon carbide, silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, aluminum nitride and resin is joined to at least one face of an electrically conductive substrate 4 with an electrically conductive brazing filler metal 3, so that a diamond electrode can be obtained. - 特許庁

多結晶シリコンTFT1を製造するにあたって、熱伝導率が2W/m・K以上の高熱伝導率材料、例えば、シリコン、アルミニウム酸化アルミニウム膜、酸化ベリリウム等で層間絶縁膜8を形成した後、層間絶縁膜8の表面から高強度の光を照射して多結晶シリコン膜4中の不純物を活性させる。例文帳に追加

When manufacturing a polycrystalline silicon TFT1, an interlayer insulating film 8 is formed of a high thermal conductivity material having a thermal conductivity of 2W/m×K or higher, such as silicon nitride, aluminum nitride, an aluminum oxide film, and a beryllium oxide; and then high-intensity light is applied from the surface of the interlayer insulating film 8 for activating impurities in a polycrystalline silicon film 4. - 特許庁

ラジアル玉軸受の外輪2の外周に成形したプーリ部6の樹脂材料に、強材と共に、アルミナ、アルミニウムホウ素、酸化ベリリウム、水酸化アルミニウム、マイカ、金属粉末、及び、カーボンブラックのうちの1種以上の熱伝導材を10%以上40%以下の範囲内で添加した。例文帳に追加

One or more kinds of heat conductive material among alumina, aluminum nitride, boron nitride, beryllium oxide, aluminum hydroxide, mica, metal powder and carbon black is added to the resin material of a pulley part 6, which is formed in the periphery of an outer wheel 2 of a radial ball bearing, within a range of 10-40% with the reinforcing material. - 特許庁

焼結助剤を含有しないアルミニウムを主成分とする成形体を非酸化雰囲気下で焼成して得られた焼結体の上面に、焼結助剤を含有するアルミニウムを主成分とする脱脂済みの成形体を接触させ、非酸化雰囲気下で少なくとも1回焼成した後、この焼結体の表面を研削する。例文帳に追加

A degreased compact consisting essentially of aluminum nitride containing a sintering aid is brought into contact with the upper surface of a sintered compact obtained by burning a compact consisting essentially of aluminum nitride containing no sintering aid, then is burned under a non-oxidizing atmosphere at least one time to obtain the sintered compact and the surface of the sintered compact is ground. - 特許庁

酸化物膜によって表面を覆ったアルミニウム質焼結体からなる加熱板に発熱抵抗体を形成した時の反りを防止するとともに、熱応力による酸化物膜の剥離や破損を防止し、アルミニウム質焼結体が露出しないようにして長期間にわたり安定して発熱させることが可能なセラミックヒーターを提供する。例文帳に追加

To provide a ceramic heater that prevents warping when an exothermic resistance body is formed on a heating plate made of an aluminum nitride sintered body of which surface is covered by an oxide membrane, and that can make exothermicity steadily for a long time by preventing separation and break of an oxide membrane caused by thermal stress and avoiding exposure of the aluminum nitride sintered body. - 特許庁

チタンを主成分とし、酸化ジルコニウムおよび酸化アルミニウムの少なくともいずれか1種と、硼素と、硼チタンとを含む装飾部品用セラミックスである。例文帳に追加

The ceramics for an ornamental piece include titanium nitride as a main component, at least either one of zirconium oxide and aluminum oxide, boron and titanium boride. - 特許庁

例文

難燃性付与用材料として、硝酸化合物粉末(含合物)10と、水酸化アルミニウム粉末(水系合物)39とを、基質となるべき高分子材料41中に配合・混練し、コンパウンド531を得る。例文帳に追加

A nitric acid compound powder (a nitrogen-containing compound) 10 and an aluminum hydroxide powder (an aqueous compound) 39 as the flame retardance-imparting materials are compounded and kneaded into a polymeric material 41 to be the substrate to obtain a compound 531. - 特許庁

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